JP6740029B2 - 光学走査装置およびその製造方法 - Google Patents

光学走査装置およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6740029B2
JP6740029B2 JP2016123107A JP2016123107A JP6740029B2 JP 6740029 B2 JP6740029 B2 JP 6740029B2 JP 2016123107 A JP2016123107 A JP 2016123107A JP 2016123107 A JP2016123107 A JP 2016123107A JP 6740029 B2 JP6740029 B2 JP 6740029B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical
sensor
light beam
scanned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016123107A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017227739A (ja
Inventor
潤 永利
潤 永利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2016123107A priority Critical patent/JP6740029B2/ja
Publication of JP2017227739A publication Critical patent/JP2017227739A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6740029B2 publication Critical patent/JP6740029B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)

Description

本発明は、プリンタ、複写機、ファクシミリ装置等の画像形成装置に設けられる光学走査装置およびその製造方法に関するものである。
画像形成装置では、感光ドラムの表面に所望の画像の静電潜像を形成し、この静電潜像に現像剤を供給してトナー像として現像し、このトナー像を記録材に転写することで記録材への画像の形成が実行される。感光ドラムの表面に所望の静電潜像を形成するには、一様に帯電された感光ドラムの表面に画像情報に応じたレーザ光を走査しつつ照射する光学走査装置が用いられる。
光学走査装置は、画像信号に応じて光源から出射したレーザ光束を光変調し、光変調されたレーザ光束を例えば回転多面鏡からなる光偏向器で偏向走査している。偏向走査されたレーザ光束は、感光ドラムの表面上の走査開始位置のタイミングを制御するために、BD(Beam Detect)センサ(書き出し位置同期信号検出手段)に導かれる。
次に、例えば、fθ特性を有する結像光学系等の走査レンズによって、感光ドラムの表面上にスポット状に結像された状態で走査して画像記録を行っている。ここで、fθ特性を有する走査レンズは、レーザ光が角度θで入ってくると、該走査レンズの焦点距離fを掛け合わせた大きさ(f×θ)の像を結ぶようなレンズ特性(fθ特性)を有するものである。BDセンサで信号が検出されると、その所定時間後に画像の書き出しを行うようになっている(例えば、特許文献1参照)。
特開2015−108684号公報
しかしながら、光学走査装置のハウジング等に反射したレーザ光束(迷光)がBDセンサに入射する。これにより書き出し位置同期信号検出タイミング(BD(Beam Detect)検出タイミング)にずれが生じてしまうことがあった。BDセンサの受光面に入力される光量の検出タイミングにずれが生じると、感光ドラムの表面上の各走査ラインの書き出しタイミングにずれが生じ、結果として主走査方向に画像の歪みが発生するという問題がある。
本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、迷光が検出手段に入射されない光学走査装置を提供するものである。
前記目的を達成するための本発明に係る光学走査装置の代表的な構成は、光源と、前記光源からの光束を偏向走査する光偏向器と、前記光偏向器で偏向走査された光束を感光体上に結像させる結像手段と、前記感光体上での前記光束の書き出し開始位置を決定するために、前記光偏向器で偏向走査された光束を検出する検出手段と、前記光偏向器が収容される光学箱と、を備えた光学走査装置であって、前記光学箱は、光束入口側開口と前記光束入口側開口よりも小さい光束出口側開口とを備えると共に前記検出手段に対向して設けられる貫通穴と、前記光束入口側開口と前記光束出口側開口との間に設けられる前記貫通穴の側壁と、を有し、前記光学箱のうち、前記光偏向器により偏向走査された光束が走査する前記側壁における前記貫通穴を通過して前記検出手段の受光面に入射する光束と略平行な面が粗面化されている、ことを特徴とする。
本発明によれば、迷光が検出手段に入射されない。
本発明に係る光学走査装置の構成を示す斜視説明図である。 BDセンサの近傍の構成を示す図1の部分拡大図である。 レーザ光束がBDセンサの受光面に入射する瞬間を示した図2の部分拡大図である。 BDセンサの受光面への入力光量がピークに達する時刻を画像の書き出しタイミングの基準とした一例を示す図である。 比較例1としてBDセンサの受光面への入力光量が次第に増加して閾値に到達する時刻を画像の書き出しタイミングの基準とした一例を示す図である。 感光ドラムの表面上の各走査ラインのうちで第1走査番目から第4走査番目までのBDセンサの受光面に入力される光量が閾値を越えたときの検出タイミングと、画像の書き出しタイミングとの関係を示す図である。 面取り部の表面が粗面化されていない平滑面からなる比較例においてレーザ光束がBDセンサの受光面に入射する瞬間を示した図2の部分拡大図である。 比較例2においてレーザ光束がBDセンサの受光面上を走査されるときに粗面化されていない平滑面からなる面取り部の表面で反射した反射光を含んでBDセンサの受光面に入射された結果、該BDセンサに入力される光量を示すグラフである。 図2とは別の方向から見たBDセンサの近傍の構成を示す図1の部分拡大図である。 比較例3においてレーザ光束がBDセンサの受光面上を通過して粗面化されていない平滑面からなる内壁の表面で反射した反射光を含んでBDセンサの受光面に入射された結果、該BDセンサに入力される光量を示すグラフである。 矢印X方向に走査しているレーザ光束がBDセンサの受光面上を通過した直後のBDセンサの近傍の構成を示す図1の部分拡大図である。 蓋を光学箱に組み付けた様子を示す斜視説明図である。 蓋を光学箱に組み付けた状態で蓋の一部を切り欠いてレーザ光束と、蓋の天面の内側に設けたリブとを見せた斜視説明図である。
図により本発明に係る光学走査装置の一実施形態を具体的に説明する。図1は、本発明に係る光学走査装置の構成を示す斜視説明図である。図2は、BDセンサの近傍の構成を示す図1の部分拡大図である。
<光学走査装置>
図1及び図2に示す光学走査装置101は、レーザビームプリンタ(LBP)やデジタル複写機、デジタルファクシミリ装置等の画像形成装置において、レーザ光を使用して像担持体となる感光ドラム8の表面に光書き込みを行う。
図1において、1はレーザ光束Lを出射する光源となる半導体レーザユニットである。2はコリメータレンズとシリンドリカルレンズとを一体的に成形したアナモフィックコリメータレンズである。ここで、コリメータレンズは、半導体レーザユニット1から出射されたレーザ光束Lを平行光に偏光する。シリンドリカルレンズは、半導体レーザユニット1から出射されたレーザ光束Lを副走査方向にのみ集光する。半導体レーザユニット1から出射されたレーザ光束Lは、アナモフィックコリメータレンズ2によって主走査方向(感光ドラム8の軸方向)では略平行光または収束光とされる。そして、主走査方向と直交する副走査方向(感光ドラム8の周方向、記録材の搬送方向)では収束光とされる。
3は、貫通穴からなる開口絞り、4は回転多面鏡、12は回転多面鏡4の反射面である。5は、回転多面鏡4を図示しない駆動源となるモータにより回転駆動させて半導体レーザユニット1(光源)からのレーザ光束L(光束)を偏向走査する光偏向器である。6は、感光体となる感光ドラム8の表面上(感光体上)でのレーザ光束L(光束)の書き出し開始位置を決定するために、光偏向器5で偏向走査されたレーザ光束L(光束)を検出する検出手段となるBD(Beam Detect)センサである。
7は、光偏向器5で偏向走査されたレーザ光束L(光束)を感光ドラム8の表面上(感光体上)に結像させる結像手段となるfθレンズからなる走査レンズである。fθレンズは、レーザ光が角度θで入ってくると、該fθレンズの焦点距離fを掛け合わせた大きさ(f×θ)の像を結ぶようなレンズ特性(fθ特性)を有する。9は、光偏向器5を含む前記各光学部材を収容する光学箱である。光学箱9は、黒色樹脂からなり射出成型により形成されている。
半導体レーザユニット1から出射されたレーザ光束Lは、アナモフィックコリメータレンズ2によって主走査方向では略平行光または収束光とされ、副走査方向では収束光とされる。次に、レーザ光束Lは、開口絞り3を通って光束幅が制限されて、回転多面鏡4の反射面12上において主走査方向に長く伸びる焦線状に結像する。
回転多面鏡4の反射面12上に結像したレーザ光束Lは、該回転多面鏡4を回転させることによって偏向走査される。反射面12で反射したレーザ光束Lは、BDセンサ6に入射する。このとき、BDセンサ6で信号を検出し、このタイミングをBDセンサ6の受光面10に入力される光量の検出タイミングとする。
次に、レーザ光束Lは、走査レンズ7に入射する。fθレンズからなる走査レンズ7は、レーザ光束Lを感光ドラム8の表面上にスポットを形成するように集光し、且つ、スポットの走査速度が等速に保たれるように設計されている。このようなfθレンズの特性を得るために、走査レンズ7は非球面レンズで形成されている。走査レンズ7を通過したレーザ光束Lは、感光ドラム8の表面上に結像走査される。
回転多面鏡4の回転によってレーザ光束Lを偏向走査し、感光ドラム8の表面上でレーザ光束Lによる主走査が行われ、また、感光ドラム8がその円筒の軸線周りに回転駆動する。これにより副走査が行われる。これにより図示しない帯電手段により一様に帯電された感光ドラム8の表面に画像情報に応じた静電潜像が形成される。
図2において、6はBDセンサ、10はBDセンサ6の受光面、9は光学箱、13は光学箱9に設けられた貫通穴、14は貫通穴13の面取り部である。面取り部14の表面は、貫通穴13の軸方向に対して所定の傾斜角度を有して面取りされたものである。
回転多面鏡4の反射面12によって反射されたレーザ光束Lは、該回転多面鏡4の図13の矢印A方向の回転に伴って図2の矢印X方向に走査される。図2の矢印X方向に走査されたレーザ光束Lは、光学箱9に設けられた貫通穴13を通過してBDセンサ6の受光面10に入射する。
<画像の書き出しタイミングの決定>
ここで、BDセンサ6の受光面10に入射した光量から、どのように画像の書き出しタイミングが決定されるかについて説明する。図4は、BDセンサ6の受光面10への入力光量と、BDセンサ6の受光面10に入力される光量の検出タイミングと、画像の書き出しタイミングとの関係を示す図である。図2の矢印X方向に走査されたレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査されるときに該受光面10に入力される光量は図4のグラフaで示される。
図4に示すグラフaにおいて、図2の矢印X方向に走査されたレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査されると、BDセンサ6の受光面10への入力光量が次第に増加して時刻t0で閾値R1に到達する。その後、時刻t2(>t0)でBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する。その後、BDセンサ6の受光面10への入力光量が次第に減少して時刻t1(>t2)で閾値R1を下回る。
前記時刻t0から時刻t2までの時間と、時刻t2から時刻t1までの時間とは等しい。時刻t2から所定の時間T23が経過した時刻t3で、感光ドラム8の表面上の各走査ラインに対応するレーザ駆動信号を送り、感光ドラム8の表面上で走査を開始する。ここで、図4に示すように、画像の書き出しタイミングとして、BDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2を基準にしている理由について説明する。
<比較例1>
図5は、BDセンサ6の受光面10への入力光量が次第に増加して閾値R1に到達する時刻t0を画像の書き出しタイミングの基準としたものである。この場合、時刻t0から所定の時間T04が経過した時刻t4で、感光ドラム8の表面上の各走査ラインに対応するレーザ駆動信号を送り、感光ドラム8の表面上で走査を開始する。
比較例1として図5の破線で示すグラフbのように、BDセンサ6の受光面10に入力される光量が減少した場合は、BDセンサ6の受光面10への入力光量が次第に増加して時刻t5(t0<t5<t2)で閾値R1に到達する。このとき、グラフaにおいて、画像の書き出しタイミングの基準とした時刻t0と、光量が減少したグラフbにおいて、画像の書き出しタイミングの基準となる時刻t5(>t0)との間に時間差Δt1(=t5−t0)のずれが生じてしまう。
図5に示すグラフa,bで画像の書き出しタイミングの基準とした時刻t0,t5に時間差Δt1(=t5−t0)のずれが生じてしまう。すると、感光ドラム8の表面上の各走査ラインに対応するレーザ変調の開始タイミングにも同じ時間差Δt1(=t5−t0)のずれが生じる。その結果、感光ドラム8の表面上の主走査方向に印字位置のずれが発生する。
ここで、図5のグラフa,bに示すように、BDセンサ6の受光面10に入力される光量が変わってもそれぞれのグラフa,bにおいてBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPa,Pbに達する時刻t2は一定である。このため図4に示すように、BDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2を画像の書き出しタイミングの基準とすれば、画像の書き出しタイミングは、BDセンサ6の受光面10に入力される光量変化の影響を受けない。
図6は、本実施形態において、感光ドラム8の表面上の各走査ラインのうちで第1走査番目から第4走査番目までのBDセンサ6の受光面10に入力される光量が閾値R1を越えたときの検出タイミングと、画像の書き出しタイミングとの関係を示す図である。図6において、BDセンサ6の受光面10に入力される光量が閾値R1以上になったタイミングを画像の書き出しタイミングのトリガとする。
そして、感光ドラム8の表面上の各走査ラインのうち第n走査番目のBDセンサ6の出力信号幅Tpnの1/2の時間(Tpn/2)を考慮する。そして、図4に示すグラフaのBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2から時刻t3までの所定の時間T23を考慮する。
そして、前記第n走査番目のBDセンサ6の出力信号幅Tpnの1/2の時間(Tpn/2)に前記所定の時間T23を加算した時間(T23+Tpn/2)だけ時刻t0から待機する。そして、時刻t3(=t0+T23+Tpn/2)のタイミングでレーザ変調を開始する。これにより、あたかも図4に示すグラフaのBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2を基準として画像を書き出しているように画像書き出しのタイミングを決定する。
<粗面化>
図3は、レーザ光束LがBDセンサ6の受光面10に入射する瞬間を示した図2の部分拡大図である。図3において、6はBDセンサ、10はBDセンサ6の受光面、13は光学箱9に設けられた貫通穴、14は貫通穴13の面取り部である。
本実施形態では、光学箱9のうち、光偏向器5により偏向走査されたレーザ光束L(光束)が図2の矢印X方向に走査する領域の一例としてBDセンサ6(検出手段)の受光面10に対向して該光学箱9に設けられた貫通穴13の側壁を考慮する。該貫通穴13の側壁のうち、光偏向器5により偏向走査されたレーザ光束L(光束)が該BDセンサ6(検出手段)の受光面10に入射する前に通過する図3に示す面取り部14(側壁)の表面がシワ模様(シボ)を付けるシボ加工によって粗面化されている。
これにより面取り部14の表面に入射されたレーザ光束Lは、大部分は黒色の光学箱9に吸収され、面取り部14の表面で反射した反射光M1は、シボ加工によって粗面化された表面のシワ模様(シボ)により様々な方向に拡散される。
<製造方法>
尚、本実施形態では、面取り部14の表面の粗面化を表面にシワ模様(シボ)を付けるシボ加工により行った一例である。他に、面取り部14の表面を連続的に半球状にへこませるディンプル加工や面取り部14の表面を浮き上がらせて凹凸形状としたエンボス(Emboss)加工のうちの少なくとも一つの加工方法により面取り部14の表面を粗面化することでも良い。
本実施形態では、図1に示すように、半導体レーザユニット1(光源)から光偏向器5に入射するレーザ光束L(光束)が通過する第一の光路L1を考慮する。更に、該光偏向器5により偏向され、走査レンズ7(結像手段)を通過して感光ドラム8の表面上(感光体上)に結像を開始するレーザ光束L(光束)が通過する第二の光路L2を考慮する。そして、図1に示す第一の光路L1と、第二の光路L2とに挟まれた領域Rにおいて図2の矢印X方向に走査されるレーザ光束L(光束)により照射され得る光学箱9の各部材表面を粗面化する。尚、本実施形態では、光偏向器5により偏向走査されたレーザ光束L(光束)は、光学要素を介さずに直接、BDセンサ6(検出手段)の受光面10に入射する。
<比較例2>
図7は、面取り部14の表面を粗面化されていない平滑面からなる比較例2においてレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10に入射する瞬間を示した図2の部分拡大図である。図7に示すように、面取り部14の表面に入射されたレーザ光束Lは、大部分は黒色の光学箱9に吸収される。しかし、比較例2のように粗面化されていない平滑面からなる面取り部14の表面で反射した反射光M2は、図3に示す反射光M1のように様々な方向に拡散されることはない。比較例2では、粗面化されていない平滑面からなる面取り部14の表面で一定の反射角度で反射してBDセンサ6の受光面10に入射してしまう。
図7に示す面取り部14の表面を粗面化されていない平滑面からなる比較例2においてレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査される。そのときに粗面化されていない平滑面からなる面取り部14の表面で反射した反射光M2を含んでレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10に入射される。図8の破線で示すグラフcは、比較例2において該BDセンサ6の受光面10に入力される光量を示す。
図8に実線で示すグラフaは、面取り部14の表面が粗面化されている場合にレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査されるときに該受光面10に入力される光量を示す。図8の破線で示すグラフcは、面取り部14の表面が粗面化されていない平滑面からなる場合にレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査されるときに該受光面10に入力される光量を示す。
図7に示す比較例2のように、面取り部14の表面が粗面化されていない平滑面からなる場合は、面取り部14の表面に入射されたレーザ光束Lの反射光M2がBDセンサ6の受光面10に入射する。このため黒色の光学箱9であっても反射光M2の微量の光量がBDセンサ6の受光面10に入射し、本来の光量よりも多くの光がBDセンサ6の受光面10に入る。このため図8のグラフcで示すように、該受光面10への入力光量が閾値R1に到達するタイミングがグラフaの時刻t0のタイミングよりも時間差Δt2だけ早い時刻t6となる。
図7に示すように、貫通穴13の周縁に設けられた面取り部14は、図2の矢印X方向上流側だけに設けられ、図2の矢印X方向下流側には、図9に示すように貫通穴13の軸方向に平行に形成された内壁17が設けられている。内壁17の表面も図2に示す面取り部14の表面と同様にシボ加工によって粗面化が施されている。
図9の矢印X方向に走査されたレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査されて該受光面10を図9の矢印X方向に通過する。その後、レーザ光束Lは、内壁17の表面に入射されるものの大部分は黒色の光学箱9で吸収される。該内壁17の表面で反射された少量の反射光もシボ加工によって粗面化された表面のシワ模様(シボ)により様々な方向に拡散される。このため内壁17の表面で反射された反射光が書き出しタイミングに与える影響はほとんど無視できるレベルになる。
このため図8のグラフcで示すように、BDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPcに達する時刻t7よりも左側のみに破線で示すグラフcが現れ、該時刻t7よりも右側では、実線で示すグラフaと略重なる。
図8に示すグラフcでは、BDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPcに達する時刻t7が画像書き出しタイミングの基準となる。一方、グラフaでは、BDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2が画像書き出しタイミングの基準となる。
ここで、図8に示すグラフaで示すBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2(中間のタイミングt2)は、以下の数1式で表わされる。
[数1]
t2=t0+Tp/2
例えば、t0がΔt2だけ早くなる(図8の横軸上のt6)と、中間のタイミングt7は、以下の数2式で表わされる。
[数2]
t7=(t0−Δt2)+(Tp+Δt2)/2
=t0+Tp/2−Δt2/2
前記数1式及び数2式からt7とt2との時間差は、以下の数3式に示す通りである。
[数3]
t7−t2=−Δt2/2
前記数3式から図8のグラフcで示す比較例2のBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPcに達する時刻t7は以下の通りである。図8のグラフaで示す本実施形態のBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2よりも時間差Δt2/2だけ早くなってしまう。
図3に示すように、面取り部14の表面が粗面化されている場合は、レーザ光束Lが該面取り部14の粗面化された表面で反射した反射光M1が拡散される。このため、もともと微量の光量が更に低減され、書き出しタイミングへの影響はほとんど無視できるレベルになる。
図9は、図2とは別の方向から見たBDセンサ6の近傍の構成を示す図1の部分拡大図である。図9に示す光学箱9に設けられた貫通穴13の内壁17の表面も図2に示す面取り部14の表面と同様にシボ加工によって粗面化が施されている。図2に示す面取り部14の表面は、貫通穴13の軸方向に対して所定の傾斜角度を有して面取りされたものであるが、図9に示す内壁17の表面は、貫通穴13の軸方向に平行に形成されている。
粗面化された領域となる図9に示す内壁17の表面は、BDセンサ6(検出手段)の受光面10に対して光学箱9に設けられた貫通穴13の側壁である。そして、該側壁のうち、光偏向器5により図2の矢印X方向に偏向走査されたレーザ光束L(光束)が、BDセンサ6(検出手段)の受光面10に入射した後に通過する側壁である。
図9の矢印X方向に走査されたレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査されて該受光面10を図9の矢印X方向に通過する。その後、レーザ光束Lは、内壁17の表面に入射されるものの大部分は黒色の光学箱9で吸収される。該内壁17の表面で反射された少量の反射光もシボ加工によって粗面化された表面のシワ模様(シボ)により様々な方向に拡散される。このため内壁17の表面で反射された反射光が書き出しタイミングに与える影響はほとんど無視できるレベルになる。
<比較例3>
比較例3においてレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を通過して粗面化されていない平滑面からなる内壁17の表面で反射した反射光を含んでBDセンサ6の受光面10に入射される。図10の破線で示すグラフdは、平滑面からなる内壁17の表面で反射した反射光を含むレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10に入力される光量を示す。
図9の矢印X方向に走査されたレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を走査されて該受光面10を図9の矢印X方向に通過して内壁17の表面に入射される。図10の比較例3のグラフdで示すように、内壁17の表面が粗面化されていない平滑面からなる場合は、内壁17の表面に入射されたレーザ光束Lの大部分は、黒色の光学箱9で吸収される。一方、微量ではあるが、該内壁17の平滑面からなる表面で反射された反射光は拡散されずにBDセンサ6の受光面10に入射する。図9の矢印X方向に走査されたレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10を通過するタイミングで、図10のグラフaで示すBDセンサ6の受光面10への入力光量よりも多くの光がBDセンサ6の受光面10に入る。
これにより図10のグラフdで示す比較例3では、BDセンサ6の受光面10への入力光量が増加してピークPdに到達する。その後、時刻t8(>t1)で閾値R1を下回る。一方、図10のグラフaのBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに到達した後、時刻t1(<t8)で閾値R1を下回る。このとき図10のグラフdで示す比較例3が閾値R1を下回る時刻t8は、グラフaで示す本実施形態が閾値R1を下回る時刻t1よりも時間差Δt3(=t8−t1)だけ遅くなる。
一方、面取り部14の表面は粗面化されている。これにより図10のグラフdで示す比較例3のように、BDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPdに達する時刻t9よりも右側のみに破線で示すグラフdが現れる。そして、該時刻t9よりも左側では、実線で示すグラフaと略重なる。
図10のグラフdで示す比較例3では、BDセンサ6の受光面10への入力光量が時刻t9でピークPdに到達する。一方、グラフaで示す本実施形態のBDセンサ6の受光面10への入力光量が時刻t2でピークPaに到達する。前記時刻t9は、前記時刻t2よりも時間差Δt3/2だけ遅れてしまう。
前述したと同様に、t0がΔt3だけ遅くなる(図8の横軸上の時刻t8)と、中間のタイミングt9は、以下の数4式で表わされる。
[数4]
t9=(t0+Δt3)+(Tp−Δt3)/2
=t0+Tp/2+Δt3/2
前記数1式及び数4式からt9とt2との時間差は、以下の数5式に示す通りである。
[数5]
t9−t2=Δt3/2
前記数5式から時刻t9は、グラフaで示す本実施形態のBDセンサ6の受光面10への入力光量がピークPaに達する時刻t2よりも時間差Δt3/2だけ遅くなってしまう。
図10のグラフdで示す比較例3の時刻t9と、グラフaで示す本実施形態の時刻t2は、前述したように、画像書き出しタイミングの基準とされる。内壁17の表面が粗面化されている場合は、内壁17の表面に反射した反射光が拡散される。このため、もともと微量の光量が更に低減され、書き出しタイミングへの影響はほとんど無視できるレベルになる。
図11は、図11の矢印X方向へ走査しているレーザ光束LがBDセンサ6の受光面10上を通過した直後のBDセンサ6の近傍の構成を示す図1の部分拡大図である。図11において、6はBDセンサ、10はBDセンサ6の受光面、7はfθレンズからなる走査レンズ、9は光学箱、18は光学箱9と一体化した走査レンズ7の固定部である。走査レンズ7の固定部18には、レーザ光束LがBDセンサ6の受光面10へ入射することを妨げないように切り欠き部15が設けられている。切り欠き部15の一部に設けられた斜面16の表面は、シボ加工によって粗面化されている。
粗面化された領域となる斜面16の表面は、光学箱9に設けられ、走査レンズ7(結像手段)を固定する固定部18に設けられた切り欠き部15の一部表面である。図11の矢印X方向へ走査しているレーザ光束Lは、BDセンサ6の受光面10を完全に通過する前に固定部18の斜面16に入射される。固定部18の斜面16に入射されたレーザ光束Lの大部分は黒色の光学箱9の一部である斜面16で吸収され、シボ加工によって粗面化された斜面16で反射する少量の反射光も拡散される。このため斜面16で反射する反射光が書き出しタイミングに与える影響は問題とならないレベルとなる。
<蓋>
図12は、蓋20を光学箱9に組み付けた様子を示す斜視説明図である。図12に示すように、光学箱9の開口を覆う蓋20の天面の内側には、該蓋20の剛性を向上するためにリブ21,22が設けられている。蓋20の長辺の側板にそれぞれ設けられた係合片20aの貫通穴20b内に光学箱9の長辺の側板にそれぞれ突出して設けられた係合突起9aを嵌入することで蓋20が光学箱9に取り付けられる。
図1に示す光偏向器5が回転多面鏡4を回転させた際に発生する振動は、光学箱9を介して蓋20に伝播し、該蓋20の振動により振動音を発生させる。蓋20の天面の内側にリブ21,22を設けることにより蓋20の変形を減少させ、蓋20の振動により発生する振動音を低減させている。
図13は、蓋20を光学箱9に組み付けた状態で、該蓋20の一部を切り欠いてレーザ光束Lと、蓋20の天面の内側に設けたリブ21とを見せた斜視説明図である。図13の矢印A方向に回転する回転多面鏡4の反射面12で反射されたレーザ光束Lは、BDセンサ6の受光面10に入射する。
蓋20の天面の内側に垂下するリブ21の表面23(部材表面)は、レーザ光束LがBDセンサ6の受光面10に入射する光路を確保するために、該BDセンサ6(検出手段)の受光面10に入射するレーザ光束L(光束)の光路と略平行に配置されている。本実施形態では、蓋20のうち、光偏向器5により図2の矢印X方向に偏向走査されたレーザ光束L(光束)が走査する領域が粗面化されている。そして、粗面化された領域の一例として、図13に示すリブ21の表面23(部材表面)がシボ加工によって粗面化が施されている。
粗面化された領域は、図1に示すように、半導体レーザユニット1(光源)から光偏向器5に入射するレーザ光束L(光束)が通過する第一の光路L1を考慮する。更に、該光偏向器5により偏向され、走査レンズ7(結像手段)を通過して感光ドラム8の表面上(感光体上)に結像を開始するレーザ光束L(光束)が通過する第二の光路L2を考慮する。そして、図1に示す第一の光路L1と、第二の光路L2とに挟まれた領域Rにおいて図2の矢印X方向に走査されるレーザ光束L(光束)により照射され得る蓋20の図13に示すリブ21の表面23を粗面化する。
BDセンサ6へ入射するレーザ光束Lと略平行に設けられているリブ21の表面23に図2の矢印X方向に走査されるレーザ光束Lが入射されると大部分は黒色の蓋20の一部であるリブ21の表面23で吸収される。リブ21の表面23で反射した少量の反射光もシボ加工によって粗面化された表面23のシワ模様(シボ)により様々な方向に拡散される。これによりリブ21の表面23で反射した反射光が書き出しタイミングに与える影響は問題とならないレベルとなる。
本実施形態では、BDセンサ6の受光面10の近傍にある光学箱9に設けられた貫通穴13の側壁となる面取り部14や内壁17の表面をそれぞれシボ加工、ディンプル加工、エンボス加工等により粗面化する。更に、光学箱9に設けられた走査レンズ7を固定する固定部18の切り欠き部15の斜面16の表面をシボ加工、ディンプル加工、エンボス加工等により粗面化する。更に、蓋20の天面の内側に垂下するリブ21の表面23をシボ加工、ディンプル加工、エンボス加工等により粗面化する。
これにより図2の矢印X方向に走査されるレーザ光束Lが照射され得る光学箱9や蓋20の各部材表面で反射する反射光を拡散することができる。これによりBDセンサ6の受光面10に迷光が入射されない。これによりBDセンサ6の受光面10に入射される入力光量が閾値R1に到達する検出タイミングのずれを低減させ、感光ドラム8の表面上の主走査方向の印字位置ずれが抑えられた高精細な画像を得ることができる。これにより感光ドラム8の表面上の主走査方向に画像の歪みが発生しない高精度な印字品質を得ることができる光学走査装置101を提供することができる。
L…レーザ光束(光束)
1…半導体レーザユニット(光源)
5…光偏向器
6…BDセンサ(検出手段)
7…走査レンズ(結像手段)
8…感光ドラム(感光体)
9…光学箱
101…光学走査装置

Claims (7)

  1. 光源と、
    前記光源からの光束を偏向走査する光偏向器と、
    前記光偏向器で偏向走査された光束を感光体上に結像させる結像手段と、
    前記感光体上での前記光束の書き出し開始位置を決定するために、前記光偏向器で偏向走査された光束を検出する検出手段と、
    前記光偏向器が収容される光学箱と、
    を備えた光学走査装置であって、
    前記光学箱は、
    光束入口側開口と前記光束入口側開口よりも小さい光束出口側開口とを備えると共に前記検出手段に対向して設けられる貫通穴と、前記光束入口側開口と前記光束出口側開口との間に設けられる前記貫通穴の側壁と、を有し、
    前記光学箱のうち、前記光偏向器により偏向走査された光束が走査する前記側壁における前記貫通穴を通過して前記検出手段の受光面に入射する光束と略平行な面が粗面化されている、
    ことを特徴とする光学走査装置。
  2. 前記粗面化された領域は、
    前記光源から前記光偏向器に入射する光束が通過する第一の光路と、
    前記光偏向器により偏向され、前記結像手段を通過して前記感光体上に結像を開始する光束が通過する第二の光路とに挟まれた領域であることを特徴とする請求項1に記載の光学走査装置。
  3. 前記粗面化された領域は、
    前記検出手段に対向して前記光学箱に設けられた貫通穴の側壁のうち、
    前記光偏向器により偏向走査された光束が、前記検出手段に入射する前に通過する側壁であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学走査装置。
  4. 前記粗面化された領域は、
    前記検出手段に対向して前記光学箱に設けられた貫通穴の側壁のうち、
    前記光偏向器により偏向走査された光束が、前記検出手段に入射した後に通過する側壁であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学走査装置。
  5. 前記粗面化された領域は、
    前記光学箱に設けられ、前記結像手段を固定する固定部の表面であること特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学走査装置。
  6. 前記光偏向器で偏向走査された光束が、光学要素を介さずに前記検出手段に入射すること特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の光学走査装置。
  7. 請求項1〜のいずれか1項に記載の光学走査装置の製造方法において、
    前記粗面化された領域は、
    シボ加工、ディンプル加工、エンボス加工のうちの少なくとも一つの加工方法により粗面化されていることを特徴とする光学走査装置の製造方法。
JP2016123107A 2016-06-22 2016-06-22 光学走査装置およびその製造方法 Active JP6740029B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016123107A JP6740029B2 (ja) 2016-06-22 2016-06-22 光学走査装置およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016123107A JP6740029B2 (ja) 2016-06-22 2016-06-22 光学走査装置およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017227739A JP2017227739A (ja) 2017-12-28
JP6740029B2 true JP6740029B2 (ja) 2020-08-12

Family

ID=60889196

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016123107A Active JP6740029B2 (ja) 2016-06-22 2016-06-22 光学走査装置およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6740029B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11194264B2 (en) * 2019-03-29 2021-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Optical scanning apparatus with offset beam detect sensor for scan line positioning in sub-scan direction and image forming apparatus with optical scanning apparatus
JP7355631B2 (ja) 2019-12-10 2023-10-03 シャープ株式会社 光走査装置及び画像形成装置
JP7426220B2 (ja) 2019-12-10 2024-02-01 シャープ株式会社 光走査装置及び画像形成装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH063609A (ja) * 1992-06-17 1994-01-14 Canon Inc 走査光学装置
JP2001091881A (ja) * 1999-09-27 2001-04-06 Canon Electronics Inc 走査光学装置
JP2003195207A (ja) * 2001-12-27 2003-07-09 Canon Inc レーザ光源装置及び走査光学装置及び画像形成装置
JP4307869B2 (ja) * 2003-03-14 2009-08-05 株式会社リコー 光書き込み装置及びこれを備えた画像形成装置
KR100611979B1 (ko) * 2004-04-28 2006-08-11 삼성전자주식회사 광주사장치 및 이를 채용한 화상형성장치
JP2012159528A (ja) * 2011-01-28 2012-08-23 Kyocera Document Solutions Inc 光走査装置及び画像形成装置
JP5089792B2 (ja) * 2011-05-30 2012-12-05 キヤノン株式会社 走査式光学装置
JP6203111B2 (ja) * 2014-04-24 2017-09-27 株式会社東芝 画像形成装置
JP2015215529A (ja) * 2014-05-13 2015-12-03 キヤノン株式会社 光偏向器、光学走査装置及び画像形成装置
JP2016109780A (ja) * 2014-12-03 2016-06-20 キヤノン株式会社 光学走査装置及び画像形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017227739A (ja) 2017-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6740029B2 (ja) 光学走査装置およびその製造方法
US7154640B2 (en) Multi-beam scanning apparatus and image forming apparatus using the same
JP2007047748A (ja) 光走査装置及び画像形成装置
JP4430143B2 (ja) 光学装置
US7468823B2 (en) Optical beam scanning device, image forming apparatus and lens
JP2006106735A (ja) 光走査装置
JP7426220B2 (ja) 光走査装置及び画像形成装置
JPH04328513A (ja) レーザビーム走査光学系
US8508813B2 (en) Optical scanner
JP4307869B2 (ja) 光書き込み装置及びこれを備えた画像形成装置
JP2021092661A (ja) 光走査装置及び画像形成装置
JP3693929B2 (ja) 光走査装置
US11385457B2 (en) Optical scanning device having rotating polygon mirror, and image forming apparatus including the same
JP4418775B2 (ja) マルチビーム走査装置及びそれを用いた画像形成装置
JP2010107561A (ja) 光ビーム走査装置および画像形成装置
JP2014191046A (ja) 光走査装置及び画像形成装置
JP2004014583A (ja) 半導体レーザ装置、光書き込み装置および画像形成装置
KR100754172B1 (ko) 난반사 방지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치
JP2017159538A (ja) 画像形成装置
JP5797589B2 (ja) 光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置
CN118226640A (zh) 光学扫描设备和图像形成装置
US20160239730A1 (en) Optical scanning apparatus
JP5370271B2 (ja) 光走査装置
JP6264252B2 (ja) 光走査装置およびこれを備える画像形成装置
JP2024148950A (ja) 光学走査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190611

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200407

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200623

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200722

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6740029

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151