JP6699580B2 - 発光装置 - Google Patents

発光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6699580B2
JP6699580B2 JP2017022231A JP2017022231A JP6699580B2 JP 6699580 B2 JP6699580 B2 JP 6699580B2 JP 2017022231 A JP2017022231 A JP 2017022231A JP 2017022231 A JP2017022231 A JP 2017022231A JP 6699580 B2 JP6699580 B2 JP 6699580B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
emitting device
covering member
substrate
land
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017022231A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018129434A (ja
Inventor
拓也 中林
拓也 中林
忠昭 池田
忠昭 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nichia Corp
Original Assignee
Nichia Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nichia Corp filed Critical Nichia Corp
Priority to JP2017022231A priority Critical patent/JP6699580B2/ja
Priority to US15/889,677 priority patent/US10504876B2/en
Priority to KR1020180015862A priority patent/KR102447343B1/ko
Priority to CN201810133633.8A priority patent/CN108417686B/zh
Publication of JP2018129434A publication Critical patent/JP2018129434A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6699580B2 publication Critical patent/JP6699580B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • H01L25/0753Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission
    • H01L27/153Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/483Containers
    • H01L33/486Containers adapted for surface mounting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/44Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
    • H01L33/46Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502Wavelength conversion materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/505Wavelength conversion elements characterised by the shape, e.g. plate or foil
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/54Encapsulations having a particular shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • H01L33/60Reflective elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/005Processes relating to semiconductor body packages relating to encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0058Processes relating to semiconductor body packages relating to optical field-shaping elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0066Processes relating to semiconductor body packages relating to arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin

Description

本開示は、発光装置に関する。
従来から、基板上に間隙をあけて配設された複数個の半導体発光素子と、複数個の半導体発光素子に対して個別に設けられた蛍光体板と、半導体発光素子の上面と蛍光体板の下面とを接着固定する透明な接着部材と、半導体発光素子および蛍光体板を取り囲み、光反射性の微粒子を含有する反射層とを備える発光装置が提案されている。
特開2015−079805号公報
このような発光装置は、2つの半導体発光素子に挟まれた反射層に熱応力が籠りやすく、それにより反射層等に破損を生じさせるおそれがある。
本発明の一実施の形態は、複数の発光素子の周囲を被覆する光反射性の被覆部材等の破損を抑えることができる発光装置を提供することを目的とする。
本発明の一実施の形態の発光装置は、
第1ランド及び第2ランドを上面に有する基板と、
前記第1ランドにフリップチップ実装された第1発光素子と、
前記第2ランドにフリップチップ実装された第2発光素子と、
前記第1発光素子の側面、前記第2発光素子の側面及び前記基板の上面を被覆する光反射性の被覆部材とを備える発光装置であって、
前記第1発光素子及び第2発光素子間の前記被覆部材には凹部が設けられており、前記凹部の底面は前記基板内に配置されている。
本発明の一実施の形態の発光装置によれば、被覆部材等のクラックを効果的に抑えることができる。
本発明の一実施の形態を示す発光装置の概略平面図である。 図1Aに示す発光装置のA−A’線概略断面図である。 図1Aに示す発光装置のB−B’線概略断面図である。 図1Aに示す発光装置における要部の概略拡大図である。 図1Aに示す発光装置の変形例における要部の概略拡大図である。 本発明の別の実施の形態を示す発光装置の概略断面図である。 本発明の他の実施の形態を示す発光装置の概略斜視図である。 図3Aに示す発光装置の概略下面図である。 図3Aに示す発光装置のC−C’線概略断面図である。
以下に説明する発光装置は、本発明の技術思想を具体化するためのものであって、本発明を以下のものに限定しない。また、図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため、誇張していることがある。
なお、本願において、上下又は上下面は、図1Bに図示した状態での発光装置及び各部材の上下方向と一致した方向に面する。
本願における発光装置1は、例えば、図1A〜1Eに示すように、基板10と、第1発光素子21と、第2発光素子22と、被覆部材50とを備えている。基板10は、上面10aに、第1ランド11と、第2ランド12と、を有し、第1発光素子21は、第1ランド11にフリップチップ実装されている。つまり、第1発光素子21の一面に設けられた正負電極が、導電性接着部材60を介して第1ランド11に接続されている。第2発光素子22は、第2ランド12にフリップチップ実装されている。つまり、第2発光素子22の一面に設けられた正負電極が導電性接着部材60を介して第2ランド12に接続されている。被覆部材50は、第1発光素子21の側面、第2発光素子22の側面及び基板10の上面10aを被覆している。第1発光素子21及び第2発光素子22の間には、被覆部材50から基板10に及ぶ凹部50sが設けられている。従って、この凹部50sは、その底面50bが基板10内に配置されている。
このような構成を有する発光装置1は、凹部50sによって、第1発光素子21と第2発光素子22間の被覆部材50に伸び代が与えられ、この伸び代によって、被覆部材のクラック(破損)の原因となる第1発光素子21と第2発光素子22間の被覆部材50の上方向への変形を緩和することができる。これにより、被覆部材50等における破損の発生を抑えることができる。また、凹部50sは、発光装置1の位置決めガイドとして利用することもできる。
また、凹部50sの底面を基板10内に配置することで、凹部50sの下方において被覆部材50を確実に存在させないようにすることができる。これにより、被覆部材50等における破損の発生を抑えることができる。また、凹部50sを、被覆部材50を切断することによって形成する場合、凹部50sの底面を基板10内に配置するよう切断することで、容易に確実に基板10の上面10aにおける被覆部材50を存在させないようにすることができる。
発光装置1は、側面発光型であってもよいし、上面発光型であってもよい。側面発光型の発光装置とは、例えば、発光装置1が回路基板等に実装された際に、該回路基板等と対向する発光装置1の側面と、発光装置1の主発光方向が互いに略垂直である構成を指す。上面発光型の発光装置とは、例えば、実装方向と主発光方向が互いに略平行である構成を指す。
発光装置の平面形状は適宜選択できるが、矩形状とすることで、量産性が高まるため好ましい。特に、発光装置がバックライト用の光源として用いられる場合の平面形状は、長手方向と短手方向を有する長方形が好ましい。発光装置がフラッシュ用の光源として用いられる場合には、平面形状は正方形が好ましい。
(被覆部材50)
被覆部材50は、少なくとも、第1発光素子21と、第2発光素子22との間に設けられ、及び基板10の上面10aを被覆する部材である。被覆部材50は、発光装置の光取り出し効率を向上させる観点から、光反射性であることが好ましい。光反射性とは、例えば、第1発光素子及び第2発光素子の発光ピーク波長における光反射率が、70%以上であることを意味する。
被覆部材50の形状は、例えば、平面形状が四角形等の多角形、円又は楕円形等が挙げられる。なかでも、四角形が好ましく、後述する第1ランドと第2ランドとが配列された方向に長尺である四角形であることがより好ましい。これにより、発光装置をバックライト用の光源として好ましく用いることができる。また、被覆部材50は、第1ランド及び前記第2ランドの配列方向に延伸して設けられ、かつ、上面50a及び下面50bbに隣接する第1側面と、この第1側面の反対側の(対向する)第2側面と、上面50a、下面50bb及び第1側面とそれぞれ隣接する第3側面と第4側面とを有することが好ましい。この場合、第1側面は、第1ランドと第2ランドの配列方向に長尺であることが好ましい。
以下、本明細書では、各部材の側面のうち、発光装置1が実装される際に回路基板等と対向する側の面を第1側面と呼ぶ。
被覆部材50の平面形状は、図3Aに示すように、発光装置1の平面形状とほぼ一致していることが好ましい。これにより、発光装置を小型にすることができる。
被覆部材50における第1側面、第2側面、第3側面、及び第4側面の少なくともいずれか1つは、発光装置の内側に又は外側に傾斜していることが好ましい。特に、上面に向かって内側に傾斜していることが好ましく、第1側面、第2側面、つまり、上面視における第1ランドと第2ランドとの配列方向に対して垂直な方向に面する被覆部材50の側面が、上面に向かって内側に傾斜していることがより好ましい。これにより、発光装置1の回路基板などへの実装時に回路基板と対向する被覆部材50の第1側面と回路基板面との接触が抑えられ、発光装置1の実装が安定しやすい。また、実装後に被覆部材50が熱膨張した際、回路基板との接触による応力を抑えることができる。さらに、実装過程等において、被覆部材50の第2側面と吸着ノズル(コレット)との接触が抑えられ、発光装置1の吸着時の被覆部材50の損傷を抑制することができる。また、発光装置1が照明ユニットなどに組み込まれた際、被覆部材50の側面が傾斜を有していれば、該被覆部材50の側面と同じ側にある基板10の側面が優先的に周辺部材と接触することとなり、被覆部材50の応力歪みを抑えることができる。これらの結果、被覆部材50のクラックの発生をより一層低減することができる。傾斜は、基板10の上面の法線方向に対して、0.3〜3°であることが好ましく、0.5〜2°であることがより好ましく、0.7〜1.5°であることがさらに好ましい。
なお、被覆部材50の第1側面、第2側面、第3側面、第4側面は、発光装置1の外側面を構成する側面を指す。被覆部材50が凹部50sによって分断されている場合においても、第3側面及び第4側面は、凹部50sを構成する面ではなく、発光装置1の外側面を構成する面を指す。
被覆部材50の平面形状が、第1ランド及び第2ランドが配列された方向に長尺である四角形である場合、被覆部材50の第1側面は、後述する基板の第1側面(つまり、第1側面)と実質的に同一面を形成することが好ましい。ただし、被覆部材の側面が上述した傾斜を有する場合は、被覆部材50と基板10との第1側面同士の境界において、段差が存在せず、略面一であることが好ましい。ここでの略とは、数十μm程度の段差は許容されることを意味する。なお、ここでは、第1側面における被覆部材50と基板10との境界のみが面一であってもよいが、第1側面及び第2側面の双方において面一であることが好ましい。
第1発光素子または第2発光素子の間において、被覆部材50の第1発光素子または第2発光素子の側面から垂直な方向への幅は、約50μm以上であることが好ましい。これにより、発光素子からの光を十分に遮光することができる。また、150〜300μm程度であれば、被覆部材50の強度が高まり好ましい。
被覆部材50は、母材と光反射性物質とから構成されることが好ましい。
(被覆部材の母材)
被覆部材50は、液状の状態から硬化して固体となる母材を用いることが製造が容易であり、好ましい。これにより、被覆部材50は、トランスファ成形、射出成形、圧縮成形、ポッティングなどにより容易に形成することができる。
被覆部材の母材としては、樹脂を用いることができる。例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、又はこれらの変性樹脂が挙げられる。なかでも、シリコーン樹脂及び変性シリコーン樹脂は、耐熱性及び耐光性に優れる点で好ましい。具体的なシリコーン樹脂としては、ジメチルシリコーン樹脂、フェニル−メチルシリコーン樹脂、ジフェニルシリコーン樹脂が挙げられる。
被覆部材50が樹脂を母材として構成される場合、被覆部材50の線膨張係数は、後述する基板10、第1発光素子21及び第2発光素子22を構成する材料よりも高い。ここで、被覆部材を構成する材料が複数存在する場合、例えば、母材に後述する光反射性物質、フィラー等が含有されている場合、それらの複合材料の線膨張係数を意味する。
(光反射性物質)
光反射性物質としては、例えば、白色顔料が挙げられる。
白色顔料は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、チタン酸バリウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。白色顔料の形状は、不定形又は破砕状でもよいが、流動性の観点から、球状であるものが好ましい。白色顔料の粒径は、例えば、0.1〜0.5μm程度が挙げられるが、光反射及び被覆の効果を高めるために小さい程好ましい。被覆部材中の光反射性物質の含有量は、光反射性及び液状時における粘度などの観点から、被覆部材の全重量に対して10〜80wt%が好ましく、20〜70wt%がより好ましく、30〜60wt%がさらに好ましい。
被覆部材は、さらに、フィラーを含有してもよい。フィラーとしては酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛などが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。特に、熱膨張係数の小さい酸化珪素が好ましい。
(凹部50s)
凹部50sは、上述したように、第1発光素子及び第2発光素子間における被覆部材50に配置されており、その底面50bは、基板10内に配置されている。
凹部50sは、平面視において、被覆部材50が四角形である場合、対向する(反対側の)第1側面と第2側面とを連結する方向に延長していることが好ましい。この場合、凹部50sの端は、側面に達していなくてもよいが、少なくとも一方の側面に達していることが好ましく、双方の側面に達していることが好ましい。凹部50sが被覆部材の一対の側面に達していることにより、被覆部材50の表面積が増加するため、放熱性を向上させることができ、被覆部材50におけるクラックを効果的に低減することができる。また、凹部50sは、第1側面と第2側面に対して直交するように延長していることがより好ましい。特に、被覆部材50が長方形である場合、凹部50sは、長手方向に沿って伸びるに直交するように、短手方向に延長していることが好ましい。被覆部材50の熱膨張量は被覆部材50の長手方向に大きくなるため、被覆部材50を、長手方向を分断する形態で凹部50sを設けることにより、被覆部材50に負荷される熱応力を緩和させることができる。その結果、被覆部材におけるクラックの発生を低減することができる。
また、凹部50sの底面50bが基板10内に配置されていることにより、被覆部材のみならず、基板からの放熱をも確保することができ、クラックの発生を効果的に低減することができる。
凹部50sは、平面視において、第1発光素子21と第2発光素子22の間の被覆部材50の中央部に設けられることが好ましい。凹部50sの平面形状は、線状、線状に並んだ点状等のいずれでもよい。また、曲線状、波線状、破線状、折れ線状のいずれでもよい。さらに、凹部50sの側面は、被覆部材50の上面から基板側の下面にわたって、垂直であることが好ましいが、傾斜していてもよい。また、テーパー状、逆テーパー状であってもよい。つまり、長手方向に沿った断面図において、凹部50sの側面が、基板10の上面10aに対して垂直であってもよく、傾斜していてもよい。
凹部50sは、第1発光素子21と第2発光素子22の間に1つのみならず、複数設けられていてもよい。
凹部50sの上面視における幅(図1Eに示すW)は、凹部50sを挟む被覆部材50が熱膨張によって伸びる量によって適宜選択できる。被覆部材50が発光装置の使用時、製造工程又は組み込み工程等に加わる熱によって膨張した場合に、凹部50sが残る程度に設定することが好ましい。例えば、凹部50sの幅Wの下限値は、0.01mm以上であることが好ましく、0.03mm以上であることがより好ましく、0.1mm以上であることがより好ましい。また、凹部50sの幅Wの上限値は、適宜選択できるが、第1発光素子21と第2発光素子22間の被覆部材50の肉厚の確保の観点から、0.4mm以下であることが好ましく、0.3mm以下であることがより好ましい。凹部50sの長さ(図1A中、L)は、0.3mm以上であることが好ましく、被覆部材50の上面から下面までの全長にわたることがより好ましい。凹部50sの底面50bは、基板10の上面10aからの深さ(図1E中、D)が、0.01mm以上であることが好ましく、0.1mm以上であることがより好ましい。また、別の観点から、基板10の凹部50sが配置されていない厚み(図1E中、T)は、0.3mm以上であることが好ましく、0.4mm以上であることがより好ましい。底面50bは、図1Dに示すように、平坦な面であってもよいし、図1Eに示すように曲面を有する底面150bであってもよい。
このような形状の凹部50sが配置されることにより、被覆部材50におけるクラック、特に、第1発光素子21、第2発光素子22、後述する第1透光性部材31、第2透光性部材32の各側面と直接接する部位におけるクラックの発生を効果的に低減することができる。
なお、被覆部材50の上面は、平坦であってもよいし、硬化前の表面張力による這い上がり及び/又は硬化収縮などにより凸面又は凹面であってもよい。ここで、凹部50sは、このような硬化収縮によう凹面とは別に形成されるものである。
被覆部材50において、凹部50sは、回転円盤状のダイシングソーによる切削、引き切り型又は押し切り型のカッターによる切断、金型による成形等によって形成することができる。切削や切断により、被覆部材50から基体10にわたる凹部50sを容易に形成することができる。
製造工程中、複数の発光素子21、22または複数の被覆部材50を行列状に形成し、それぞれ異なる発光装置の一部となる隣接する被覆部材50を連続して線状に切断することで、凹部50sを形成してもよい。これにより、容易に凹部50sを形成することができ好ましい。
後述するように、1つの発光装置に搭載される発光素子が3以上である場合には、凹部50sは、隣接する2つの発光素子間にそれぞれ配置することが好ましい。
(基板10)
基板10は、発光素子を実装するためのものであり、その上面10aに一対の第1ランド11と、一対の第2ランド12とを含む。また、これらランド間を連結する、または引きまわす配線が、基板10の上面10a、内部、上面に対向する下面10b等に配置されていてもよい。
基板10は、例えば、樹脂、繊維強化樹脂、セラミックス、ガラス、金属、紙等を用いて構成することができる。樹脂又は繊維強化樹脂としては、エポキシ、ガラスエポキシ、ビスマレイミドトリアジン(BT)、ポリイミド等が挙げられる。セラミックスとしては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ジルコニウム、酸化チタン、窒化チタン又はこれらの混合物等が挙げられる。金属としては、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、銀、金、チタン又はこれらの合金などが挙げられる。なかでも、絶縁性の材料からなることが好ましい。また、これらセラミックス、樹脂又はガラス等の中に、フィラー等が含有されていてもよい。
基板は、特に、第1発光素子及び第2発光素子の線膨張係数に近い物性を有するものを用いて形成することが好ましい。これにより、基板と第1発光素子及び第2発光素子との剥離、第1発光素子及び第2発光素子が基板の熱膨張係数との差によって破壊されるおそれを低減することができる。なお、基板は、線膨張係数が小さいほど、基板10に実装された第1発光素子21及び第2発光素子22が動きにくく、両素子に挟まれた位置の被覆部材50に掛かる熱応力が増大しやすくなる。よって、本実施形態の凹部50sにより被覆部材50の熱応力の籠りを緩和する技術的意義が高くなる。このため、基板の線膨張係数は、15ppm/℃以下であることが好ましく、10ppm/℃以下であることがより好ましく、5ppm/℃以下であることがさらに好ましく、1ppm/℃以上であることが好ましい。なお、基板の線膨張係数とは、上述したセラミックス、樹脂又はガラスのみならず、フィラー等が含有されている場合には、それらの複合材料による基板の線膨張係数とする。
基板10の形状は、例えば、平面形状が四角形等の多角形、円又は楕円形等が挙げられる。なかでも、四角形が好ましく、第1ランドと第2ランドとが配列された方向に長尺である四角形であることがより好ましい。また、基板10は、上面10a及び反対側の下面10bと、第1ランド及び第2ランドの配列方向に延伸し、上面10a及び下面10bに隣接する第1側面と、第1側面の反対側の(対向する)第2側面と、上面10a、下面10b及び第1側面とそれぞれ隣接する第3側面と第4側面とを有しており、第1側面は、第1ランドと第2ランドの配列方向に長尺であることが好ましい。
基板の厚みは、基板の強度の観点から、0.05mm以上であることが好ましく、0.2mm以上であることがより好ましい。また、0.5mm以下であることが好ましく、0.4mm以下であることがより好ましい。
基板10の上面10aには、上述したように、凹部50sの一部が形成されているが、下面10bは、略平坦であってもよく、また、図3Cに示すように、窪み13が配置されていてもよい。窪み13の深さは、基板の強度を確保することができる程度であり、例えば、基板の厚みの5〜50%程度が挙げられる。窪み13の位置は、基板の上面からの透視において、凹部50sと重なっていてもよいし、重なっていなくてもよいし、2以上の窪み13を有しており、全て又は一部が重なっていてもよいが、図3Cに示すように、基板の基体15の下面は、凹部50sに対向する位置に窪みを有していることが好ましい。このような窪みと凹部50sの組み合わせによって、被覆部材50の好ましい応力分散構造を構成することができ、被覆部材50の主要部におけるクラックの発生をいっそう抑制しやすくできる。
窪み13は、基板の下面からの平面視において、第1側面と第2側面のそれぞれに接するように配置されていてもよいし、図3に示すように、一つの辺(例えば第1側面のみ)と接するように配置されていてもよいし、基板の辺の内側に、辺から離間して配置されていてもよい。なかでも、第1側面のみと接するように配置されていることが好ましい(図3C参照)。凹み13の形状は、基板の下面において、四角形等の多角形、円、楕円形又は半円形等のいずれでもよい。厚み方向には、下面に直交する方向に延長していてもよいし、下面に対して傾斜する方向に延長していてもよい。傾斜の程度は、下面に対して±10度が挙げられる。
窪み13の内面には配線の一部が設けられていることが好ましい。これにより、窪み13内に半田等の接合材料を保持するように実装することで、発光装置3を強固に実装することができる。
(第1ランド11及び第2ランド12)
第1ランド11、第2ランド12は、いずれも導電性材料によって形成されていればよく、公知の電極材料の単層又は積層構造とすることができる。例えば、銅、鉄、ニッケル、タングステン、クロム、アルミニウム、銀、金、チタン、パラジウム、ロジウム又はこれらの合金で形成することができる。なかでも、放熱性の観点から、銅又は銅合金を用いることが好ましい。また、第1ランド及び第2ランドの表面には、導電性接着部材等の濡れ性及び/又は光反射性などを確保するという観点から、銀、白金、アルミニウム、ロジウム、金又はこれらの合金などの層が設けられていてもよい。第1ランド11及び第2ランド12は同じ材料及び/又は構造でなくてもよいが、が同じ材料及び/又は構造であることが好ましい。導電性接着部材としては、金、銀、銅などのバンプ、銀、金、銅、プラチナ、アルミニウム、パラジウムなどの金属粉末と樹脂バインダを含む金属ペースト、錫−ビスマス系、錫−銅系、錫−銀系、金−錫系などの半田、低融点金属などのろう材等が挙げられる。
配線は、第1ランド及び第2ランドと同様に、導電性材料によって形成されていればよく、これらと同じ材料で形成されていてもよい。例えば、第1ランド11及び第2ランド12は、基板側からCu/Ni/Au等の積層材料によって形成することができる。第1ランド11及び第2ランド12の厚みは、適当な電気抵抗が得られる程度の厚みがあればよく、第1ランド及び第2ランドと同じ厚みであってもよいし、これらの厚みよりも薄くても、厚くてもよい。
第1ランド及び第2ランドは、基板10の上面において、一列に配列されていることが好ましい。一対の第1ランド又は第2ランドは、用いる発光素子の電極形態によって、一列の配列方向とは異なる方向に配列されていてもよいが、一列と同じ配列方向に配列されていることが好ましい。このように配列される場合には、発光装置の小型化及び薄型化を実現しながら、発光装置を用いる用途に対して最適な配光を与えることができる。
第1ランド及び第2ランドの形状は、用いる発光素子の電極形態によって調整することができ、平面形状が四角形等の多角形、円又は楕円形等が挙げられる。なかでも、四角形が好ましい。第1ランドと第2ランドとの距離は、用いる発光素子の電極形態及び大きさ、被覆部材50の厚み等によって調整することができる。
(第1発光素子21及び第2発光素子22)
第1発光素子21及び第2発光素子22は、少なくとも半導体素子構造を備える。半導体素子構造は、半導体層の積層体、つまり、少なくともn型半導体層とp型半導体層を含み、活性層をその間に介することが好ましい。半導体材料としては、窒化物半導体、InAlGaAs系半導体、InAlGaP系半導体、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、炭化珪素等が挙げられる。なかでも、波長変換物質を効率良く励起できる短波長の光を発光可能な材料である、窒化物半導体を用いることが好ましい。窒化物半導体は、主として一般式InxAlyGa1-x-yN(0≦x、0≦y、x+y≦1)で表される。
第1発光素子及び第2発光素子の発光ピーク波長は、半導体材料やその混晶比によって、紫外域から赤外域まで選択することができる。第1発光素子及び第2発光素子の発光ピーク波長は、発光効率並びに波長変換物質の励起及びその発光との混色関係等の観点から、400〜530nmが好ましく、420〜490nmがより好ましく、450〜475nmがさらに好ましい。
半導体素子構造は、半導体積層体に加え、半導体素子構造を構成する半導体の結晶を成長可能な結晶成長用基板を有していてもよいし、結晶成長用基板から分離した半導体素子構造に接合させる接合用基板を有していてもよい。素子基板としては、サファイア、スピネル、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、シリコン、炭化珪素、ガリウム砒素、ガリウム燐、インジウム燐、硫化亜鉛、酸化亜鉛、セレン化亜鉛、ダイヤモンドなどが挙げられる。なかでも、サファイアが好ましい。素子基板は透光性を有することにより、フリップチップ実装を採用しやすく、また光の取り出し効率を高めやすい。素子基板の厚さは、例えば0.02〜1mmが挙げられる。
また、半導体素子構造は、正負電極及び/又は絶縁膜を含んでもよい。正負電極は、金、銀、錫、白金、ロジウム、チタン、アルミニウム、タングステン、パラジウム、ニッケル又はこれらの合金で構成することができる。絶縁膜は、珪素、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種の元素の酸化物又は窒化物で構成することができる。
第1発光素子及び第2発光素子としては、例えばLEDチップが挙げられる。
発光素子は、平面形状が、矩形、特に正方形状又は一方向に長い長方形状であることが好ましいが、六角形状等であってもよい。第1発光素子及び第2発光素子又はそれらの素子基板の側面は、上面及び/又は下面に対して、垂直であってもよいし、内側又は外側に傾斜していてもよい。第1発光素子及び第2発光素子は、同一面側に正負(p、n)電極を有することが好ましい。
1つの発光装置に搭載される発光素子の個数は3つ以上でもよい。この場合、発光素子の発光波長は、同じでもよいし、異なっていてもよい。
(透光性部材)
発光装置は、発光素子の上に、透光性部材を有することが好ましい。透光性部材は、発光素子から発せられる光を装置外部に透過させる部材であり、複数の発光素子に対して1つであってもよいが、それぞれの発光素子に対して1つ配置されることが好ましい。例えば、発光装置は、第1発光素子21の上面上に接合される第1透光性部材31、第2発光素子22の上面上に接合される第2透光性部材32を備えることが好ましい。
透光性部材は、発光素子の発光ピーク波長における光透過率が、60%以上、好ましくは80%以上又は90%以上であるものが好ましい。
透光性部材は、例えば、透光性を有する母材により形成することができる。透光性部材は、発光素子の光を吸収して発光する波長変換物質及び/又はフィラーを含むことが好ましい。また、透光性部材は、波長変換物質と、例えば、アルミナなどの無機物との焼結体又は波長変換物質の板状結晶などを用いてもよい。
透光部材は、透光性の母材のみ、透光性の母材と波長変換物質及び/又はフィラー、透光性の母材と、別の波長変換物質及び/又はフィラー等の2以上の積層構造であってもよい。
被覆部材50と透光性部材31、32との熱膨張係数の差は、被覆部材50と発光素子21、22との熱膨張係数の差よりも小さいことが好ましい。これにより、透光性部材31、32の側面部における被覆部材50の熱応力の籠りを低減し、被覆部材50のクラックの発生を低減することができる。例えば、被覆部材50の母材が樹脂である場合、透光性部材31、32の母材も樹脂であることが好ましい。
一方、高信頼性の発光装置とするために、透光性部材の母材をガラス、アルミナなどの無機物の焼結体を用いて形成すると、被覆部材50と透光性部材との熱膨張係数の差は比較的大きくなる。この場合には、透光性部材の側面において被覆部材に凹部50sを設けることにより、被覆部材50の熱応力の籠りを緩和することができ、被覆部材50のクラックの発生を低減することができる。
(透光性部材の母材)
透光性部材の母材は、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂又はこれらの変性樹脂、ガラス等が挙げられる。なかでも、耐熱性及び耐光性に優れることからシリコーン樹脂及び変性シリコーン樹脂が好ましい。具体的なシリコーン樹脂としては、ジメチルシリコーン樹脂、フェニル−メチルシリコーン樹脂、ジフェニルシリコーン樹脂が挙げられる。第1透光性部材及び第2透光性部材は、これらの母材のうちの1種又は2種以上を積層して構成することができる。
(フィラー)
フィラーとしては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛などが挙げられる。フィラーは、これらのうちの1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。特に、熱膨張係数の小さい酸化珪素が好ましい。また、フィラーとして、ナノ粒子を用いることで、第1発光素子及び第2発光素子の青色光のレイリー散乱を含む散乱を増大させ、波長変換物質の使用量を低減することができる。なお、ナノ粒子とは、粒径が1〜100nmの粒子とする。「粒径」は、例えば、D50で定義することができる。
(波長変換物質)
波長変換物質は、第1発光素子及び第2発光素子が発する一次光の少なくとも一部を吸収して、一次光とは異なる波長の二次光を発する物質である。これにより、可視波長の一次光及び二次光の混色光、例えば白色光を発する発光装置とすることができる。
波長変換物質としては、緑色発光する蛍光体として、イットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(例えばY3(Al,Ga)512:Ce)、ルテチウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(例えばLu3(Al,Ga)512:Ce)、テルビウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(例えばTb3(Al,Ga)512:Ce)系蛍光体、シリケート系蛍光体(例えば(Ba,Sr)2SiO4:Eu)、クロロシリケート系蛍光体(例えばCa8Mg(SiO44Cl2:Eu)、βサイアロン系蛍光体(例えばSi6-zAlzz8-z:Eu(0<z<4.2))、SGS系蛍光体(例えばSrGa24:Eu)などが挙げられる。黄色発光の蛍光体として、αサイアロン系蛍光体(例えばMz(Si,Al)12(O,N)16(但し、0<z≦2であり、MはLi、Mg、Ca、Y、及びLaとCeを除くランタニド元素)などが挙げられる。
上記緑色発光する蛍光体の中には黄色発光する蛍光体もある。イットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体は、Yの一部をGdで置換することで発光ピーク波長を長波長側にシフトさせることができ、黄色発光が可能である。これらの中には、橙色発光が可能な蛍光体もある。赤色発光する蛍光体として、窒素含有アルミノ珪酸カルシウム(CASN又はSCASN)系蛍光体(例えば(Sr,Ca)AlSiN3:Eu)、マンガン賦活フッ化物系蛍光体(一般式(I)A2[M1-aMna6]で表される蛍光体である(但し、上記一般式(I)中、Aは、K、Li、Na、Rb、Cs及びNH4からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、Mは、第4族元素及び第14族元素からなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、aは0<a<0.2を満たす))等が挙げられる。マンガン賦活フッ化物系蛍光体としては、マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体(例えばK2SiF6:Mn)が挙げられる。なかでも、波長変換物質は、マンガン賦活フッ化物蛍光体を含むことが好ましい。マンガン賦活フッ化物系蛍光体は、スペクトル線幅の比較的狭い発光が得られ、色再現性の観点において好ましい反面、水分により劣化しやすい性質を有している。よって、本実施形態のように凹部50sにより被覆部材50の熱応力の籠りを緩和し、被覆部材50のクラックの発生を抑え、そのクラックからの水分の浸入を低減する技術的意義が高い。波長変換物質は、1種であってもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、透光性部材は、蛍光体含有部と蛍光体とを実質的に含まない部分を有していてもよい。蛍光体含有部の上方に蛍光体を実質的に含まない部分を配置する場合には、蛍光体を水分等の外部環境から保護することができる。
透光性部材のうち、水分により劣化しやすいマンガン賦活フッ化物系蛍光体を含有する蛍光体含有部は、透光性部材の発光素子の上面を形成する部分よりも発光素子に近い側に設けることが好ましい。一方、被覆部材50のクラックは、発光素子と被覆部材との熱膨張係数の差によって発生するために、発光素子の近傍において発生する可能性が高い。そのため、透光性部材が上述のような構成を有する場合には、本実施形態のように凹部50sにより被覆部材50の熱応力の籠りを緩和し、被覆部材50のクラックの発生を抑え、そのクラックからの水分が浸入するおそれを低減する技術的意義が高い。
発光素子が複数ある場合、透光性部材は、同じ波長変換物質を含んでいてもよいし、異なる波長変換物質を含んでいてもよい。例えば、第1発光素子の上に第1発光素子からの光を吸収して第1発光素子からの光と混合した白色系の光を出力可能な第1透光性部材を設け、第2発光素子の上に第2発光素子からの光を吸収して第2発光素子からの光と混合した橙色系の光を出力可能な第2透光性部材を設けてもよい。
透光性部材は、発光素子の上面上に、接合部材を介して接合されている。接合部材は、透光性を有し、発光素子と透光性部材との密着性を確保し得る接着剤等が挙げられる。接合部材としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂又はこれらの変性樹脂が挙げられる。なかでも、耐熱性及び耐光性に優れるシリコーン樹脂及び変性シリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂としては、ジメチルシリコーン樹脂、フェニル−メチルシリコーン樹脂、ジフェニルシリコーン樹脂が挙げられる。また、接合部材は、透光性部材と同様にフィラーを含有してもよい。
透光性部材が、発光素子の上面上に接合されている場合、透光性部材の側面は、被覆部材で被覆されていることが好ましい。この場合、透光性部材の側面の一部のみを被覆していてもよいが、全ての側面を被覆していることが好ましい。また、透光性部材の上面31a、32aは、被覆部材の上面50aと同一面を構成することが好ましい。
第1発光素子21及び第2発光素子22の上面上に、それぞれ発熱源となる波長変換物質を含む第1透光性部材31及び第2透光性部材32が接合されていると、基板上の被覆部材50に負荷される熱応力が増大しやすくなる。よって、本実施形態のように凹部50sにより被覆部材50の熱応力の籠りを緩和する技術的意義が高い。特に、他の発光装置用蛍光体に比べて発熱量が多いマンガン賦活フッ化物系蛍光体を用いる場合、本実施形態のように凹部50sにより被覆部材50の熱応力の籠りを緩和する技術的意義が高い。
なお、透光性部材が発光素子の上面上に接合される場合、透光性部材を接合する接合部材が、発光素子の側面の一部を被覆することがある。このような場合には、被覆部材は、接合部材を介して発光素子の側面の全部を被覆するように配置することが好ましい。
<実施の形態1>
この発光装置1は、図1A〜1Dに示すように、横3.1mm、縦0.4mm、奥行き0.7mmの側面発光型のLEDである。
基板10は、線膨張係数が約3ppm/℃のBT樹脂製(例えば三菱瓦斯化学社製:HL832NSF typeLCA)の直方体状の小片であり、その大きさは、横3.1mm、縦0.4mm、奥行き(厚さ)0.36mmである。基板10の上面10aには、第1ランド11及び第2ランド12が配置されており、基板10の上面10a側から銅/ニッケル/金が積層されて構成されている。第1ランド11及び第2ランド12は、それぞれ、正極端子と負極端子の対で構成されている。第1ランド11の正極端子と第2ランド12の負極端子は、配線13によって接続されている。基板10は2つの貫通ビアを有しており、上面上に形成された配線13が、下面10bに形成された配線18と、貫通ビアを介して電気的に接続されている。基板10の下面には、さらに、基板の側面を通って第1ランドの負極端子と電気的に接続した配線16、第2ランドの正極端子と電気的に接続した配線17が形成されている。下面10bの各配線16、17、18の一部は、ソルダーレジストである絶縁膜19に被覆されている。
第1ランド11及び第2ランド12上には、それぞれ、第1発光素子21及び第2発光素子22が導電性接着部材60を介してフリップチップ実装されている。第1発光素子21及び第2発光素子22はそれぞれ、サファイア基板上に窒化物半導体のn型層、活性層、p型層が順次積層された、青色(発光ピーク波長452nm)発光可能な、横1.1mm、縦0.2mm、奥行き(厚さ)0.12mmの直方体状のLEDチップである。導電性接着部材60は、奥行き(厚さ)0.015mmの金−錫系半田(Au:Sn=79:21)である。
第1発光素子21及び第2発光素子22の上面上には、それぞれ、第1透光性部材31及び第2透光性部材32が接合部材70を介して接着されている。第1透光性部材31及び第2透光性部材32は、それぞれ、フィラーとして酸化珪素のナノ粒子を含有するフェニル−メチルシリコーン樹脂である母材中に、波長変換物質としてユーロピウム賦活βサイアロンの第1蛍光体及びマンガン賦活フッ化珪酸カリウムの第2蛍光体を含有する。第1透光性部材31及び第2透光性部材32は、それぞれ、横1.21mm、縦0.24mm、奥行き(厚さ)0.16mmの直方体状の小片である。第1透光性部材31及び第2透光性部材32は、それぞれ、第1発光素子21及び第2発光素子22側から、母材と第1蛍光体からなる層、母材と第2蛍光体からなる層、母材からなる層が積層されている。接合部材70は、奥行き(厚さ)0.005mmのジメチルシリコーン樹脂の硬化物である。
基板10の上面上には、第1ランド11、第2ランド12、第1発光素子21、第2発光素子22、第1透光性部材31及び第2透光性部材32の側方の全周を包囲するように、光反射性の被覆部材50が形成されている。被覆部材50は、フェニル−メチルシリコーン樹脂中に、白色顔料として酸化チタンを60wt%含有している。被覆部材50の上面50aは、第1透光性部材31の上面及び第2透光性部材32の上面と実質的に同一面を構成している。被覆部材50の最大外径は、基板10の上面10aの外径に一致している。つまり、被覆部材50の長手方向に沿って延長する側面は、基板10の長手方向に沿って延長する側面と同一面を構成する。
被覆部材50は、第1発光素子21及び第2発光素子22間のほぼ中央に、長手方向に沿って延長する側面と直交する凹部50sが形成されている。凹部50sは、平面視において、幅(図1中、W)が0.05mmであり、長さ(図1中、L)は、0.4mmある。凹部50sの底面50bは、基板10の上面10aからの深さ(図1中、D)が、約0.08mmである。基板10の凹部50sが配置されていない厚み(図1中、T)は、約0.28mm以上である。凹部50sの側方から第1発光素子21及び第2発光素子22までの被覆部材50の厚みは、0.3mmである。本実施形態において、被覆部材50の熱膨張係数は約110ppm/℃、第1発光素子21及び第2発光素子22の熱膨張係数は約6〜7ppm/℃である。
本実施形態の被覆部材50の熱膨張量は被覆部材50の長手方向に大きくなるが、このような発光装置1によれば、被覆部材50を、長手方向を分断する形態で凹部50sを設けることにより、第1発光素子21と第2発光素子22間の被覆部材50に伸び代が与えられ、この伸び代によって、被覆部材50に負荷される熱応力を緩和させて、被覆部材50の熱応力の籠りを低減させることができる。その結果、被覆部材におけるクラックの発生を低減することができる。
また、凹部50sの底面50bが基板10内に配置されていることにより、被覆部材のみならず、基板からの放熱をも確保することができ、より一層、クラックの発生を低減することができる。
さらに、凹部50sは、発光装置1の位置決めガイドとして利用することもできる。
<実施の形態2>
この発光装置2は、図2に示すように、発光素子が6個、長手方向に配列している以外、発光装置1と実質的に同様の構成を有する。
この発光装置2は、発光装置1と同様の効果を有する。
<実施の形態3>
この発光装置3は、図3A、3B、3Cに示すように、被覆部材50が、基板20の上面20a全体を被覆している。また、第1ランド11及び第2ランド12の端部が発光装置の外部に露出しておらず、被覆部材50によって被覆されている。第1ランド11及び第2ランド12と接続された配線26、27は、基板20を貫通するビアホール内に形成されている。また、基板20の下面20bは、凹部50sに対向する位置に1つの第1の窪み13と、凹部50sに対向しない位置に2つの第2の窪み13とを有している。第1の窪み13及び第2の窪み13は基板20の短手方向の一方に偏って形成されている。配線28はこれら窪みの内面上にも延伸して形成されている。第1の窪み13及び第2の窪み13は、略半円柱形状である。基板20の下面に設けられた各配線の一部は、ソルダーレジストである絶縁膜19に被覆されている。
また、上面視における第1ランド11と第2ランド12との配列方向に対して垂直な方向に面する被覆部材50の側面50dが、同方向に面する基板20の側面に対して、発光装置の内側に傾斜している。
上記以外は、発光装置1と実質的に同様の構成を有する。
この発光装置3は、発光装置1と同様の効果を有する。また、第1ランド11及び第2ランドの端部が被覆部材50によって被覆されていることにより、第1ランド11及び第2ランド12の端部から被覆部材50が剥離するおそれを低減でき、信頼性の高い発光装置3とすることができる。また、凹部50sの対応する位置における基板20の下面20bに第1の窪み13を配置することによって、被覆部材50の応力を良好に分散することができる。これにより、被覆部材50の主要部におけるクラックの発生をよりいっそう抑制することができる。
本発明の一実施の形態に係る発光装置は、液晶ディスプレイのバックライト装置、各種照明器具、大型ディスプレイ、広告や行き先案内等の各種表示装置、プロジェクタ装置、さらには、デジタルビデオカメラ、ファクシミリ、コピー機、スキャナ等における画像読取装置などに利用することができる。
1、2、3 発光装置
10、20 基板
10a、20a 上面
10b、20b 下面
11 第1ランド
12 第2ランド
13 窪み
16、17、18、26、27、28 配線
19 絶縁膜
21 第1発光素子
22 第2発光素子
31 第1透光性部材
32 第2透光性部材
31a 上面
32a 上面
50 被覆部材
50a 上面
50b、150b 底面
50bb 下面
50d 側面
50s 凹部
60 導電性接着部材
70 接合部材

Claims (11)

  1. 第1ランド及び第2ランドを上面に有し、該上面と反対側の下面に配線が配置された基板と、
    前記第1ランドにフリップチップ実装された第1発光素子と、
    前記第2ランドにフリップチップ実装された第2発光素子と、
    前記第1発光素子の側面、前記第2発光素子の側面及び前記基板の上面を被覆する光反射性の被覆部材とを備える発光装置であって、
    前記第1発光素子及び第2発光素子間の前記被覆部材には凹部が設けられており、前記凹部の底面は前記基板内に配置され、
    前記基板の下面には、前記第1ランド及び前記第2ランドの配列方向に延長する前記基板の一方の側面のみと接し、内面には前記配線の一部が設けられた窪みが配置されている発光装置。
  2. 前記被覆部材の材料の線膨張係数が前記基板の材料の線膨張係数よりも高い請求項1に記載の発光装置。
  3. 前記被覆部材及び前記基板は、
    前記上面及び反対側の下面と、
    前記第1ランド及び前記第2ランドの配列方向に延伸し、前記上面及び前記下面に隣接する第1側面と、
    前記第1側面の反対側の第2側面と、
    前記上面、前記下面及び前記第1側面とそれぞれ隣接する第3側面と第4側面とを有し、
    前記被覆部材及び前記基板の前記第1側面は、前記第1ランドと前記第2ランドの配列方向に長尺である請求項1又は2に記載の発光装置。
  4. 前記被覆部材の第1側面と、前記基板の第1側面とが略面一である請求項3に記載の発光装置。
  5. 前記凹部が、上面視で、前記被覆部材における前記第1側面及び前記第2側面の少なくとも一方に達している請求項4に記載の発光装置。
  6. 前記凹部は、前記被覆部材の長手方向において略中央の位置に、前記長手方向と交差するように設けられている請求項3〜5のいずれか1つに記載の発光装置。
  7. 前記第1発光素子の上面上に接合され、前記第1発光素子の光を吸収して発光する波長変換物質を含む第1透光性部材と、
    前記第2発光素子の上面上に接合され、前記第2発光素子の光を吸収して発光する波長変換物質を含む第2透光性部材とを備え、
    前記被覆部材が、前記第1透光性部材の側面及び前記第2透光性部材の側面を被覆している請求項1〜4のいずれか1つに記載の発光装置。
  8. 前記第1ランド及び第2ランドは、前記配線に接続されている請求項1〜7のいずれか1つに記載の発光装置。
  9. 前記被覆部材の前記第1側面は前記基板の前記第1側面と略面一であり、前記被覆部材の前記第2側面は前記基板の前記第2側面と略面一である請求項3〜8のいずれか1つに記載の発光装置。
  10. 前記基板の基体の下面において、前記凹部に対向する位置に、前記窪みが位置する請求項1〜のいずれか一つに記載の発光装置。
  11. 上面視における前記第1ランドと前記第2ランドとの配列方向に対して垂直な方向に沿った前記被覆部材の側面が、同方向に面する前記基板の側面に対して前記発光装置の内側に傾斜している請求項1〜10のいずれか一つに記載の発光装置。
JP2017022231A 2017-02-09 2017-02-09 発光装置 Active JP6699580B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017022231A JP6699580B2 (ja) 2017-02-09 2017-02-09 発光装置
US15/889,677 US10504876B2 (en) 2017-02-09 2018-02-06 Light-emitting device
KR1020180015862A KR102447343B1 (ko) 2017-02-09 2018-02-08 발광 장치
CN201810133633.8A CN108417686B (zh) 2017-02-09 2018-02-09 发光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017022231A JP6699580B2 (ja) 2017-02-09 2017-02-09 発光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018129434A JP2018129434A (ja) 2018-08-16
JP6699580B2 true JP6699580B2 (ja) 2020-05-27

Family

ID=63038002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017022231A Active JP6699580B2 (ja) 2017-02-09 2017-02-09 発光装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10504876B2 (ja)
JP (1) JP6699580B2 (ja)
KR (1) KR102447343B1 (ja)
CN (1) CN108417686B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6705479B2 (ja) * 2018-09-12 2020-06-03 日亜化学工業株式会社 光源装置の製造方法
JP7186358B2 (ja) 2018-11-15 2022-12-09 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法、発光装置及び光源装置
KR20200093900A (ko) 2019-01-29 2020-08-06 삼성전자주식회사 발광 소자 패키지 및 이의 제조 방법

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02168634A (ja) * 1988-12-21 1990-06-28 Nec Corp 半導体装置の製造方法
JP3668438B2 (ja) * 2001-06-07 2005-07-06 シャープ株式会社 チップ発光ダイオード
JP5340763B2 (ja) * 2009-02-25 2013-11-13 ローム株式会社 Ledランプ
JP2010278266A (ja) 2009-05-28 2010-12-09 Toshiba Lighting & Technology Corp 発光装置及び照明装置
JP5366687B2 (ja) * 2009-07-14 2013-12-11 シチズン電子株式会社 発光装置
US8431951B2 (en) * 2009-10-01 2013-04-30 Excelitas Canada, Inc. Optoelectronic devices with laminate leadless carrier packaging in side-looker or top-looker device orientation
JP5482098B2 (ja) * 2009-10-26 2014-04-23 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP5803925B2 (ja) * 2010-09-03 2015-11-04 日亜化学工業株式会社 発光装置及びその製造方法
JP5622494B2 (ja) * 2010-09-09 2014-11-12 スタンレー電気株式会社 発光装置およびその製造方法
JP4778107B1 (ja) 2010-10-19 2011-09-21 有限会社ナプラ 発光デバイス、及び、その製造方法
JP5744643B2 (ja) 2011-06-28 2015-07-08 シチズン電子株式会社 発光装置の製造方法
JP5533830B2 (ja) * 2011-09-27 2014-06-25 豊田合成株式会社 線状光源装置
JP5933959B2 (ja) * 2011-11-18 2016-06-15 スタンレー電気株式会社 半導体光学装置
JP6680670B2 (ja) 2013-04-11 2020-04-15 ルミレッズ ホールディング ベーフェー トップエミッション型半導体発光デバイス
JP6186904B2 (ja) 2013-06-05 2017-08-30 日亜化学工業株式会社 発光装置
US9673364B2 (en) 2013-07-19 2017-06-06 Nichia Corporation Light emitting device and method of manufacturing the same
JP6277860B2 (ja) 2013-07-19 2018-02-14 日亜化学工業株式会社 発光装置及びその製造方法
JP6175952B2 (ja) 2013-07-19 2017-08-09 日亜化学工業株式会社 発光装置
CN104425679B (zh) * 2013-09-04 2017-04-26 展晶科技(深圳)有限公司 发光二极管
JP6164038B2 (ja) 2013-10-16 2017-07-19 豊田合成株式会社 発光装置
JP6661890B2 (ja) * 2014-05-21 2020-03-11 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP6519311B2 (ja) 2014-06-27 2019-05-29 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP2016066680A (ja) * 2014-09-24 2016-04-28 スタンレー電気株式会社 発光装置
US9446941B2 (en) * 2014-12-12 2016-09-20 Apple Inc. Method of lower profile MEMS package with stress isolations
US9412692B2 (en) * 2015-01-13 2016-08-09 Winbond Electronics Corp. Flexible microsystem structure

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180092883A (ko) 2018-08-20
CN108417686A (zh) 2018-08-17
CN108417686B (zh) 2023-03-14
KR102447343B1 (ko) 2022-09-26
US10504876B2 (en) 2019-12-10
JP2018129434A (ja) 2018-08-16
US20180226385A1 (en) 2018-08-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6384508B2 (ja) 発光装置
TWI766841B (zh) 發光裝置及其製造方法
JP6662322B2 (ja) 発光装置
US10825968B2 (en) Method for manufacturing light-emitting device
JP6515940B2 (ja) 発光装置及びその製造方法
JP2017188592A (ja) 発光装置
JP6432639B2 (ja) 発光装置
JP6699580B2 (ja) 発光装置
KR20190005802A (ko) 발광 장치
JP6729525B2 (ja) 発光装置の製造方法
JP7189413B2 (ja) 発光装置
JP6658829B2 (ja) 発光装置の製造方法
JP2017224867A (ja) 発光装置及びその製造方法
JP2019057627A (ja) 発光装置の製造方法
JP7089159B2 (ja) 発光装置
JP2020072144A (ja) 発光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180405

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190123

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190412

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190910

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191008

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200331

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200413

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6699580

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250