JP6703532B2 - ゲートバルブ - Google Patents

Description

本発明は、可撓性を有する帯状の基材を挟み込んで閉弁するゲートバルブに関する。

従来、薄膜基材を製造するに際し、樹脂製で可撓性を有する帯状の基材をロールトゥロールで間欠搬送し、基材上に薄膜をパターニングして形成することが行われている。

薄膜のパターニングは、薄膜ごとに設けられたチャンバー内で行われる。基材は、各チャンバー間を搬送される。隣り合うチャンバー間には、各チャンバー内の環境を例えば高真空に維持するためのゲートバルブが設けられる（特許文献１〜７参照）。

特開２０１１−１２７１８３号公報 特開２０１１−１４４９２２号公報 特開２００９−０３０７５４号公報 特開昭５９−１３０４８４号公報 特開２０００−０６５２４９号公報 特開２０００−０６２０１２号公報 特開平６−２９１３４９号公報

従来のゲートバルブでは、弁体が樹脂製の可撓性部材であるため、弁体が基材を介して弁座に着座して弁体及び弁座で基材を挟み込む閉弁状態から、弁体が弁座から離座した開弁状態となる際に、基材が弁体に密着したままとなってしまい、開弁後に基材を搬送することができないおそれがある。基材を弁体から剥がすために弁体のストローク量を大きくすると、ゲートバルブが大型化するのに加え、ゲートバルブの開閉時間が長くなり、生産性が低下してしまう。

本発明は、前記事情に鑑みて創案されたものであり、開弁時に基材を弁体から好適に剥がすことが可能なゲートバルブを提供することを課題とする。

前記課題を解決するための本発明は、以下の構成を備える。
１．可撓性を有する帯状の基材が搬送されるチャンバーにおける前記基材の出入口に設けられ、前記出入口を開閉するゲートバルブであって、前記基材の一面側に設けられる弁座と、前記基材の他面側に設けられる弁体と、を備え、前記弁体は、可撓性部材であり、前記弁体は、前記弁座に着座することによって、当該弁体と前記弁座とで前記基材を挟み込んだ状態で閉弁し、前記弁体が前記弁座から離座して開弁する際に、前記弁体のうち着座状態で前記基材の他面と当接する部位が、前記弁体の離座方向とは異なる方向にも移動することを特徴とするゲートバルブ。
２．前記弁体は、円柱形状を呈しており、前記弁体が前記弁座から離座する際に、前記弁体は、回転しつつ前記弁座から離座する方向に移動することを特徴とする前記１に記載のゲートバルブ。
３．前記弁体は、弁体基部と、前記弁体基部に対して相対移動可能な可動部と、を備え、前記弁体が前記弁座に着座した状態において、前記弁体基部及び前記可動部が前記基材に当接し、前記弁体が前記弁座から離座する際に、前記弁体基部が前記弁座から離間する方向に移動しつつ、前記可動部が前記弁体基部から離間する方向に相対移動することを特徴とする前記１に記載のゲートバルブ。
４．前記弁体が前記弁座から離座する際に、前記弁体は、前記弁座から離座する方向に移動しつつ、前記基材の他面に沿う方向にも移動することを特徴とする前記１に記載のゲートバルブ。

本発明によると、開弁時に基材を弁体から好適に剥がすことができる。

本発明の実施形態に係る薄膜基材製造装置を示す模式図である。 本発明の実施形態に係る薄膜基材製造装置を示すブロック図である。 本発明の第一の実施形態に係るゲートバルブを示す模式図であり、（ａ）は開弁状態を示す図、（ｂ）は閉弁状態を示す図、（ｃ）は開弁動作を示す図である。 本発明の第二の実施形態に係るゲートバルブを示す模式図であり、（ａ）は開弁状態を示す図、（ｂ）は閉弁状態を示す図、（ｃ）は開弁動作を示す図である。 本発明の第三の実施形態に係るゲートバルブを示す模式図であり、（ａ）は開弁状態を示す図、（ｂ）は閉弁状態を示す図、（ｃ）は開弁動作を示す図である。

本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。以下の説明において、「上流／下流」といった方向は、薄膜基材製造装置によって移動する基材を基準とする。すなわち、基材が進行する方向が「下流側」である。

まず、本発明の実施形態に係るゲートバルブを有する薄膜基材製造装置の構成について説明する。図１は、本発明の実施形態に係る薄膜基材製造装置を示す模式図である。図２は、本発明の実施形態に係る薄膜基材製造装置を示すブロック図である。

＜薄膜基材製造装置＞
図１に示すように、本発明の実施形態に係る薄膜基材製造装置１は、基材２上に薄膜をパターン成膜することによって薄膜基材を製造するための装置である。薄膜基材製造装置１は、薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙと、蛇行補正部２０と、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙと、を備える。さらに、薄膜基材製造装置１は、図２に示すように、薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙごとに設けられたローラー駆動部４１、マスク駆動部４２及びタッチプレート駆動部４３と、蛇行補正部２０に設けられたローラー駆動部４４ａ，４４ｂと、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙごとに設けられた弁体駆動部４５と、これら各駆動部を制御する制御部５０と、を備える。

なお、薄膜基材製造装置１は、３以上の薄膜形成部を備えてもよく、パターン成膜される薄膜以外の膜を形成する形成部を備えていてもよい。また、基材２上に薄膜を形成する手法は、後記するものに限定されない。

＜薄膜形成部＞
図１に示すように、薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙは、可撓性を有する帯状の基材２上に薄膜をパターン成膜するものである。これら薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙは、上流側から薄膜形成部１０Ｘ、薄膜形成部１０Ｙの順に設けられている。
薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙは、それぞれ、チャンバー１１と、駆動ローラー１２ａと、タッチローラー１２ｂと、撮影部１６ａ，１６ｂと、材料出射部１７と、マスク１８と、を備える。
なお、薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙのチャンバー１１の内部は、図示しない真空吸引部によって高真空に維持可能である。また、薄膜形成部１０Ｘのチャンバー１１の下流端部と薄膜形成部１０Ｙのチャンバー１１の上流端部とは、基材２を搬送可能となるように連通している。

駆動ローラー１２ａは、チャンバー１１内に設けられている。タッチローラー１２ｂは、チャンバー１１内の駆動ローラー１２と対向する位置に設けられた従動ローラーである。基材２は、駆動ローラー１２ａとタッチローラー１２ｂとによって挟持されている。
図２に示す制御部５０は、ローラー駆動部４１を制御することによって駆動ローラー１２ａを回転させ、基材２を上流側から下流側へと搬送する。

図１に示すように、撮影部１６ａ，１６ｂは、チャンバー１１内の駆動ローラー１２ａよりも下流側に設けられたカメラであり、基材２上に設けられたマーカー（不図示）及びマスク１８上に設けられたマーカー（不図示）を撮影し、撮影結果を制御部５０へ出力する。

材料出射部１７は、チャンバー１１内の駆動ローラー１２ａよりも下流側であって、基材２の下側に設けられている。
図２に示す制御部５０は、材料出射部１７を制御することによって、薄膜の材料（例えば、蒸発した材料）をマスク１８を介して基材２の下面へ出射する。

マスク１８は、チャンバー１１内の駆動ローラー１２ａよりも下流側であって、基材２の下側かつ基材２と材料出射部１７との間に設けられている。
図２に示す制御部５０は、マスク駆動部４２を制御することによってマスク１８を移動させる。

タッチプレート１９は、チャンバー１１内の駆動ローラー１２ａよりも下流側であって、基材２を介してマスク１８と対向する位置に設けられている。
図２に示す制御部５０は、タッチプレート駆動部４３を制御することによってタッチプレート１９を移動させる。

＜蛇行補正部＞
図１に示すように、蛇行補正部２０は、基材２の蛇行を補正する。蛇行補正部２０は、薄膜形成部１０Ｙの下流側に設けられている。
蛇行補正部２０は、チャンバー２１と、従動ローラー２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄと、蛇行補正ローラー２２ａ，２２ｂと、蛇行検出部２３と、を備える。

従動ローラー２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄは、チャンバー２１内に設けられている。従動ローラー２１ａ，２１ｃには、基材２の上面が巻回されており、従動ローラー２１ｂ，２１ｄには、基材２の下面が巻回されている。

蛇行補正ローラー２２ａ，２２ｂは、チャンバー２１内の従動ローラー２１ｂ，２１ｃ間に設けられた従動ローラーである。蛇行補正ローラー２２ａ，２２ｂには、基材２の上面が巻回されている。

蛇行検出部２３は、チャンバー２１内の蛇行補正ローラー２２ａ，２２ｂ間に設けられたキャパシタンスセンサーであり、基材２の位置（詳細には、幅方向の位置）を検出し、検出結果を制御部５０へ出力する。
図２に示す制御部５０は、蛇行検出部２３の検出結果に基づいてローラー駆動部４４ａ，４４ｂを駆動することによって、基材２の搬送方向に対する蛇行補正ローラー２２ａ，２２ｂの軸方向の傾斜を変更し、基材２の蛇行を補正する。

＜ゲートバルブ＞
図１に示すように、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙは、隣り合うチャンバー間に設けられており、基材２を搬送可能な開弁状態と、基材２を挟み込んで密封（疑似密封）し、チャンバーの真空状態を維持する閉弁状態と、を切替可能な弁である。ゲートバルブ３０Ｘは、薄膜形成部１０Ｘのチャンバー１１と当該チャンバー１１よりも上流側のチャンバーとの間に設けられている。すなわち、ゲートバルブ３０Ｘは、薄膜形成部１０Ｘにおける基材２の入口を密封可能な弁である。また、ゲートバルブ３０Ｙは、薄膜形成部１０Ｙのチャンバー１１と蛇行補正部２０のチャンバー２１との間に設けられている。すなわち、ゲートバルブ３０Ｙは、薄膜形成部１０Ｙにおける基材２の出口（換言すると、蛇行補正部２０のチャンバー２１における基材２の入口）を密封可能な弁である。
図２に示す制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、弁体３２を移動させ、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙを開弁状態と閉弁状態とに切り替える。

＜薄膜基材の製造方法＞
続いて、薄膜基材製造装置１による薄膜基材の製造方法について、図１及び図２を参照して説明する。まず、制御部５０は、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙが開弁した状態において、薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙのローラー駆動部４１を制御することによって、駆動ローラー１２ａを回転させ、基材２を上流側から下流側へと所定距離だけ搬送させた後、駆動ローラー１２ａを止め、基材２を停止させる（基材搬送工程）。

続いて、制御部５０は、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙの弁体駆動部４５を制御することによって、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙを閉弁し、薄膜形成部１０Ｘのチャンバー１１における基材２の入口と薄膜形成部１０Ｙのチャンバー１２における基材２の出口とを密封する（閉弁工程）。

続いて、制御部５０は、薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙのそれぞれにおいて、撮影部１６ａ，１６ｂの撮影結果に基づいてマスク駆動部４２を制御することによって、マスク１８を移動させてマスク１８と基材２との位置合わせを行った後に、マスク駆動部４２及びタッチプレート駆動部４３を制御することによって、マスク１８と、基材２と、タッチプレート１９とを密着させる。
続いて、制御部５０は、薄膜形成部１０Ｘ，１０Ｙのそれぞれにおいて、材料出射部１７を制御することによって、薄膜の材料をマスク１８を介して基材２の下面に出射し、パターニングされた薄膜を基材２の上面に形成する（例えば、蒸発有機材料を基材２の下面に蒸着させる）（薄膜パターニング工程）。
続いて、制御部５０は、マスク駆動部４２及びタッチプレート駆動部４３を制御することによって、マスク１８と、基材２と、タッチプレート１９との密着を解除する。

続いて、制御部５０は、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙのそれぞれにおいて、弁体駆動部４５を制御することによって、ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙを開弁する（開弁工程）。制御部５０は、開弁工程の後に前記した基材搬送工程に戻り、前記各工程を繰り返し実行することによって薄膜基材を製造する。

＜第一の実施形態＞
続いて、前記ゲートバルブ３０Ｘ，３０Ｙの具体例である第一の実施形態に係るゲートバルブ３０Ａについて、図３を参照して説明する。
図３に示すように、第一の実施形態に係るゲートバルブ３０Ａは、図示しないハウジング内に設けられた弁座３１Ａ及び弁体３２Ａを備える。

弁座３１Ａは、基材２の上面側に設けられた金属製のブロックである。当該弁座３１Ａの上流側下端部には、側面視で円弧形状を呈する弁座面３１ａが形成されている。

弁体３２Ａは、基材２の下面側に設けられた樹脂製の可撓性部材である。弁体３２Ａは、円柱形状を呈しており、当該弁体３２Ａの右斜め上部の外周面は、基材２を介して弁座面３１ａに着座する密封面３２ａを構成する。

本実施形態において、弁体駆動部４５（図２参照）は、弁体３２Ａを着座方向（図３の右斜め上方向）Ａ１及び離座方向（図３の左斜め下方向）Ａ２に移動させるための機構と、弁体３２Ａを回転方向Ａ３に回転させるための機構と、を有する。ここで、回転方向Ａ３は、弁体３２Ａの中心軸を回転軸とし、弁体３２Ａの右斜め上部の外周面である密封面３２ａが基材２の上流側から下流側へ向かって移動する方向である。

＜動作例：閉弁＞
前記した閉弁工程において、ゲートバルブ３０Ａを閉弁する際には、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、離座している弁体３２Ａを着座方向Ａ１に移動させ、基材２を弁座３１Ａの着座面３１ａと弁体３２Ａの密封面３２ａとで挟み込んで閉弁する（図３（ａ）→図３（ｂ））。

＜動作例：開弁＞
前記した開弁工程において、ゲートバルブ３０Ａを開弁する際には、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、着座している弁体３２Ａを回転方向Ａ２に回転させつつ離座方向Ａ２に移動させ、弁体３２Ａを弁座３１Ａから離座させて開弁する（図３（ｂ）→図３（ｃ））。
かかる動作により、弁体３２Ａが回転方向Ａ３に回転しながら離座方向Ａ２に移動するので、閉弁状態で弁体３２Ａに密着した基材２は、弁体３２Ａの回転によって弁体３２Ａから剥がされる。

本発明の第一の実施形態に係るゲートバルブ３０Ａは、弁体３２Ａが弁座３１Ａから離座して開弁する際に、弁体３２Ａのうち着座状態で基材２の下面と当接する密封面３２ａが、弁体３２Ａの離座方向Ａ２とは異なる方向にも移動するので、基材２を弁体３２Ａから剥がすことができ、基材２が弁体３２Ａに密着したままとなって基材２の搬送に支障をきたすことを好適に防ぐことができる。
また、ゲートバルブ３０Ａは、弁体３２Ａの回転方向Ａ３が基材２の搬送方向に対応しているので、弁体３２Ａの回転によって基材２が伸びたり上流側に戻されたりすることを防ぐことができる。

＜第二の実施形態＞
続いて、本発明の第二の実施形態に係るゲートバルブ３０Ｂについて、第一の実施形態に係るゲートバルブ３０Ａとの相違点を中心に説明する。
図４に示すように、本発明の第二の実施形態に係るゲートバルブ３０Ｂは、弁座３１Ａ及び弁体３２Ａに代えて、弁座３１Ｂ及び弁体３２Ｂを備える。

弁座３１Ｂは、基材２の上面側に設けられた金属製のブロックである。当該弁座３１Ｂの下面は、弁座面３１ｂを構成する。

弁体３２Ｂは、基材２の下面側に設けられた樹脂製の可撓性部材である。弁体３２Ｂは、弁体基部３２ｂと、可動部３２ｃと、を備える。弁体基部３２ｂは、上面に凹部を有するブロック形状を呈している。可動部３２ｃは、弁体基部３２ｂよりも小さいブロック形状を呈しており、可動部３２ｃは、弁体基部３２ｂの凹部に収容されている。弁体基部３２ｂ及び可動部３２ｃの上面は、面一となっており、基材２を介して弁座面３１ｂに着座する密封面３２ｄを構成する。

本実施形態において、弁体駆動部４５（図２参照）は、弁体基部３２ｂを着座方向（図４の上方向）Ｂ１及び離座方向（図４の下方向）Ｂ２に移動させるための機構と、可動部３２ｃを弁体基部３２ｂから離間する方向Ｂ３及び弁体基部３２ｂに近接する方向に相対移動させるための機構と、を有する。ここで、可動部３２ｃを弁体基部３２ｂに対して相対移動させる機構は、弁体基部３２ｂ内に設けられていてもよい。

＜動作例：閉弁＞
前記した閉弁工程において、ゲートバルブ３０Ｂを閉弁する際には、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、離座している弁体３２Ｂ全体を着座方向Ｂ１に移動させ、基材２を弁座３１Ｂの着座面３１ｂと弁体３２Ｂの密封面３２ｄとで挟み込んで閉弁する（図４（ａ）→図４（ｂ））。

＜動作例：開弁＞
前記した開弁工程において、ゲートバルブ３０Ｂを開弁する際には、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、着座している弁体３２Ｂの弁体基部３２ｂを離座方向Ｂ２に移動させつつ、可動部３２ｃを弁体基部３２ｂから離間する方向Ｂ３に相対移動させて開弁する（図４（ｂ）→図４（ｃ））。すなわち、弁体３２Ｂの基材２と当接する当接部（密着面３２ｄ）の一部が、開弁方向Ｂ２とは異なる方向Ｂ３に移動することにより、弁体基部３２ｂの密封面３２ｄが基材２から剥がれ、その後、可動部３２ｃの密封面３２ｄが基材２から剥がれる。開弁終了後、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、可動部３２ｃを弁体基部３２ｂに近接する方向に相対移動させ、弁体３２Ｂを図４（ａ）に示す状態に復帰させる。
ここで、弁体基部３２ｂが離座方向Ｂ２に移動する速さは、可動部３２ｃが弁体基部３２ｂから離間する方向Ｂ３に相対移動する速さよりも大きい。
かかる動作により、弁体基部３２ｂが弁座３１Ｂから離間する方向Ｂ２に移動しつつ、可動部３２ｃが、弁体基部３２ｂから離間する方向Ｂ３に相対移動するので、閉弁状態で弁体３２Ｂに密着した基材２は、弁体基部３２ｂに対する可動部３２ｃの相対移動によって弁体３２Ｂから剥がされる。

本発明の第二の実施形態に係るゲートバルブ３０Ｂは、弁体３２Ｂが弁座３１Ｂから離座して開弁する際に、弁体３２Ｂの可動部３２ｃが弁体３２Ｂの離座方向Ｂ２とは異なる方向に移動するので、基材２を弁体３２Ｂから剥がすことができ、基材２が弁体３２Ｂに密着したままとなって基材２の搬送に支障をきたすことを好適に防ぐことができる。

＜第三の実施形態＞
続いて、本発明の第三の実施形態に係るゲートバルブ３０Ｃについて、第二の実施形態に係るゲートバルブ３０Ｂとの相違点を中心に説明する。
図５に示すように、本発明の第三の実施形態に係るゲートバルブ３０Ｃは、弁体３２Ｂに代えて、弁体３２Ｃを備える。

弁座３１Ｂは、基材２の上面側に設けられた金属製のブロックである。当該弁座３１Ｂの下面は、弁座面３１ｂを構成する。

弁体３２Ｃは、基材２の下面側に設けられた樹脂製の可撓性部材である。弁体３２Ｃは、ブロック形状を呈している。弁体３２Ｃの上面は、基材２を介して弁座面３１ｂに着座する密封面３２ｅを構成する。

本実施形態において、弁体駆動部４５（図２参照）は、弁体３２Ｃを着座方向（図４の上方向）Ｃ１及び離座方向（図４の下方向）Ｃ２に移動させるための機構と、弁体３２Ｃを基材２の下面に沿う方向Ｃ３及び方向Ｃ３の逆方向に移動させるための機構と、を有する。ここで、方向Ｃ３は、基材２の搬送方向の上流側から下流側へ向かう方向である。

＜動作例：閉弁＞
前記した閉弁工程において、ゲートバルブ３０Ｃを閉弁する際には、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、離座している弁体３２Ｃを着座方向Ｃ１に移動させ、基材２を弁座３１Ｂの着座面３１ｂと弁体３２Ｃの密封面３２ｅとで挟み込んで閉弁する（図５（ａ）→図５（ｂ））。

＜動作例：開弁＞
前記した開弁工程において、ゲートバルブ３０Ｃを開弁する際には、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、着座している弁体３２Ｃを離座方向Ｃ２に移動させつつ、弁体３２Ｃを基材２の下面に沿う方向Ｃ３に移動させて開弁する（図５（ｂ）→図５（ｃ））。結果的に、弁体３２Ｃは、方向Ｃ２のベクトルと方向Ｃ３のベクトルとを合成した方向Ｃ４に移動する。開弁終了後、制御部５０は、制御部５０は、弁体駆動部４５を制御することによって、弁体３２Ｃを方向Ｃ３の逆方向に移動させ、弁体３２Ｃを図５（ａ）に示す位置に復帰させる。
かかる動作により、弁体３２Ｃが弁座３１Ｂから離間する方向Ｃ２に移動しつつ基材２の下面に沿う方向Ｃ３にも移動するので、閉弁状態で弁体３２Ｃに密着した基材２は、弁体３２Ｃの方向Ｃ３への移動によって弁体３２Ｃから剥がされる。

本発明の第三の実施形態に係るゲートバルブ３０Ｃは、弁体３２Ｃが弁座３１Ｂから離座して開弁する際に、弁体３２Ｃのうち着座状態で基材２の下面と当接する密封面３２ｅが、弁体３２Ｃの離座方向Ｃ２とは異なる方向にも移動するので、基材２を弁体３２Ｃから剥がすことができ、基材２が弁体３２Ｃに密着したままとなって基材２の搬送に支障をきたすことを好適に防ぐことができる。
また、ゲートバルブ３０Ｃは、弁体３２Ｃの移動方向Ｃ３が基材２の搬送方向に対応しているので、弁体３２Ａの移動方向Ｃ３への移動による基材２の蛇行の発生を防ぐことができる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、薄膜は、有機薄膜であってもよく、無機薄膜であってもよい。また、第一の実施形態において、開弁時の弁体３２Ａの回転方向は、前記したものと逆回転方向であってもよい。また、第三の実施形態において、開弁時の弁体３２Ｃの基材２に沿う移動方向は、前記したものと逆方向であってもよく、基材２の幅方向であってもよい。また、弁座３１Ａ，３１Ｂが樹脂製の可撓性部材である場合には、開弁時に弁座３１Ａ，３１Ｂを基材２に沿う方向、好ましくは、第一の実施形態及び第二の実施形態においては弁座３１Ａ，３１Ｃの基材２に沿う移動方向とは異なる方向に移動させる構成であってもよい。また、蛇行検出部２３は、キャパシタンスセンサーに限定されず、リニアセンサー等であってもよい。

１ 薄膜基材製造装置
２ 基材
３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｘ，３０Ｙ ゲートバルブ
３１Ａ，３１Ｂ 弁座
３２，３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ 弁体

Claims (4)

1. 可撓性を有する帯状の基材が搬送されるチャンバーにおける前記基材の出入口に設けられ、前記出入口を開閉するゲートバルブであって、
   前記基材の一面側に設けられる弁座と、
   前記基材の他面側に設けられる弁体と、
   を備え、
   前記弁体は、可撓性部材であり、
   前記弁体は、前記弁座に着座することによって、当該弁体と前記弁座とで前記基材を挟み込んだ状態で閉弁し、
   前記弁体が前記弁座から離座して開弁する際に、前記弁体のうち着座状態で前記基材の他面と当接する部位が、前記弁体の離座方向とは異なる方向にも移動する
   ことを特徴とするゲートバルブ。
2. 前記弁体は、円柱形状を呈しており、
   前記弁体が前記弁座から離座する際に、前記弁体は、回転しつつ前記弁座から離座する方向に移動する
   ことを特徴とする請求項１に記載のゲートバルブ。
3. 前記弁体は、弁体基部と、前記弁体基部に対して相対移動可能な可動部と、を備え、
   前記弁体が前記弁座に着座した状態において、前記弁体基部及び前記可動部が前記基材に当接し、
   前記弁体が前記弁座から離座する際に、前記弁体基部が前記弁座から離間する方向に移動しつつ、前記可動部が前記弁体基部から離間する方向に相対移動する
   ことを特徴とする請求項１に記載のゲートバルブ。
4. 前記弁体が前記弁座から離座する際に、前記弁体は、前記弁座から離座する方向に移動しつつ、前記基材の他面に沿う方向にも移動する
   ことを特徴とする請求項１に記載のゲートバルブ。

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