JP7018324B2 - 光走査装置及びそれを備えた画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、偏向走査したビームをビーム検知部で検知する光走査装置及びそれを備えた複写機、複合機、プリンタ装置、ファクシミリ装置等の画像形成装置に関する。

偏向走査したビームをビーム検知部で検知する光走査装置として、例えば、特許文献１に記載のものがある。

すなわち、特許文献１は、結像レンズ（ビーム検知用レンズ、例えばＢＤレンズ）を介して光偏向器で偏向された光束（ビーム）を同期検出素子としての光センサ（ビーム検知部、例えばＢＤセンサ）に導く構成を開示している。

ところで、光走査装置では、内部に埃が入ってレンズ系の部材に埃が付着すると、形成される画像に影響が出る。この場合、レンズ系の部材を清掃することで、不都合が解消される。ところが、ビーム検知部に入射されるビームが埃により遮られると、ビーム検知エラーとなって画像形成自体できないことがある。従って、ビーム検知部に入射されるビームが埃で遮られることを防止することが要求されている。

この点に関し、特許文献１に記載の構成では、ビーム検知部に入射されるビームが埃で遮られることを防止する構成にはなっていない。

特開２００４－３３３５５６号公報

そこで、本発明は、偏向走査したビームをビーム検知部で検知する光走査装置であって、ビーム検知部に入射されるビームが埃で遮られることを効果的に防止することができる光走査装置及びそれを備えた画像形成装置を提供することを目的とする。

前記課題を解決するために、本発明に係る光走査装置は、ビームを偏向走査する偏向器と、前記偏向器にて偏向走査されて被走査面に向かう前記ビームが通過するｆθレンズと、前記ビームの有効走査領域の範囲外に設けられたビーム検知用レンズと、前記ビーム検知用レンズからの前記ビームを前記有効走査領域の範囲外で検知するビーム検知部と、前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズの間を塞ぐ塞ぎ部材とを備えており、前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズは、前記ビームを偏向走査する走査方向と、前記走査方向及び前記偏向器の回転軸方向に直交する直交方向との双方において互いに重なる位置に配設されており、前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズで角部又は隙間が形成されており、前記塞ぎ部材は、前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズで形成される前記角部又は前記隙間を塞ぐことを特徴とする。

本発明によると、ビーム検知部に入射されるビームが埃で遮られることを効果的に防止することが可能となる。

本発明の実施の形態に係る光走査装置を備えた画像形成装置を正面から視た概略断面図である。 光走査装置及び被走査面を正面側の斜め上方から視た斜視図である。 光走査装置の第２筐体を取り外した状態を示す斜視図である。 図３に示す光走査装置を左側面側の斜め上方から視た斜視図である。 図３に示す光走査装置を正面側の斜め上方から視た斜視図である。 図５に示す塞ぎ部材部分を示す斜視図である。 光走査装置における塞ぎ部材部分を示す平面図である。 光源及びビーム検知部を搭載した基板部分を示す平面図である。 図８において基板を取り外した様子を示す平面図である。 光源及びビーム検知部を搭載した基板を取り外した第１筐体を示す背面図である。

以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照しながら説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称及び機能も同じである。従って、それらについての詳細な説明は繰り返さない。

［画像形成装置］
図１は、本発明の実施の形態に係る光走査装置２００を備えた画像形成装置１００を正面から視た概略断面図である。本実施の形態に係る画像形成装置１００は、モノクロ画像形成装置である。画像形成装置１００は、画像読取装置１により読み取られた画像データ、又は、外部から伝達された画像データに応じて、画像形成処理を行う。なお、画像形成装置１００は、用紙Ｐに対して多色及び単色の画像を形成するカラー画像形成装置であってもよい。

画像形成装置１００は、原稿送り装置１０８と、画像形成装置本体１１０とを備えている。画像形成装置本体１１０には、画像形成部１０２と用紙搬送系１０３とが設けられている。

画像形成部１０２は、光走査装置２００（具体的には光走査ユニット）、現像ユニット２、静電潜像担持体として作用する感光体ドラム３、クリーニング部４、帯電装置５及び定着ユニット７を備えている。これらの構成部材は、画像形成装置１００の本体フレーム１０１に支持されている。また、用紙搬送系１０３は、給紙トレイ８１、手差し給紙トレイ８２、排出ローラ３１及び排出トレイ１４を備えている。

画像形成装置本体１１０の上部には、原稿Ｇの画像を読み取るための画像読取装置１が設けられている。画像読取装置１は、原稿Ｇが載置される原稿載置台１０７を備えている。原稿載置台１０７は、透明の強化ガラスからなる四角形状ものとされている。また、原稿載置台１０７の上側には原稿送り装置１０８が設けられている。画像形成装置１００では、画像読取装置１で読み取られた原稿Ｇの画像は、画像データとして画像形成装置本体１１０に送られ、用紙Ｐ上に画像が記録される。

画像形成装置本体１１０には用紙搬送路Ｗ１が設けられている。給紙トレイ８１又は手差し給紙トレイ８２は、用紙Ｐを用紙搬送路Ｗ１に供給する。用紙搬送路Ｗ１は、用紙Ｐを転写ローラ１０及び定着ユニット７を経て排出トレイ１４に導く。定着ユニット７は、用紙Ｐ上に形成されたトナー像を用紙Ｐに加熱定着する。用紙搬送路Ｗ１の近傍には、ピックアップローラ１１ａ，１１ｂ、搬送ローラ１２ａ、レジストローラ１３、転写ローラ１０、定着ユニット７におけるヒートローラ７１及び加圧ローラ７２、排出ローラ３１が配設されている。

画像形成装置１００では、給紙トレイ８１又は手差し給紙トレイ８２にて供給された用紙Ｐはレジストローラ１３まで搬送される。次に、用紙Ｐはレジストローラ１３により用紙Ｐと感光体ドラム３上のトナー像とを整合するタイミングで転写ローラ１０に搬送される。感光体ドラム３上のトナー像は転写ローラ１０により用紙Ｐ上に転写される。その後、用紙Ｐは定着ユニット７におけるヒートローラ７１及び加圧ローラ７２に通過し、搬送ローラ１２ａ及び排出ローラ３１を経て排出トレイ１４上に排出される。用紙Ｐの表面だけでなく、裏面に画像形成を行う場合は、用紙Ｐは排出ローラ３１から反転用紙搬送路Ｗ２へ逆方向に搬送される。用紙Ｐは反転搬送ローラ１２ｂ～１２ｂを経て用紙Ｐの表裏を反転してレジストローラ１３へ再度導かれる。そして、用紙Ｐは、表面と同様にして、裏面にトナー像が形成されて定着された後、排出トレイ１４へ向けて排出される。

［光走査装置］
図２は、光走査装置２００及び被走査面Ｆを正面側の斜め上方から視た斜視図である。図３は、光走査装置２００の第２筐体２０２を取り外した状態を示す斜視図である。なお、図において、符号Ｘは主走査方向（この例では奥行方向）、符号Ｘ１，Ｘ２はそれぞれ一方側（背面側）、他方側（正面側）を表している。符号Ｙは主走査方向Ｘに直交する副走査方向（この例では上下方向、鉛直方向）を表している。符号Ｚは主走査方向Ｘ及び副走査方向Ｙの双方に直交する直交方向（この例正面から視て左右方向）、符号Ｚ１，Ｚ２はそれぞれ一方側（正面から視て右側）、他方側（正面から視て左側）を表している。

光走査装置２００は、入射光学系２２０と、偏向器２３０と、出射光学系２４０と、検知部２５０とを備えている。入射光学系２２０は、ビームＢＭの進行方向において偏向器２３０の上流側に配設されている。入射光学系２２０は、ビームＢＭを偏向器２３０に入射させる。偏向器２３０は、ビームＢＭを主走査方向Ｘに偏向走査する。出射光学系２４０は、ビームＢＭの光路上において偏向器２３０と被走査面Ｆ（この例では感光体ドラム３の表面）との間に配設されている。出射光学系２４０は、偏向器２３０にて偏向走査されたビームＢＭを被走査面Ｆ上に照射する。検知部２５０は、偏向器２３０にて偏向走査されたビームＢＭを検知する。入射光学系２２０、偏向器２３０、出射光学系２４０及び検知部２５０は、第１筐体２０１（筐体の一例）に収容されている。

光走査装置２００では、入射光学系２２０からのビームＢＭを偏向器２３０に入射させ、偏向器２３０にて主走査方向Ｘに偏向走査させ、検知部２５０にて検出しつつ出射光学系２４０を介して感光体ドラム３の表面の被走査面Ｆ上に画像情報を書き込む。なお、ビームＢＭは、被走査面Ｆを主走査方向Ｘに定期的に走査するが、感光体ドラム３は回転方向Ｂ（図２参照）に回転しているため、感光体ドラム３上の副走査方向Ｙにも走査することができる。

（入射光学系）
入射光学系２２０は、ビームＢＭを偏向器２３０の反射面２３１ａに照射する。入射光学系２２０は、光源部２１０と、コリメータレンズ２２１と、アパーチャ部材２２２と、シリンドリカルレンズ２２３とを備えている。

光源部２１０は、光源２１１を備えている。光源２１１は、ビームＢＭを出射するレーザダイオード等の半導体レーザ素子からなっている。光源２１１は、画像データに応じて変調されたビームＢＭを射出する。光源２１１は、光軸に垂直なビーム断面が円形状のビームＢＭを出射する。光源２１１は、基板２６０に搭載されている。

コリメータレンズ２２１は、光源２１１から出射されたビームＢＭを平行に整形する光学部品である。アパーチャ部材２２２は、主走査方向Ｘに長いスリット状の開口２２２ａが形成された板状部材である。アパーチャ部材２２２は、コリメータレンズ２２１からのビームＢＭが通過するときにビーム断面を矩形状に整形する光学部品である。シリンドリカルレンズ２２３は、アパーチャ部材２２２からのビームＢＭを偏向器２３０の反射面２３１ａに向けて収束させる光学部品である。

（偏向器）
偏向器２３０は、この例では、ポリゴンミラー２３１（回転多面鏡）と、ポリゴンミラー２３１を回転駆動する駆動モータ２３２とを備えている。ポリゴンミラー２３１は、駆動モータ２３２の回転軸２３２ａに固定されている。ポリゴンミラー２３１は、周囲に回転軸２３２ａに沿った複数の反射面２３１ａを有している。駆動モータ２３２は、一定の回転方向Ｅへ一定の回転速度で回転する。これにより、ポリゴンミラー２３１は、反射面２３１ａに入射したビームＢＭを主走査方向Ｘに偏向走査することができる。

（反射光学系）
出射光学系２４０は、主走査方向Ｘに繰り返し走査されるビームＢＭを被走査面Ｆ～Ｆ上に照射する。出射光学系２４０は、ｆθレンズ２４１を備えている。ｆθレンズ２４１は、偏向器２３０にて偏向走査されて被走査面Ｆに向かうビームＢＭが通過する。ｆθレンズ２４１は、主走査方向Ｘに長くされた棒状に形成されている。

ｆθレンズ２４１は、偏向器２３０の反射面２３１ａから出射されて等角速度で移動するビームＢＭが被走査面Ｆ上を等速度で移動するように補正する機能を有する。また、ｆθレンズ２４１は、ビームＢＭを被走査面Ｆ上に収束させる機能を有する。

（検知部）
検知部２５０は、ビーム検知用レンズ２５１と、ビーム検知部２５２（具体的には半導体光センサ）とを備えている。ビーム検知用レンズ２５１は、偏向器２３０の反射面２３１ａで反射されてｆθレンズ２４１を通過してくるビームＢＭをビーム検知部２５２に向けて屈曲させる機能を有する。また、ビーム検知用レンズ２５１は、ビームＢＭをビーム検知部２５２に集光する機能を有する。ビーム検知部２５２は、ビーム検知用レンズ２５１からのビームＢＭを有効走査領域αの範囲外で検知する。ビームＢＭの有効走査領域αは、ビームＢＭが被走査面Ｆに照射する領域であり、実際に画像形成するための画像形成幅として使用する走査範囲である。ビーム検知部２５２は、ビーム検知用レンズ２５１で集光されたビームＢＭを光電変換する。この例では、ビーム検知部２５２は、ビームＢＭの走査タイミング（具体的には被走査面Ｆへの画像の書き込みタイミング）を制御するためのビーム検出（ＢＤ：Ｂｅａｍ Ｄｅｔｅｃｔ）センサとされている。

詳しくは、検知部２５０は、被走査面Ｆへの有効走査領域αの範囲外に配設されている。ビーム検知用レンズ２５１は、有効走査領域αの範囲外でのビームＢＭの光路上に配設されている。ビーム検知部２５２は、ビーム検知用レンズ２５１からのビームＢＭを入射する。ビーム検知部２５２は、基板２６０に搭載されている。

（筐体）
第１筐体２０１には、偏向器２３０にて偏向走査されたビームＢＭを有効走査領域αで出射する開口２０１ａが設けられている。この例では、開口２０１ａは、外部に開放している。従って、光走査装置２００は、外部からの空気が開口２０１ａから内部に流通するようになっている。そうすると、光走査装置２００では、内部に埃が入り易い。そして、レンズ系の部材に埃が付着すると、形成される画像に影響が出易い。この場合、レンズ系の部材を清掃することで、不都合が解消される。ところが、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが埃により遮られると、ビーム検知エラーとなって画像形成自体できないことがある。従って、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが埃で遮られることを防止することが要求されている。

ところで、光走査装置２００内での空気の流れにより流される埃は角部（特に鋭角の角部）又は隙間に溜まり易い。そして、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが通過する領域において埃が溜まり易い箇所は、ｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１で形成される角部（特に鋭角の角部）又は隙間である。また、ビーム検知用レンズ２５１では迷光が発生することがある。この場合、ビーム検知用レンズ２５１での迷光が有効走査領域αへ侵入してしまう。そうすると、ビーム検知用レンズ２５１での迷光による画像に影響を及ぼす。

（第１実施形態）
かかる観点から、本実施の形態に係る光走査装置２００は、ｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１の間を塞ぐ塞ぎ部材２７０を備えている。塞ぎ部材２７０は、ｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１で形成される角部（この例では鋭角の角部）又は隙間を塞ぐ。

図４は、図３に示す光走査装置２００を左側面側の斜め上方から視た斜視図である。図５は、図３に示す光走査装置２００を正面側の斜め上方から視た斜視図である。図６は、図５に示す塞ぎ部材２７０部分を示す斜視図である。図７は、光走査装置２００における塞ぎ部材２７０部分を示す平面図である。

本実施の形態によれば、塞ぎ部材２７０は、ｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１の間を塞ぐ。従って、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが通過する領域の埃が溜まり易い角部又は隙間への埃溜まりを抑制することができる。これにより、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが埃で遮られることを効果的に防止することができる。しかも、塞ぎ部材２７０によりビーム検知用レンズ２５１での迷光の有効走査領域αへの侵入を抑制することができる。従って、ビーム検知用レンズ２５１での迷光による画像の影響を少なくすることができる。ここで、迷光に対する遮光性の観点から、塞ぎ部材２７０は、不透明又は光透過率が所定値よりも小さい材料で形成することができる。また、塞ぎ部材２７０は、光が反射しない又は光反射率が所定値よりも小さい材料で形成することができる。この例では、塞ぎ部材２７０は、黒色の材料で形成されている。

ところで、塞ぎ部材２７０がｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１の間でビームＢＭが通過するビーム通過領域βを遮ってしまうと、ビーム検知エラーとなって画像形成自体できない。一方、塞ぎ部材２７０が有効走査領域αを遮ってしまうと、形成される画像に影響を及ぼす。

この点、本実施の形態では、塞ぎ部材２７０は、ビーム通過領域βと、有効走査領域αとの間を仕切る仕切り部である。こうすることで、塞ぎ部材２７０がビーム通過領域β及び有効走査領域αを遮ることなく、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが通過する領域の埃が溜まり易い角部又は隙間への埃溜まりを抑制することができる。

本実施の形態では、塞ぎ部材２７０は、シート状の部材で構成されている。こうすることで、簡単かつ安価な構成でありながら、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが通過する領域の埃が溜まり易い角部又は隙間への埃溜まりを抑制することができる。この例では、塞ぎ部材２７０は、樹脂からなるシート状の部材（弾性樹脂フィルム）とされている。

本実施の形態では、ビーム検知用レンズ２５１は、平坦部２５１ａを有している。シート状の部材で構成された塞ぎ部材２７０は、ビーム検知用レンズ２５１における平坦部２５１ａに設けられ（具体的には接着され）ている。こうすることで、塞ぎ部材２７０を設けるための構成を別途設ける必要がない。これにより、省スペース化を実現させた状態で塞ぎ部材２７０を設けることができる。具体的には、平坦部２５１ａは、ビームＢＭが通過しない部分に位置している。

本実施の形態では、塞ぎ部材２７０は、ビーム検知用レンズ２５１に対しｆθレンズ２４１とは反対側に延びている。こうすることで、塞ぎ部材２７０によりビーム検知用レンズ２５１での迷光の有効走査領域αへの侵入をさらに抑制することができる。従って、ビーム検知用レンズ２５１での迷光による画像の影響をさらに少なくする或いはなくすことができる。この例では、塞ぎ部材２７０は、平坦部２５１ａに沿って偏向器２３０とは反対側に延びている。

詳しくは、第１筐体２０１の外周部には、外周側壁２０１ｅが設けられている。塞ぎ部材２７０は、有効走査領域αを遮らない状態で、外周側壁２０１ｅの外周内壁面２０１ｆに対向して近接又は接触するように延びていてもよい。

（第２実施形態）
本実施の形態では、ビーム検知用レンズ２５１は、プリズムレンズである。こうすることで、プリズムレンズであるビーム検知用レンズ２５１により偏向器２３０からのビームＢＭの進行方向を屈曲させることができる。これにより、光走査装置２００を小型化するための所望の箇所にビーム検知部２５２を配設することができる。従って、光走査装置２００の小型化を容易に実現させることができる。

図８は、光源２１１及びビーム検知部２５２を搭載した基板２６０部分を示す平面図である。図９は、図８において基板２６０を取り外した様子を示す平面図である。図１０は、光源２１１及びビーム検知部２５２を搭載した基板２６０を取り外した第１筐体２０１を示す背面図である。

（第３実施形態）
本実施の形態では、第１筐体２０１と、光源２１１と、基板２６０とをさらに備えている。第１筐体２０１には、偏向器２３０、ｆθレンズ２４１、ビーム検知用レンズ２５１及びビーム検知部２５２が設けられる。基板２６０は、光源２１１及びビーム検知部２５２を同一の基板面２６１に搭載する。こうすることで、光源用の基板とビーム検知部用の基板とを１枚の基板で共用することができる。これにより、低コスト化を実現させることができる。また、第１筐体２０１には、光源用開口２０１ｂと、ビーム検知用開口２０１ｃとが設けられている。光源用開口２０１ｂは、光源２１１から出射されるビームＢＭを通過させる。ビーム検知用開口２０１ｃは、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭを通過させる。基板２６０は、光源２１１が光源用開口２０１ｂに対向し、かつ、ビーム検知部２５２がビーム検知用開口２０１ｃに対向するように第１筐体２０１の外側から第１筐体２０１に設けられている。こうすることで、第１筐体２０１内の基板を設けるためのスペースを削減することができる。これにより、光走査装置のさらなる小型化を実現させることができる。

詳しくは、第１筐体２０１は、コリメータレンズ２２１、アパーチャ部材２２２、シリンドリカルレンズ２２３、偏向器２３０、ｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１を収容している。光源用開口２０１ｂ及びビーム検知用開口２０１ｃは、外周側壁２０１ｅに設けられている。基板２６０は、光源２１１及びビーム検知部２５２の搭載側が第１筐体２０１の外周側壁２０１ｅに向くように設けられている。そして、光源２１１は、光源用開口２０１ｂ内に位置し、ビーム検知部２５２は、ビーム検知用開口２０１ｃ内に位置している。これにより、光源２１１からのビームＢＭをコリメータレンズ２２１に向けて出射させることができる。また、ビーム検知用レンズ２５１からのビームＢＭをビーム検知部２５２に入射させることができる。

本実施の形態において、塞ぎ部材２７０は、ｆθレンズ２４１とビーム検知用レンズ２５１とに接触している。こうすることで、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが通過する領域の埃が溜まり易い角部又は隙間への埃溜まりを確実に抑制することができる。しかも、ビーム検知用レンズ２５１での迷光による画像の影響をさらに少なくすることができる。この場合、塞ぎ部材２７０を第１筐体２０１の底面２０１ｄに対向させて接触又は近接させてもよい。また、塞ぎ部材２７０を第２筐体２０２（上蓋）に対向させて接触又は近接させてもよい。

（その他の実施の形態）
本実施の形態において、塞ぎ部材２７０は、第１筐体２０１の底面２０１ｄから立設したリブで構成されていてもよい。こうすることで、塞ぎ部材２７０を第１筐体２０１の底面２０１ｄに安定的に保持することができる。従って、ビーム検知部２５２に入射されるビームＢＭが通過する領域の埃が溜まり易い角部又は隙間への埃溜まりを確実に抑制することができる。しかも、ビーム検知用レンズ２５１での迷光による画像の影響をさらに少なくすることができる。この場合、塞ぎ部材２７０をｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１に近接させることができる。また、塞ぎ部材２７０を第２筐体２０２に対向させて接触又は近接させてもよい。また、塞ぎ部材２７０は、第２筐体２０２の底面から立設したリブで構成されていてもよい。この場合、塞ぎ部材２７０をｆθレンズ２４１及びビーム検知用レンズ２５１に対向させて近接させることができる。また、塞ぎ部材２７０を第１筐体２０１の底面２０１ｄに接触又は近接させてもよい。また、塞ぎ部材２７０は、ｆθレンズ２４１に設けられていてもよい。また、第１筐体２０１の開口２０１ａには、ガラス等の透明板が設けられていて開口２０１ａを塞ぐようになっていてもよい。

本発明は、以上説明した実施の形態に限定されるものではなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、かかる実施の形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。

１００ 画像形成装置
２００ 光走査装置
２０１ 第１筐体（筐体の一例）
２０１ａ 開口
２０１ｂ 光源用開口
２０１ｃ ビーム検知用開口
２０１ｄ 底面
２０１ｅ 外周側壁
２０２ 第２筐体
２１０ 光源部
２１１ 光源
２２０ 入射光学系
２２１ コリメータレンズ
２２２ アパーチャ部材
２２３ シリンドリカルレンズ
２３０ 偏向器
２３１ ポリゴンミラー
２４０ 出射光学系
２４１ ｆθレンズ
２５０ 検知部
２５１ ビーム検知用レンズ
２５１ａ 平坦部
２５２ ビーム検知部
２６０ 基板
２６１ 基板面
２７０ 塞ぎ部材
Ｂ 回転方向
ＢＭ ビーム
Ｅ 回転方向
Ｆ 被走査面
Ｘ 主走査方向
Ｙ 副走査方向
α 有効走査領域
β ビーム通過領域

Claims (9)

1. ビームを偏向走査する偏向器と、
   前記偏向器にて偏向走査されて被走査面に向かう前記ビームが通過するｆθレンズと、
   前記ビームの有効走査領域の範囲外に設けられたビーム検知用レンズと、
   前記ビーム検知用レンズからの前記ビームを前記有効走査領域の範囲外で検知するビーム検知部と、
   前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズの間を塞ぐ塞ぎ部材と
   を備えており、
   前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズは、前記ビームを偏向走査する走査方向と、前記走査方向及び前記偏向器の回転軸方向に直交する直交方向との双方において互いに重なる位置に配設されており、
   前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズで角部又は隙間が形成されており、
   前記塞ぎ部材は、前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズで形成される前記角部又は前記隙間を塞ぐことを特徴とする光走査装置。
2. 請求項１に記載の光走査装置であって、
   前記塞ぎ部材は、前記ｆθレンズ及び前記ビーム検知用レンズの間で前記ビームが通過するビーム通過領域と、前記有効走査領域との間を仕切る仕切り部であることを特徴とする光走査装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の光走査装置であって、
   前記塞ぎ部材は、シート状の部材で構成されていることを特徴とする光走査装置。
4. 請求項３に記載の光走査装置であって、
   前記ビーム検知用レンズは、平坦部を有し、前記シート状の部材で構成された前記塞ぎ部材が前記平坦部に設けられていることを特徴とする光走査装置。
5. 請求項１から請求項４までの何れか１つに記載の光走査装置であって、
   前記塞ぎ部材は、前記ビーム検知用レンズに対し前記ｆθレンズとは反対側に延びていることを特徴とする光走査装置。
6. 請求項１から請求項５までの何れか１つに記載の光走査装置であって、
   前記ビーム検知用レンズは、プリズムレンズであることを特徴とする光走査装置。
7. 請求項６に記載の光走査装置であって、
   前記偏向器、前記ｆθレンズ、前記ビーム検知用レンズ及び前記ビーム検知部が設けられる筐体と、
   前記ビームを出射する光源と、
   前記光源及び前記ビーム検知部を同一の基板面に搭載する基板と
   をさらに備え、
   前記筐体には、前記光源から出射されるビームを通過させる光源用開口と、前記ビーム検知部に入射されるビームを通過させるビーム検知用開口とが設けられ、
   前記基板は、前記光源が前記光源用開口に対向し、かつ、前記ビーム検知部が前記ビーム検知用開口に対向するように前記筐体の外側から該筐体に設けられていることを特徴とする光走査装置。
8. 請求項１から請求項７までの何れか１つに記載の光走査装置であって、
   前記塞ぎ部材は、前記ｆθレンズと前記ビーム検知用レンズとに接触していることを特徴とする光走査装置。
9. 請求項１から請求項８までの何れか１つに記載の光走査装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。

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