JP7289778B2 - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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図1は、本実施の形態に係る画像形成装置100を正面から視た概略断面図である。図1において、符号Xは奥行方向を、符号Yは左右方向(幅方向)を、符号Zは上下方向(高さ方向)をそれぞれ表している。
図2は、図1に示す画像形成装置100における光走査装置200の正面側を右上方から視た斜視図である。図3は、図2に示す光走査装置200の背面側を左上方から視た斜視図である。図4は、図2に示す光走査装置200における上蓋202を取り外した状態を正面側の上方から視た斜視図である。図5は、図4に示す光走査装置200を示す平面図である。図6は、光走査装置200における下蓋204を取り外した状態を示す分解斜視図である。図7A及び図7Bは、それぞれ、光走査装置200における偏向走査ユニット220の一例及び他の例を示す斜視図である。図8A及び図8Bは、それぞれ、光走査装置200において記録用紙(用紙P)の通常サイズ(A3サイズ)の仕様の光学系の構成の一例及び他の例を示す平面図である。図8C及び図8Dは、それぞれ、光走査装置200において記録用紙(用紙P)の特殊サイズ(SRA3サイズ)の仕様の光学系の構成の一例及び他の例を示す平面図である。図9は、図8Aから図8Dに示す光走査装置200における光学系の構成を一つの図にした平面図である。また、図10Aは、表面受光型のビーム検知構造を説明するための模式図であり、図10Bは、裏面受光型のビーム検知構造を説明するための模式図である。図2から図9において、符号Xは主走査方向(fθレンズ231の長手方向)を、符号Yは主走査方向Xと偏向走査部材223の回転軸線方向(高さ方向H)との双方に直交する方向を、符号Hは偏向走査部材223の回転軸線方向(高さ方向)をそれぞれ表している。
本実施の形態に係る光走査装置200は、光源211から出射されて偏向走査部材223により主走査方向X1に偏向走査された光ビームLの主走査開始タイミングをビーム検知部234により検知する。
本実施の形態において、集光レンズ233は、図11Aから図12Bに示すように、レンズ部233aと、レンズ部233aの外周に設けられた外枠部233bとを備えている。支持部250は、外枠部233bの外周面(233b1,233b2)を支持する外周面支持部251と、集光レンズ233の外枠部233bの外周面(233b1,233b2)と交差(直交)する側面(233b3,233b4)を支持する側面支持部252とを有している。
ところで、集光レンズ233の倒れを防止するためには支持部250の筐体201の底面201gからの高さをできるだけ高くすることが望ましい。一方、支持部250におけるレンズ部233aに対応する部分の筐体201の底面201gからの高さを高くし過ぎると、集光レンズ233に入射される光ビームLの光路を遮ってしまう。
本実施の形態において、第1走査領域α1(図8A、図8B及び図9参照)と第2走査領域α2(図8C、図8D及び図9参照)とで反射ミラー(232)の配置位置及びミラー配置角度θ(θ1,θ2)(図8Aから図8D参照)が変わるために、集光レンズ233への光ビームLの入射角度が変わる。
本実施の形態において、支持部250は、光ビームLの入射方向M1における互いに異なる複数の入射方向配置位置のうち、第1入射方向配置位置E1に配置された集光レンズ233と、第1入射方向配置位置E1とは異なる第2入射方向配置位置E2に配置された集光レンズ233とを共通に支持する共通支持部(251a,251b)を有している。
本実施の形態において、支持部250は、複数の入射方向配置位置のうち、第1入射方向配置位置(E1)に配置された集光レンズ233を支持する第3支持部(252a,252d)と、第1入射方向配置位置(E1)とは異なる第2入射方向配置位置(E2)に配置された集光レンズ233を第3支持部(252a,252d)とは異なる位置で支持する第4支持部(252b,252c)とを有している。
本実施の形態において、光走査装置200は、偏向走査部材223として、主走査方向X1における互いに異なるサイズの反射面223a~223aをそれぞれ有する複数種類の偏向走査部材223~223が交換可能とされている。
200 光走査装置
210 入射光学系
220 偏向走査ユニット
230 出射光学系
231 fθレンズ
232 ビーム検知用反射ミラー
233 集光レンズ
233a レンズ部
233b 外枠部
233b1 第1外周面(外周面)
233b2 第2外周面(外周面)
233b3 第1側面(側面)
233b4 第2側面(側面)
234 ビーム検知部
234a 受光部
235 第1防塵ガラス板
236 第2防塵ガラス板
240 基板
240a 表面
240b 裏面
240c 貫通孔
241 表面受光用基板
242 裏面受光用基板
250 支持部
250a 立設壁
251 外周面支持部
251a 第1外周面支持部(第1支持部、共通支持部)
251b 第2外周面支持部(第2支持部、共通支持部)
252 側面支持部
252a 第1側面支持部(第3支持部)
252b 第2側面支持部(第4支持部)
252c 第3側面支持部(第4支持部)
252d 第4側面支持部(第3支持部)
E1 第1入射方向配置位置
E2 第2入射方向配置位置
F1 第1直交方向配置位置
F2 第2直交方向配置位置
L 光ビーム
M1 入射方向
M2 直交方向
M3 立設方向
R 回転方向
W 長手方向
X1 主走査方向
d1 焦点距離
d2 焦点距離
α 走査領域
α1 第1走査領域
α2 第2走査領域
θ ミラー配置角度
φ レンズ配置角度
φ1 第1レンズ配置角度
φ2 第2レンズ配置角度
Claims (11)
- 光源から出射されて偏向走査部材により所定の主走査方向に偏向走査された光ビームを受光するビーム検知部と、前記偏向走査部材からの前記光ビームを前記ビーム検知部に向けて集光させる集光レンズとを備えた光走査装置であって、
前記集光レンズを互いに異なる複数の配置位置で配置可能に支持する支持部が設けられた筐体を備え、
前記支持部は、前記光ビームの前記集光レンズへの入射方向及び前記入射方向と直交する直交方向における互いに異なる複数の配置位置で前記集光レンズを配置可能に支持することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1に記載の光走査装置であって、
前記支持部は、前記光ビームの前記入射方向における互いに異なる複数の入射方向配置位置と、前記光ビームの前記直交方向における互いに異なる複数の直交方向配置位置とで前記集光レンズを配置可能に支持することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の光走査装置であって、
前記集光レンズは、レンズ部と、前記レンズ部の外周に設けられた外枠部とを備え、
前記支持部は、前記外枠部の外周面を支持する外周面支持部と、前記集光レンズの前記外枠部の前記外周面と交差する側面を支持する側面支持部とを有することを特徴とする光走査装置。 - 請求項3に記載の光走査装置であって、
前記支持部は、前記外周面支持部の前記筐体の底面からの高さが前記側面支持部における前記レンズ部に対応する部分の前記筐体の底面からの高さよりも高いことを特徴とする光走査装置。 - 請求項1から請求項4までの何れか1つに記載の光走査装置であって、
前記支持部は、前記光ビームの前記直交方向における互いに異なる複数の直交方向配置位置のうち、第1直交方向配置位置に配置された前記集光レンズを支持する第1支持部と、第1直交方向配置位置とは異なる第2直交方向配置位置に配置された前記集光レンズを前記第1支持部とは異なる位置で支持する第2支持部とを有することを特徴とする光走査装置。 - 請求項5に記載の光走査装置であって、
前記第1支持部で支持される前記集光レンズの第1レンズ配置角度と、前記第2支持部で支持される前記集光レンズの第1レンズ配置角度とは異なる第2レンズ配置角度とが異なることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1から請求項6までの何れか1つに記載の光走査装置であって、
前記支持部は、前記光ビームの前記入射方向における互いに異なる複数の入射方向配置位置のうち、第1入射方向配置位置に配置された前記集光レンズと、第1入射方向配置位置とは異なる第2入射方向配置位置に配置された前記集光レンズとを共通に支持する共通支持部を有することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1から請求項7までの何れか1つに記載の光走査装置であって、
前記光ビームが入射される入射方向における入射位置が互いに異なる複数種類の前記ビーム検知部を取り付け可能であることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1から請求項8までの何れか1つに記載の光走査装置であって、
前記支持部は、複数の入射方向配置位置のうち、第1入射方向配置位置に配置された前記集光レンズを支持する第3支持部と、第1入射方向配置位置とは異なる第2入射方向配置位置に配置された前記集光レンズを前記第3支持部とは異なる位置で支持する第4支持部とを有することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1から請求項8までの何れか1つに記載の光走査装置であって、
前記偏向走査部材として、前記主走査方向における互いに異なるサイズの反射面をそれぞれ有する複数種類の偏向走査部材が交換可能とされていることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1から請求項10までの何れか1つに記載の光走査装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
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