JP6701626B2 - ガスバリアフィルム - Google Patents
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Description
Xの値を、1.6≦X≦1.95とすることがよりこのましい。Xの値を制御する手法としては、酸素のような酸化剤を導入する手法や、成膜材料のO/Si比を高くする方法挙げられる。酸化剤の導入量またはO/Si比を大きくすることで、Xの値は大きくなっていく。X<1.50の場合、透明性が不十分となってしまう可能性があり、2.20<Xの場合、透明性は十分確保できても、ガスバリア性能が発揮されない可能性がある。延伸・熱水等に対する耐久性、透明性、ガスバリア性能を確保するために、Yの値は、0.1≦Y≦1.20とすることがより好ましい。Yの値を制御する手法としては、成膜中の成膜空間における残留水分量を少なく押える方法が有効である。例えば、成膜前の真空引きにおいて、ターボ分子ポンプや油拡散ポンプだけでなく、コールドトラップなどの水分除去を得意とする機構を組み合わせることや、成膜空間にコールドトラップなどを設置して、水分をトラップしながら成膜を実施することが有効な手段となる。1.20<Yの場合、膜中に含まれるHの量が多くなり、ガスバリア性能が発揮されない可能性がある。また、SiOXの密度低下要因となり、ガスバリア性低下を招く可能性があり好ましくない。
図2の製造装置を用いて、厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製 P60)の片面にSiOXHYからなる酸化ケイ素層を形成した。その際、蒸着用の材料としてO/Si比=1.65の酸化ケイ素材料を用いた。また、ガスバリア層に含まれる水素量を30at%以下とするために、真空引きだけでなく成膜中においても、成膜空間に設置されているコールドトラップを使用した。
図2の製造装置を用いて、厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製 P60)の片面にSiOXHYからなる酸化ケイ素層を形成した。その際、蒸着用の材料としてO/Si比=1.65の酸化ケイ素材料を用いたが、真空引き並びに成膜中においても、コールドトラップを使用しなかった。
図2の製造装置を用いて、厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製 P60)の片面にSiOXHYからなる酸化ケイ素層を形成した。その際、蒸着用の材料としてO/Si比=1.2の酸化ケイ素材料を用いた。また、ガスバリア層に含まれる水素量を30at%以下とするために、真空引きだけでなく成膜中においても、成膜空間に設置されているコールドトラップを使用した。
図2の製造装置を用いて、厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製 P60)の片面にSiOXHYからなる酸化ケイ素層を形成した。その際、蒸着用の材料としてO/Si比=1.95の酸化ケイ素材料を用いた。また、ガスバリア層に含まれる水素量を30at%以下とするために、真空引きだけでなく成膜中においても、成膜空間に設置されているコールドトラップを使用した。
水蒸気透過率(WVTR)は、水蒸気透過度測定装置(モダンコントロール社製 MOCON PERMATRAN 3/21)により、40℃90%RH雰囲気にて測定した。
透過率を分光光度計(SHIMADZU社製 UV−2450)により、ベースラインを大気として測定した。なお、厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ製 P60)の透過率は85.82%Tであった。
膜組成を、高分解能RBS(High Resolution Rutherford Backscattering Spectrometry;HR−RBS)及び高分解能ERDA(High Resolution Elastic Recoil Detection Analysis;HR−ERDA)により測定した。
10…プラスチックフィルム
11…ガスバリア層
20…真空チャンバー
21…プラスチックフィルム
22…巻き出しローラー
23…成膜ロール
24…巻取りローラー
25…材料
26…直進電子ビーム銃
27…蒸着粒子
28…コールドトラップ
Claims (1)
- 基材となるプラスチックフィルムの少なくとも片面に、珪素、酸素、水素からなるガスバリア層SiOXHYが真空蒸着法にて形成され、前記ガスバリア層の酸素Oが1.6≦X≦1.95、水素Hが0.10≦Y≦0.79であり、前記ガスバリア層に含まれる水素量が30at%以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。
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