JP6700654B2 - ヘテロバックコンタクト型太陽電池とその製造方法 - Google Patents
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Description
<ヘテロ接合型バックコンタクトセルの構成>
図1に、実施形態1のヘテロ接合型バックコンタクトセルの模式的な断面図を示す。実施形態1のヘテロ接合型バックコンタクトセルは、n型単結晶シリコン基板である半導体基板1を有する。半導体基板1の第1の面1a(受光面)には、凹凸形状が形成されており、第1の面1aと接するように、窒素(N)と珪素(Si)とを含む誘電体膜6が設けられている。
以下、図2〜図12の模式的断面図を参照して、実施形態1のヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法の一例について説明する。
特許文献1に記載の太陽電池は、受光面100a上のi型非晶質半導体層117iと裏面100b上のi型非晶質半導体層112iとが同時に形成されて作製される。これは、i型非晶質半導体層117iおよびi型非晶質半導体層112iは、それぞれ半導体基板100の受光面100aおよび裏面100bのパッシベーション性を向上させるために必須であり、同時に形成するほうが効率的であると考えられていたためである。
図13に、実施形態2のヘテロ接合型バックコンタクトセルの模式的な断面図を示す。実施形態2のヘテロ接合型バックコンタクトセルは、第1の面1aに接する第1誘電体膜6aと、第1誘電体膜6a上に設けられた第2誘電体膜6bとを有する点に特徴がある。
実施形態3のヘテロ接合型バックコンタクトセルは、誘電体膜6中のSiの含有量が、半導体基板1の第1の面1aから離れるにつれて連続的に低減している点に特徴がある。
実施形態4は、ヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法において、半導体基板1の第2の面1b側に各膜を形成した後に、半導体基板1の第1の面1a上に誘電体膜6を形成する点に特徴がある。
まず、n型単結晶シリコンインゴットをスライスしたn型単結晶シリコン基板の表面のスライスダメージを除去した。
まず、実施例と同様にして、図2に示すように、スライスダメージ除去後のn型単結晶シリコン基板である半導体基板1の受光面となる第1の面1aに凹凸形状を形成し、半導体基板1からテクスチャマスクを除去した後に半導体基板1の洗浄を行った。
上記のようにして作製した実施例のヘテロ接合型バックコンタクトセルと比較例のヘテロ接合型バックコンタクトセルとについて分光感度を測定した。分光感度は、分光機器(株)製のCEP−25RRLを用い、実施例と比較例のそれぞれのヘテロ接合型バックコンタクトセルの受光面に白色光をバイアス照射することによって波長5nm刻みで測定した。その結果を図36に示す。なお、図36には、波長300nm〜500nmの光に対する実施例および比較例のそれぞれのヘテロ接合型バックコンタクトセルの受光面の分光感度が示されており、図36の横軸が波長[nm]を示し、縦軸が外部量子効率(EQE:External Quantum Efficiency)[%]を示している。なお、外部量子効率は、入射光の全光子1個対して発生したキャリア対(電子と正孔との対)の個数の割合[%]を意味している。
(1)ここで開示された実施形態は、半導体基板の第1の面に接するように、窒素と珪素とを含む誘電体膜を形成する工程と、半導体基板記第1の面と反対側の第2の面側に、第1導電型非晶質半導体膜および第2導電型非晶質半導体膜を形成する工程と、第1導電型非晶質半導体膜上に第1電極を形成する工程と、第2導電型非晶質半導体膜上に第2電極を形成する工程と、を含む、ヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法である。ここで開示された実施形態のヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法によれば、短絡電流密度の特性に優れたヘテロ接合型バックコンタクトセルを製造することができる。
Claims (9)
- 半導体基板の第1の面に接するように、窒素と珪素と炭素とフッ素とを含む誘電体膜を形成する工程と、
前記半導体基板の前記第1の面と反対側の第2の面側に、第1導電型非晶質半導体膜および第2導電型非晶質半導体膜を形成する工程と、
前記第1導電型非晶質半導体膜上に第1電極を形成する工程と、
前記第2導電型非晶質半導体膜上に第2電極を形成する工程と、を含む、ヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法。 - 前記誘電体膜を形成する工程は、前記第2の面側に前記第1導電型非晶質半導体膜および前記第2導電型非晶質半導体膜を形成する工程の前に行われる、請求項1に記載のヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法。
- 前記誘電体膜を形成する工程は、前記第2の面側に前記第1導電型非晶質半導体膜および前記第2導電型非晶質半導体膜を形成する工程の後に行われる、請求項1に記載のヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法。
- 前記誘電体膜は、酸素をさらに含む、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のヘテロ接合型バックコンタクトセルの製造方法。
- 第1導電型または第2導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の第1の面に接するように設けられた、窒素と珪素と炭素とフッ素とを含む誘電体膜と、
前記半導体基板の前記第1の面と反対側の第2の面側に設けられた、第1導電型非晶質半導体膜および第2導電型非晶質半導体膜と、
前記第1導電型非晶質半導体膜上の第1電極と、
前記第2導電型非晶質半導体膜上の第2電極と、を備える、ヘテロ接合型バックコンタクトセル。 - 前記誘電体膜は、前記第1の面から離れるにつれて前記珪素の含有量が低減する、請求項5に記載のヘテロ接合型バックコンタクトセル。
- 前記珪素の含有量は、前記第1の面から離れるにつれて連続的に低減する、請求項6に記載のヘテロ接合型バックコンタクトセル。
- 前記珪素の含有量は、前記第1の面から離れるにつれて段階的に低減する、請求項6に記載のヘテロ接合型バックコンタクトセル。
- 前記誘電体膜は、酸素をさらに含む、請求項5〜請求項8のいずれか1項に記載のヘテロ接合型バックコンタクトセル。
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