JP7426220B2 - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、光走査装置及び複写機、複合機、プリンタ、ファクシミリ装置等の画像形成装置に関する。

光走査装置は、一般的に、光源（例えばレーザーダイオード素子）から出射されて偏向走査部材（例えば回転多面鏡）により所定の主走査方向に偏向走査された光ビームの主走査開始タイミングをとるために主走査が開始される前のタイミングで前記光ビームをビーム検知部で受光して前記主走査の開始前のタイミングを示すビーム検知信号を前記ビーム検知部から出力するようになっている。かかる光走査装置では、光源及びビーム検知部は、該光源の出射側及び該ビーム検知部の受光側が偏向走査部材にて偏向走査された光ビームを入射する主走査方向に長尺なｆθレンズの長手方向に向き、且つ、筐体のｆθレンズの長手方向における一方側に設けられるか（例えば特許文献１参照）、或いは、両側にそれぞれ設けられることが多い。

特開２０１７－２２７７３９号公報

このような光走査装置においては、無駄なスペース（例えば光源と偏向走査部材との間にスペース）ができ易く、筐体の大型化を招く。このため、筐体の小型化が望まれている。

そこで、本発明は、筐体の小型化を実現させることができる光走査装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。

前記課題を解決するために、本発明に係る光走査装置は、光源と、前記光源から出射されて偏向走査部材により所定の主走査方向に偏向走査された光ビームの主走査開始タイミングをとるためのビーム検知部とを備えた光走査装置であって、前記光源及び前記ビーム検知部は、該光源の出射側及び該ビーム検知部の受光側が前記主走査方向に長尺な単一のｆθレンズの光入射側を向き、且つ、前記主走査方向において、前記主走査方向の上流側に前記光源が、下流側に前記ビーム検知部が配設されており、前記ビーム検知部は、前記ｆθレンズの長手方向において前記ｆθレンズの長さの範囲に対応する領域内に配置されており、前記光源及び前記ビーム検知部は、前記主走査方向に沿って配置されており、当該光走査装置は、前記主走査方向に沿って設けられた単一の基板を備え、前記単一の基板には、前記光源及び前記ビーム検知部が設けられており、前記光源及び前記ビーム検知部は、当該光走査装置の筐体において前記偏向走査部材を間にした前記ｆθレンズとは反対側における壁面側に設けられており、前記単一の基板は、平板状の基板であり、前記光源の出射部及び前記ビーム検知部の受光部が前記筐体内に向くように、前記筐体において前記偏向走査部材を間にした前記ｆθレンズとは反対側の側板の外側に固定されており、前記偏向走査部材の回転軸線方向から視て、前記偏向走査部材に入射される前記光ビームと、前記ビーム検知部に入射される前記光ビームと、が、前記偏向走査部材で反射された後の集光されていない前記光ビームを集光する前記ｆθレンズと前記偏向走査部材との間で交差することを特徴とする。また、本発明に係る画像形成装置は、前記本発明に係る光走査装置を備えたことを特徴とする。

本発明によると、筐体の小型化を実現させることが可能となる。

本実施の形態に係る画像形成装置を正面から視た概略断面図である。 図１に示す画像形成装置における光走査装置の正面側を右上方から視た斜視図である。 図２に示す光走査装置の背面側を左上方から視た斜視図である。 図２に示す光走査装置における上蓋を取り外した状態を正面側の上方から視た斜視図である。 図４に示す光走査装置を示す平面図である。 光走査装置における下蓋を取り外した状態を示す分解斜視図である。 光走査装置における偏向走査ユニットの一例を示す斜視図である。 光走査装置における光学系の構成の一例を示す平面図である。 光走査装置における光学系の構成の一例を示す正面図である。 光走査装置における光学系の構成の他の例を示す平面図である。 第２実施形態に係る光走査装置における光源及びビーム検知部の位置関係の一例を示す平面図である。 第２実施形態に係る光走査装置における光源及びビーム検知部の位置関係の他の例を示す平面図である。 第３実施形態に係る光走査装置における光源及びビーム検知部の位置関係の一例を示す平面図である。 第３実施形態に係る光走査装置における光源及びビーム検知部の位置関係の一例を示す正面図である。

以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称及び機能も同じである。従って、それらについての詳細な説明は繰り返さない。

［画像形成装置］
図１は、本実施の形態に係る画像形成装置１００を正面から視た概略断面図である。図１において、符号Ｘは奥行方向を、符号Ｙは左右方向（幅方向）を、符号Ｚは上下方向（高さ方向）をそれぞれ表している。

本実施の形態に係る画像形成装置１００は、モノクロ画像形成装置である。画像形成装置１００は、画像読取装置１により読み取られた画像データ、又は、外部から伝達された画像データに応じて、画像形成処理を行う。なお、画像形成装置１００は、用紙Ｐに対して多色及び単色の画像を形成するカラー画像形成装置であってもよい。

画像形成装置１００は、原稿送り装置１０８と、画像形成装置本体１１０とを備えている。画像形成装置本体１１０には、画像形成部１０２と用紙搬送系１０３とが設けられている。

画像形成部１０２は、光走査装置２００（光走査ユニット）、現像ユニット２、静電潜像担持体として作用する感光体ドラム３、クリーニング部４、帯電装置５及び定着ユニット７を備えている。また、用紙搬送系１０３は、給紙トレイ８１、手差し給紙トレイ８２、排出ローラ３１及び排出トレイ１４を備えている。

画像形成装置本体１１０の上部には、原稿Ｇの画像を読み取るための画像読取装置１が設けられている。画像読取装置１は、原稿Ｇが載置される原稿載置台１０７を備えている。また、原稿載置台１０７の上側には原稿送り装置１０８が設けられている。画像形成装置１００では、画像読取装置１で読み取られた原稿Ｇの画像は、画像データとして画像形成装置本体１１０に送られ、用紙Ｐ上に画像が記録される。

画像形成装置本体１１０には用紙搬送路Ｓ１が設けられている。給紙トレイ８１又は手差し給紙トレイ８２は、用紙Ｐを用紙搬送路Ｓ１に供給する。用紙搬送路Ｓ１は、用紙Ｐを転写ローラ１０及び定着ユニット７を経て排出トレイ１４に導く。定着ユニット７は、用紙Ｐ上に形成されたトナー像を用紙Ｐに加熱定着する。用紙搬送路Ｓ１の近傍には、ピックアップローラ１１ａ，１１ｂ、搬送ローラ１２ａ、レジストローラ１３、転写ローラ１０、定着ユニット７におけるヒートローラ７１及び加圧ローラ７２、排出ローラ３１が配設されている。

画像形成装置１００では、給紙トレイ８１又は手差し給紙トレイ８２にて供給された用紙Ｐはレジストローラ１３まで搬送される。次に、用紙Ｐはレジストローラ１３により用紙Ｐと感光体ドラム３上のトナー像とを整合するタイミングで転写ローラ１０に搬送される。感光体ドラム３上のトナー像は転写ローラ１０により用紙Ｐ上に転写される。その後、用紙Ｐは定着ユニット７におけるヒートローラ７１及び加圧ローラ７２に通過し、搬送ローラ１２ａ及び排出ローラ３１を経て排出トレイ１４上に排出される。用紙Ｐの表面だけでなく、裏面に画像形成を行う場合は、用紙Ｐは排出ローラ３１から反転用紙搬送路Ｓ２へ逆方向に搬送される。用紙Ｐは反転搬送ローラ１２ｂ～１２ｂを経て用紙Ｐの表裏を反転してレジストローラ１３へ再度導かれる。そして、用紙Ｐは、表面と同様にして、裏面にトナー像が形成されて定着された後、排出トレイ１４へ向けて排出される。

［光走査装置］
図２は、図１に示す画像形成装置１００における光走査装置２００の正面側を右上方から視た斜視図である。図３は、図２に示す光走査装置２００の背面側を左上方から視た斜視図である。図４は、図２に示す光走査装置２００における上蓋２０２を取り外した状態を正面側の上方から視た斜視図である。図５は、図４に示す光走査装置２００を示す平面図である。図６は、光走査装置２００における下蓋２０４を取り外した状態を示す分解斜視図である。図７は、光走査装置２００における偏向走査ユニット２２０の一例を示す斜視図である。図８Ａ及び図８Ｂは、それぞれ、光走査装置２００における光学系の構成の一例を示す平面図及び正面図である。また、図９は、光走査装置２００における光学系の構成の他の例を示す平面図である。図２から図９及び後述する図１０から図１２Ｂにおいて、符号Ｘは主走査方向（ｆθレンズ２３１の長手方向）を、符号Ｙは主走査方向Ｘと偏向走査部材２２３の回転軸線方向（高さ方向Ｈ）との双方に直交する方向を、符号Ｈは偏向走査部材２２３の回転軸線方向（高さ方向）をそれぞれ表している。

光走査装置２００は、筐体２０１と、入射光学系２１０と、偏向走査ユニット２２０（偏向走査部）と、出射光学系２３０とを備えている。

入射光学系２１０は、光源２１１（レーザーダイオード素子）と、コリメータレンズ２１２と、アパーチャー部材２１３と、シリンドリカルレンズ２１４と、光源用反射ミラー２１５とを備えている。光源２１１は、光ビームＬ（レーザービーム）を出射する。コリメータレンズ２１２は、光源２１１からの光ビームＬを略平行光にしてアパーチャー部材２１３に照射する。アパーチャー部材２１３は、コリメータレンズ２１２からの光ビームＬを絞ってシリンドリカルレンズ２１４に照射する。シリンドリカルレンズ２１４は、アパーチャー部材２１３からの光ビームＬを副走査方向のみに収束して光源用反射ミラー２１５を介して偏向走査部材２２３（ポリゴンミラー）の反射面２２３ａに集光する。光源用反射ミラー２１５は、シリンドリカルレンズ２１４からの光ビームＬを偏向走査部材２２３（ポリゴンミラー）の反射面２２３ａに導く。

偏向走査ユニット２２０は、偏向走査基板２２１と、偏向走査モータ２２２（ポリゴンモータ）、偏向走査部材２２３〔回転多面鏡（ポリゴンミラー）〕とを備えている。偏向走査基板２２１は、複数の固定部材（ビス）ＳＣ～ＳＣにて下蓋２０４の平面（上面）側に固定されている。偏向走査基板２２１上には、偏向走査モータ２２２が設けられている。偏向走査モータ２２２の回転軸２２２ａには、偏向走査部材２２３が固定されている。偏向走査部材２２３は、光源用反射ミラー２１５からの光ビームＬを所定の主走査方向Ｘ１に偏向走査する。

出射光学系２３０は、ｆθレンズ２３１と、ビーム検知用反射ミラー２３２と、ビーム検知用レンズ２３３（集光レンズ）と、ビーム検知部２３４〔Ｂｅａｍ Ｄｅｔｅｃｔセンサ（ＢＤセンサ）〕とを備えている。

ｆθレンズ２３１は、主走査方向Ｘ１に長尺な形状とされている。ｆθレンズ２３１は、偏向走査部材２２３にて主走査方向Ｘ１（長手方向Ｗ）に偏向走査された光ビームＬを入射する。ビーム検知用反射ミラー２３２は、偏向走査部材２２３の反射面２２３ａにて偏向走査された光ビームＬをビーム検知用レンズ２３３に導く。

ところで、ビーム検知部２３４の検知精度を考慮すると、偏向走査部材２２３から被走査体（感光体ドラム３）までの第１光路長と、偏向走査部材２２３からビーム検知部２３４までの第２光路長とは等しくする或いは略等しくして感光体ドラム３で照射される光ビームＬのビーム径とビーム検知部２３４で照射される光ビームＬのビーム径とを等しくする或いは略等しくする必要がある。しかし、この例では、第１光路長が第２光路長よりも長くなっている。このため、ビーム検知用レンズ２３３を用いてビーム検知用反射ミラー２３２からの光ビームＬをビーム検知部２３４に集光する。これにより、第１光路長が第２光路長よりも長くなっていても感光体ドラム３での光ビームＬのビーム径とビーム検知部２３４での光ビームＬのビーム径とを等しくする或いは略等しくすることができる。ビーム検知用レンズ２３３は、光ビームＬのある程度の光軸のズレを許容することができる。

ビーム検知部２３４は、光ビームＬの主走査開始タイミング（画像書込開始タイミング）をとるために主走査が開始される前のタイミングで光ビームＬを受光して主走査の開始前のタイミングを示すビーム検知信号（ＢＤ信号）を出力する。ビーム検知部２３４は、同期検出素子として作用する光センサー（ＢＤセンサー）であり、本実施の形態では、ビーム検知部２３４からの出力信号を検知して得られた同期信号（ＢＤ信号）を用いて感光体ドラム３の表面上への画像記録の走査開始位置のタイミングを調整している。光走査装置２００は、基板２４０（光源及びビーム検知部用基板）をさらに備えている。基板２４０上には、光源２１１及びビーム検知部２３４が設けられている。

筐体２０１は、矩形状の底板２０１ａと、底板２０１ａを囲む４つの側板２０１ｂ～２０１ｅを有している。筐体２０１には、偏向走査ユニット２２０を覆う偏向走査室２０３（図４から図６参照）が設けられている。底板２０１ａの偏向走査室２０３部分には、開口２０３ａ（図６参照）が設けられている。開口２０３ａは、下蓋２０４により閉じられており、下蓋２０４は複数の固定部材（ビス）ＳＣ～ＳＣにて底板２０１ａの底面（下面）側に固定されている。下蓋２０４上には、偏向走査ユニット２２０が配設されており、下蓋２０４が底板２０１ａに固定されることで、偏向走査ユニット２２０が偏向走査室２０３内に収容される。

光源用反射ミラー２１５で反射された光ビームＬは、偏向走査室２０３に形成された第１窓部２０３ｂ（図５参照）を通じて偏向走査室２０３の内側に入射される。また、偏向走査部材２２３にて走査された光ビームＬは、第１窓部２０３ｂを通じて偏向走査室２０３の外側に出射される。第１窓部２０３ｂには、第１防塵ガラス板２３５（透明体）が設けられている。これにより、偏向走査室２０３内への埃等の不要物の進入を効果的に防止することができる。また、ｆθレンズ２３１を通過した光ビームＬは、筐体２０１のｆθレンズ２３１側の側板２０１ｅに形成された第２窓部２０１ｆを通じて筐体２０１の外側に出射される。第２窓部２０１ｆには、第２防塵ガラス板２３６（透明体）が設けられている。これにより、筐体２０１内への埃等の不要物の進入を効果的に防止することができる。

基板２４０は、平板状のプリント基板であって、光源２１１を駆動する回路を有している。基板２４０は、光源２１１の出射部及びビーム検知部２３４の受光部が筐体２０１内に向くように、筐体２０１のｆθレンズ２３１とは反対側の側板２０１ｄの外側に固定されている。光源２１１の出射部及びビーム検知部２３４の受光部は、側板２０１ｄに形成されたそれぞれの開口（図示せず）を通じて筐体２０１の内側に臨んでいる。これにより、光源２１１は、筐体２０１内のコリメータレンズ２１２に向けて出射部から光ビームＬを出射することができる。ビーム検知部２３４は、筐体２０１内のビーム検知用レンズ２３３からの光ビームＬを受光部で受光することができる。

また、偏向走査基板２２１は、平板状のプリント基板であって、偏向走査モータ２２２を駆動する回路を有している。偏向走査基板２２１上には偏向走査モータ２２２が固定され、偏向走査モータ２２２の回転軸２２２ａに偏向走査部材２２３の中心部が接続固定されている。偏向走査部材２２３は、偏向走査モータ２２２により回転駆動される。

次に、光源２１１からの光ビームＬが感光体ドラム３に入射するまでの光路について説明する。

光源２１１の光ビームＬは、コリメータレンズ２１２を透過して略平行光にされ、アパーチャー部材２１３で絞られて、シリンドリカルレンズ２１４を透過して、光源用反射ミラー２１５に入射して反射され、偏向走査部材２２３の反射面２２３ａに入射する。偏向走査部材２２３は、偏向走査モータ２２２により等角速度で所定の回転方向Ｒに回転されて、各反射面２２３ａで光ビームＬを逐次反射し、光ビームＬを主走査方向Ｘ１に繰り返し等角速度で偏向させる。ｆθレンズ２３１は、主走査方向Ｘ１及び副走査方向の何れにおいても光ビームＬを感光体ドラム３の表面で所定のビーム径となるように集光する。また、ｆθレンズ２３１は、偏向走査部材２２３により主走査方向Ｘ１に等角速度で偏向されている光ビームＬを感光体ドラム３上で等線速度に移動するように変換する。これにより、光ビームＬが感光体ドラム３の表面を主走査方向Ｘ１に繰り返し走査することができる。

また、ビーム検知部２３４は、感光体ドラム３の主走査（書き込み）が開始される直前に、ビーム検知用反射ミラー２３２で反射された光ビームＬを入射する。ビーム検知部２３４は、感光体ドラム３の表面の主走査が開始される直前のタイミングで光ビームＬを受光して、この主走査開始直前のタイミングを示すＢＤ信号を出力する。このＢＤ信号に応じてトナー像が形成される感光体ドラム３の主走査の開始タイミングが設定され、画像データに応じた光ビームＬの書き込みが開始される。そして、回転駆動されて帯電された感光体ドラム３の２次元表面（周面）が光ビームＬにより走査され、感光体ドラム３の表面にそれぞれの静電潜像が形成される。

ところで、第１防塵ガラス板２３５に入射する光ビームＬの入射角度は、直角に近い程、光透過性を向上させることができる。この点に関し、光ビームＬは、主走査方向Ｘ１に走査されることから、例えば、第１防塵ガラス板２３５がｆθレンズ２３１の長手方向Ｗに沿って設けられていると、次のような不都合がある。すなわち、第１防塵ガラス板２３５において偏向走査部材２２３による光ビームＬの走査開始位置から走査終了位置までの走査領域α（図８Ａ、図９参照）の外側にある光ビームＬ（偏向走査部材２２３からビーム検知部２３４に向かう光ビームＬ）は、第１防塵ガラス板２３５に対して傾斜が付き過ぎるため、光透過性が悪化する。

この点、本実施の形態では、第１防塵ガラス板２３５は、ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗに対してビーム検知部２３４側に向くように傾斜している。こうすることで、走査領域αでの光ビームＬの第１防塵ガラス板２３５に対する光透過性の悪化を回避することができるだけでなく、偏向走査部材２２３からビーム検知部２３４に向かう光ビームＬの第１防塵ガラス板２３５に対する光透過性の悪化を回避することができる。また、偏向走査基板２２１は、第１防塵ガラス板２３５と平行又は略平行に配設されている。

［本実施の形態について］
本実施の形態に係る光走査装置２００は、光源２１１から出射されて偏向走査部材２２３により主走査方向Ｘ１に偏向走査された光ビームＬの主走査開始タイミングをビーム検知部２３４により検知する。

次に、第１実施形態から第３実施形態について図８Ａから図１２Ｂを参照しながら以下に説明する。

（第１実施形態）
第１実施形態に係る光走査装置２００において、光源２１１及びビーム検知部２３４は、光源２１１の出射側（出射部）及びビーム検知部２３４の受光側（受光部）が偏向走査部材２２３にて偏向走査された光ビームＬを入射する主走査方向Ｘ１に長尺なｆθレンズ２３１の光入射側を向いている。また、図８Ａ及び図８Ｂに示す例では、光源２１１及びビーム検知部２３４は、ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗにおいて、主走査方向Ｘ１の上流側に光源２１１が、下流側にビーム検知部２３４が配設されている。図９に示す例では、光源２１１及びビーム検知部２３４は、ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗにおいて、主走査方向Ｘ１の上流側にビーム検知部２３４が、下流側に光源２１１が配設されている。こうすることで、無駄なスペース（特に光源２１１と偏向走査部材２２３との間のスペース）を小さくでき、これにより、筐体２０１の小型化を実現させることができる。

光源２１１及びビーム検知部２３４は、主走査方向Ｘ１に沿って配置されている。こうすることで、光源２１１及びビーム検知部２３４を主走査方向Ｘ１に列設することができ、それだけ、筐体２０１の小型化を実現させることができる。

図８Ａ及び図８Ｂに示す例では、偏向走査部材２２３の回転軸線方向（ｆθレンズ２３１の高さ方向Ｈ）から視て、偏向走査部材２２３に入射される光ビームＬ（Ｌ１）と、ビーム検知部２３４に入射される光ビームＬ（Ｌ２）とが交差する（図８Ａ参照）。こうすることで、無駄なスペースをさらに小さくでき、これにより、筐体２０１のさらなる小型化を実現させることができる。

（第２実施形態）
第１実施形態に係る光走査装置２００では、ビーム検知部２３４は、光ビームＬの主走査開始側に配設されている。こうすることで、ビーム検知部２３４は光ビームＬの主走査開始タイミングを確実に検知することができる。

ところで、ビーム検知部２３４は、光ビームＬの主走査開始側に配設されているが、ビーム検知部２３４は、光ビームＬの主走査終了側に配設されていてもよい。

図１０及び図１１は、それぞれ、第２実施形態に係る光走査装置２００における光源２１１及びビーム検知部２３４の位置関係の一例及び他の例を示す平面図である。

図１０に示す例では、光源２１１及びビーム検知部２３４は、ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗにおいて、主走査方向Ｘ１の上流側にビーム検知部２３４が、下流側に光源２１１が配設されている。図１１に示す例では、光源２１１及びビーム検知部２３４は、ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗにおいて、主走査方向Ｘ１の上流側に光源２１１が、下流側にビーム検知部２３４が配設されている。こうすることで、無駄なスペース（特に光源２１１と偏向走査部材２２３との間のスペース）を小さくでき、これにより、筐体２０１の小型化を実現させることができる。

ビーム検知部２３４は、光ビームＬの主走査終了側に配設されている。こうすることで、偏向走査部材２２３からの光ビームＬをビーム検知部２３４に入射させるためのビーム検知用反射ミラー２３２ａを光ビームＬの主走査開始側に追加する必要があるものの、光ビームＬの主走査終了側において、ビーム検知部２３４は光ビームＬの主走査開始タイミングを検知することができる。

図１０に示す例では、ｆθレンズ２３１の高さ方向Ｈから視て、偏向走査部材２２３に入射される光ビームＬ（Ｌ１）と、ビーム検知部２３４に入射される光ビームＬ（Ｌ２）とが交差する。こうすることで、無駄なスペースをさらに小さくでき、これにより、筐体２０１のさらなる小型化を実現させることができる。

（第３実施形態）
図１２Ａ及び図１２Ｂは、それぞれ、第３実施形態に係る光走査装置２００における光源２１１及びビーム検知部２３４の位置関係の一例を示す平面図及び正面図である。

図１２Ａ及び図１２Ｂに示す例では、光源２１１及びビーム検知部２３４は、ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗにおいて、同一位置に（高さ方向Ｈで光軸が揃うように）配設されている。こうすることで、ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗにおいて、光源２１１及びビーム検知部２３４を設けるスペースを可及的に小さくでき、これにより、筐体２０１のさらなる小型化を実現させることができる。

ビーム検知部２３４は、光ビームＬの主走査開始側に配設されている。こうすることで、ビーム検知部２３４は光ビームＬの主走査開始タイミングを確実に検知することができる。また、ｆθレンズ２３１の高さ方向Ｈから視て、偏向走査部材２２３に入射される光ビームＬ（Ｌ１）と、ビーム検知部２３４に入射される光ビームＬ（Ｌ２）とが交差する。なお、ビーム検知部２３４は、光ビームＬの主走査終了側に配設されていてもよい。ｆθレンズ２３１の高さ方向Ｈから視て、偏向走査部材２２３に入射される光ビームＬ（Ｌ１）と、ビーム検知部２３４に入射される光ビームＬ（Ｌ２）とが交差しないようにしてもよい。

（第１実施形態から第３実施形態について）
第１実施形態から第３実施形態において、光源用反射ミラー２１５は、主走査方向Ｘ１（ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗ）及び偏向走査部材２２３の回転軸線方向（高さ方向Ｈ）の双方に直交する直交方向Ｅにおいてｆθレンズ２３１よりも偏向走査部材２２３側に設けられて光源２１１から出射された光ビームＬを偏向走査部材２２３に向けて反射させる。こうすることで、光源２１１からの光ビームＬを光源用反射ミラー２１５によりｆθレンズ２３１とは反対側に折り返すことができ、それだけ筐体２０１のサイズを小さくすることができる。

第１実施形態から第３実施形態において、基板２４０は、主走査方向Ｘ１（ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗ）に沿って設けられた単一の基板である。基板２４０には、光源２１１及びビーム検知部２３４が設けられている。こうすることで、光源２１１及びビーム検知部２３４を単一の基板に集約でき、それだけ、筐体２０１の小型化を実現させることができる。

第１実施形態から第３実施形態において、光源２１１及びビーム検知部２３４は、光走査装置２００の筐体２０１において偏向走査部材２２３を間にしたｆθレンズ２３１とは反対側における壁面側（側板２０１ｄの外壁面に基板２４０を介して）に設けられている。こうすることで、筐体２０１内のスペースを有効に活用することができる。

第１実施形態から第３実施形態において、ビーム検知用反射ミラー２３２は、主走査方向Ｘ１及び偏向走査部材２２３の回転軸線方向（高さ方向Ｈ）の双方に直交する直交方向Ｅにおいてｆθレンズ２３１よりも偏向走査部材２２３側に設けられて偏向走査部材２２３からの光ビームＬをビーム検知部２３４に向けて反射させる。こうすることで、偏向走査部材２２３からの光ビームＬをビーム検知用反射ミラー２３２によりｆθレンズ２３１とは反対側に折り返すことができ、それだけ筐体２０１のサイズを小さくすることができる。

第１実施形態から第３実施形態において、ビーム検知用反射ミラー２３２は、主走査方向Ｘ１及び偏向走査部材２２３の回転軸線方向（高さ方向Ｈ）の双方に直交する直交方向Ｅにおいて光源用反射ミラー２１５よりもｆθレンズ２３１側に配設されている。こうすることで、光源用反射ミラー２１５とｆθレンズ２３１との間のスペースを有効利用することができる。

第１実施形態及び第２実施形態において、シリンドリカルレンズ２１４は、光源２１１と偏向走査部材２２３（この例では光源用反射ミラー２１５）との間の光ビームＬの光路上に設けられている。ビーム検知用レンズ２３３は、偏向走査部材２２３（この例ではビーム検知用反射ミラー２３２）とビーム検知部２３４との間の光ビームＬの光路上に設けられている。ｆθレンズ２３１の高さ方向Ｈから視て、主走査方向Ｘ１（ｆθレンズ２３１の長手方向Ｗ）及び偏向走査部材２２３の回転軸線方向（高さ方向Ｈ）の双方に直交する直交方向Ｅにおいてシリンドリカルレンズ２１４の配設位置とビーム検知用レンズ２３３の配設位置とが重なっている。こうすることで、シリンドリカルレンズ２１４及びビーム検知用レンズ２３３を直交方向Ｅにおける一箇所に集約することができ、それだけ筐体２０１のサイズを小さくすることができる。

本発明は、以上説明した実施の形態に限定されるものではなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、係る実施の形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。

１００ 画像形成装置
２００ 光走査装置
２０１ 筐体
２０１ａ 底板
２０１ｂ 側板
２０１ｄ 側板
２０１ｅ 側板
２０１ｆ 第２窓部
２０２ 上蓋
２０３ 偏向走査室
２０３ａ 開口
２０３ｂ 第１窓部
２０４ 下蓋
２１０ 入射光学系
２１１ 光源
２１２ コリメータレンズ
２１３ アパーチャー部材
２１４ シリンドリカルレンズ
２１５ 光源用反射ミラー
２２０ 偏向走査ユニット
２２１ 偏向走査基板
２２２ 偏向走査モータ
２２２ａ 回転軸
２２３ 偏向走査部材
２２３ａ 反射面
２３０ 出射光学系
２３１ ｆθレンズ
２３２ ビーム検知用反射ミラー
２３２ａ ビーム検知用反射ミラー
２３３ ビーム検知用レンズ
２３４ ビーム検知部
２３５ 第１防塵ガラス板
２３６ 第２防塵ガラス板
２４０ 基板
３ 感光体ドラム（被走査体）
Ｅ 直交方向
Ｈ 高さ方向
Ｌ 光ビーム
Ｒ 回転方向
Ｗ 長手方向
Ｘ１ 主走査方向
α 走査領域

Claims (9)

1. 光源と、前記光源から出射されて偏向走査部材により所定の主走査方向に偏向走査された光ビームの主走査開始タイミングをとるためのビーム検知部とを備えた光走査装置であって、
   前記光源及び前記ビーム検知部は、該光源の出射側及び該ビーム検知部の受光側が前記主走査方向に長尺な単一のｆθレンズの光入射側を向き、且つ、前記主走査方向において、前記主走査方向の上流側に前記光源が、下流側に前記ビーム検知部が配設されており、
   前記ビーム検知部は、前記ｆθレンズの長手方向において前記ｆθレンズの長さの範囲に対応する領域内に配置されており、
   前記光源及び前記ビーム検知部は、前記主走査方向に沿って配置されており、
   当該光走査装置は、前記主走査方向に沿って設けられた単一の基板を備え、
   前記単一の基板には、前記光源及び前記ビーム検知部が設けられており、
   前記光源及び前記ビーム検知部は、当該光走査装置の筐体において前記偏向走査部材を間にした前記ｆθレンズとは反対側における壁面側に設けられており、
   前記単一の基板は、平板状の基板であり、前記光源の出射部及び前記ビーム検知部の受光部が前記筐体内に向くように、前記筐体において前記偏向走査部材を間にした前記ｆθレンズとは反対側の側板の外側に固定されており、
   前記偏向走査部材の回転軸線方向から視て、前記偏向走査部材に入射される前記光ビームと、前記ビーム検知部に入射される前記光ビームと、が、前記偏向走査部材で反射された後の集光されていない前記光ビームを集光する前記ｆθレンズと前記偏向走査部材との間で交差することを特徴とする光走査装置。
2. 請求項１に記載の光走査装置であって、
   前記光源及び前記ビーム検知部は、前記光ビームの主走査開始側に配設されていることを特徴とする光走査装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の光走査装置であって、
   前記主走査方向及び前記偏向走査部材の回転軸線方向の双方に直交する直交方向において前記ｆθレンズよりも前記偏向走査部材側に設けられて前記光源から出射された前記光ビームを該偏向走査部材に向けて反射させる光源用反射ミラーを備えていることを特徴とする光走査装置。
4. 請求項１から請求項３までの何れか１つに記載の光走査装置であって、
   前記主走査方向及び前記偏向走査部材の回転軸線方向の双方に直交する直交方向において前記ｆθレンズよりも前記偏向走査部材側に設けられて前記偏向走査部材からの前記光ビームを前記ビーム検知部に向けて反射させるビーム検知用反射ミラーを備えていることを特徴とする光走査装置。
5. 請求項４に記載の光走査装置であって、
   前記主走査方向及び前記偏向走査部材の回転軸線方向の双方に直交する直交方向において前記ｆθレンズよりも前記偏向走査部材側に設けられて前記光源から出射された前記光ビームを該偏向走査部材に向けて反射させる光源用反射ミラーを備え、
   前記ビーム検知用反射ミラーは、前記直交方向において前記光源用反射ミラーよりも前記ｆθレンズ側に配設されていることを特徴とする光走査装置。
6. 請求項５に記載の光走査装置であって、
   前記ｆθレンズの長手方向において前記光源用反射ミラーと前記ビーム検知用反射ミラーとが重なることを特徴とする光走査装置。
7. 請求項１から請求項６までの何れか１つに記載の光走査装置であって、
   前記光源と前記偏向走査部材との間の前記光ビームの光路上に設けられたシリンドリカルレンズと、前記偏向走査部材と前記ビーム検知部との間の前記光ビームの光路上に設けられて前記光ビームを前記ビーム検知部に集光するビーム検知用レンズとを備え、
   前記ｆθレンズの高さ方向から視て、前記主走査方向及び前記偏向走査部材の回転軸線方向の双方に直交する直交方向において前記シリンドリカルレンズの配設位置と前記ビーム検知用レンズの配設位置とが重なることを特徴とする光走査装置。
8. 請求項７に記載の光走査装置であって、
   前記ｆθレンズの高さ方向から視て、前記直交方向において前記シリンドリカルレンズの配設位置と前記ビーム検知用レンズの配設位置と前記偏向走査部材の反射面における前記光ビームとの反射位置とが重なることを特徴とする光走査装置。
9. 請求項１から請求項８までの何れか１つに記載の光走査装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。

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