JP6698836B2 - 膜形成用組成物、及び積層体の製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、膜形成用組成物、及び積層体の製造方法に関する。

屋内又は屋外に設置されて長期間にわたって使用される装置、建材等は、様々な環境に曝されるため、徐々に埃、塵、砂利等が堆積したり、風雨時の雨水に濡れたりする等して、予定されている機能及び性能が損なわれる場合がある。

例えば、近年、住宅の防犯用途、又は商用ビル若しくは屋外のセキュリティシステムとして、監視カメラが広く利用されている。監視カメラは、電荷結合素子（ＣＣＤ）カメラ等の撮像装置と保護カバーとを備えた固定型装置であり、一旦設置されると長期間にわたり使用されることが通例である。保護カバーは、撮影を可能にする光透過性を有しつつ、雨水、砂利等から撮像装置を保護する役割を果たしている。

監視カメラの保護カバーは、撮像装置を保護しつつも、常に安定した画像の撮影を可能とするため、長期間にわたって清掃の要らないメンテナンスフリーであることが要求される。ところが、一般に監視カメラのように屋外に設置されて使用される装置は、長期使用に伴って、機器の表面に水滴、埃、塵、砂等が付着し、徐々に光透過性を損なう傾向にある。監視カメラの場合、保護カバーの表面に埃、塵、砂等が堆積しやすく、堆積物のサイズ又は量によっては、光透過性が著しく低下するばかりか、期待される画像が記録できなくなる懸念も生じる。
このような事情により、屋外の環境に曝される装置、建材等に、水滴、埃、塵、砂等が付着することを防止するための技術が検討されている。屋外の環境に曝される装置、建材等としては、監視カメラの他、自動車のライト、照明、標識、車庫の屋根、道路用防音壁などが挙げられる。

上記に関連する技術としては、例えば、特定構造を有する化合物から形成されるシロキサンバインダー、帯電防止剤、及びシリカ粒子を少なくとも含み、コート剤の全固形分に対する界面活性を示す成分の含有率が０．５質量％以上である水性防汚コート剤が開示されている（国際公開第２０１６／０５６４８９号参照）。この水性防汚コート剤によれば、汚れが生じ難く、汚れた場合は汚れを容易に除去し得る膜を形成することができるとされている。
また、メタノール及び／又はエタノールを２０ｗｔ％〜８０ｗｔ％と、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、又はグリコールエーテル２０ｗｔ％〜８０ｗｔ％と、オルガノシリカゾルを１．０ｗｔ％〜７０．０ｗｔ％と、テトラヒドロフラン０．１ｗｔ％〜３．０ｗｔ％と、ホウ酸を０．０２ｗｔ％〜０．４ｗｔ％と、を含有する有機基材用防曇防汚剤が提案されている（特許第５８０４９９６号公報参照）。この有機基材用防曇防汚剤は、有機基材に親水性の無機硬化塗膜を形成させ、セルフクリーニングによる防汚効果を発揮するとされている。

ところで、コート剤においては、コート剤の効果を持続させる観点から、密着性に優れる膜を形成できることが求められる。また、コート剤には、装置、建材等の機能及び性能を損なわないように、透明性に優れる膜を形成できることも求められる。
上述の点に関し、国際公開第２０１６／０５６４８９号に記載された水性防汚コート剤を用いて形成される膜は、樹脂基材に対する密着性が十分とはいえず、更に改良の余地がある。特許第５８０４９９６号公報に記載された防曇防汚剤では、アルコール系溶剤及びホウ酸を含むことで、有機基材に対する密着性を高めているが、やはり十分とはいえず、また、膜の透明性には着目していない。

本発明の一実施形態は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、密着性及び透明性に優れる膜を形成することができる膜形成用組成物を提供することを課題とする。
また、本発明の一実施形態は、基材と膜との密着性に優れる積層体の製造方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決するための具体的な手段には、以下の実施態様が含まれる。

［１］ 下記式（１）で表されるシロキサン化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、ケトン系溶剤と、水と、を含む膜形成用組成物。

式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜６の１価の有機基を表す。ｎは、２〜２０の整数を表す。

［２］ 更に、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、及びエーテル系溶剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤を含む［１］に記載の膜形成用組成物。
［３］ 更に、ウレタン系樹脂及び（メタ）アクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂を含む［１］又は［２］に記載の膜形成用組成物。
［４］ （メタ）アクリル系樹脂が、ポリアクリル酸である［３］に記載の膜形成用組成物。

［５］ 基材上に、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の膜形成用組成物を付与することにより膜を形成することを含む積層体の製造方法。
［６］ 基材が、ポリカーボネート基材である［５］に記載の積層体の製造方法。

本発明の一実施形態によれば、密着性及び透明性に優れる膜を形成することができる膜形成用組成物が提供される。
また、本発明の一実施形態によれば、基材と膜との密着性に優れる積層体の製造方法が提供される。

以下、本発明を適用した膜形成用組成物及び積層体の製造方法の実施形態の一例について説明する。但し、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜、変更を加えて実施することができる。

本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、膜形成用組成物中の各成分の量は、各成分に該当する物質が膜形成用組成物中に複数存在する場合には、特に断らない限り、膜形成用組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。

本明細書において、「溶媒」とは、水、有機溶剤、及び水と有機溶剤との混合溶媒を意味する。
本明細書における「固形分」との語は、溶媒を除く成分を意味し、溶媒以外の低分子量成分等の液状成分も、本明細書における「固形分」に含まれる。
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念である。

［膜形成用組成物］
本実施形態の膜形成用組成物は、上記式（１）で表されるシロキサン化合物（以下、「特定シロキサン化合物」ともいう。）の加水分解物と、シリカ粒子と、ケトン系溶剤と、水と、を含む膜形成用組成物である。
本実施形態の膜形成用組成物は、特定シロキサン化合物の加水分解物、シリカ粒子、及び水に、ケトン系溶剤を組み合わせて含むことで、透明性及び密着性に優れる膜を形成することができる。

本実施形態の膜形成用組成物に対して、国際公開第２０１６／０５６４８９号に記載された水性防汚コート剤は、特定シロキサン化合物の加水分解物、シリカ粒子、及び水を含んでいるが、溶剤としてアルコール系溶剤を含み、ケトン系溶剤については含んでいない。本発明者らが検討したところ、溶剤としてアルコール系溶剤を含み、ケトン系溶剤を含まない膜形成用組成物では、密着性に優れる膜を形成できないことが確認された。

特許第５８０４９９６号公報に記載された防曇防汚剤は、オルガノシリカゾルと、アルコール系溶剤及びホウ酸とを組み合わせることで、形成される膜の密着性を高めている。特許第５８０４９９６号公報では、膜の密着性を向上させるために、ケトン系溶剤を選択することについて着目すらしていない。また、膜の透明性についても着目していない。

また、本実施形態の膜形成用組成物は、特定シロキサン化合物の加水分解物及びシリカ粒子を含むため、親水性に優れた膜を形成することができる。親水性に優れる膜では、表面に付着した水の接触角が低いため、微小な水滴が膜の表面に付着することで発生する膜の曇りが抑制される。すなわち、本実施形態の膜形成用組成物は、防曇性に優れる膜を形成することができる。

＜特定シロキサン化合物の加水分解物＞
本実施形態の膜形成用組成物は、下記式（１）で表されるシロキサン化合物（即ち、特定シロキサン化合物）の加水分解物を含む。

式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜６の１価の有機基を表す。ｎは、２〜２０の整数を表す。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４で表される炭素数１〜６の有機基は、直鎖状であってもよいし、分岐を有していてもよいし、環状であってもよい。
１価の有機基としては、アルキル基、アルケニル基等が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４がアルキル基を表す場合のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ―ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４が炭素数１〜６の１価の有機基（好ましくはアルキル基）であることにより、特定シロキサン化合物の加水分解性が良好となる。なお、特定シロキサン化合物の加水分解性がより良好であるという点において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１又は２のアルキル基であることが更に好ましい。

式（１）において、ｎは、２〜２０の整数を表す。ｎが２以上であると、特定シロキサン化合物の反応性を制御しやすく、例えば、表面親水性に優れた膜を形成することができる。ｎが２０以下であると、膜形成用組成物の粘度が高くなりすぎず、ハンドリング性及び均一塗布性が良好となる。ｎは、３〜１２であることが好ましく、５〜１０であることがより好ましい。

表１に、特定シロキサン化合物の例を、式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４、並びにｎにより記載する。但し、本実施形態における特定シロキサン化合物は、表１に記載の例示化合物に限定されるものではない。

本実施形態の膜形成用組成物は、既述の特定シロキサン化合物の加水分解物を含む。
特定シロキサン化合物は、水と共存することで、少なくとも一部が加水分解される。特定シロキサン化合物の加水分解物は、特定シロキサン化合物と水とが反応することで、特定シロキサン化合物のケイ素原子に結合したＯＲ^１、ＯＲ^２、ＯＲ^３、及びＯＲ^４の少なくとも一部がヒドロキシ基に置換された化合物である。特定シロキサン化合物の加水分解物を含む膜形成用組成物により得られる膜は、特定シロキサン化合物の加水分解物が有する親水性基であるヒドロキシ基に起因して、表面親水性が良好なものとなると推定される。
加水分解反応に際して、特定シロキサン化合物の末端基（即ち、−ＯＲ^１、−ＯＲ^２、−ＯＲ^３、又は−ＯＲ^４）の全てが反応する必要はないが、膜形成用組成物の塗布及び乾燥により得られる膜の親水性がより良好になるという観点からは、より多くの末端基が加水分解されていることが好ましい。

特定シロキサン化合物としては、市販品を用いることができる。
特定シロキサン化合物の市販品の例としては、三菱化学（株）のＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：５〕、ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５６〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：１１〕、ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５７〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：１３〕、ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５６Ｓ〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：１６〕、ＭＫＣ（登録商標）メチルシリケート５３Ａ〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：７〕、ＭＫＣ（登録商標）エチルシリケート４０〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：エチル基、ｎの平均：５〕、ＭＫＣ（登録商標）エチルシリケート４８〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：エチル基、ｎの平均：１０〕、ＭＫＣ（登録商標）ＥＭＳ４８５〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基及びエチル基が５０％ずつ、ｎの平均：１０〕等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物は、特定シロキサン化合物の加水分解物を、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物における特定シロキサン化合物の加水分解物の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。
また、本実施形態の膜形成用組成物における特定シロキサン化合物の加水分解物の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、８０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以下であることが更に好ましい。
特定シロキサン化合物の加水分解物の含有率が、膜形成用組成物の全固形分に対して１質量％以上であると、基材との密着性防汚性に優れる膜を形成することができる。また、特定シロキサン化合物の加水分解物の含有率が、膜形成用組成物の全固形分に対して、１質量％以上８０質量％以下であると、表面の水接触角が低く抑えられるため、防汚性が良好で、かつ、汚れた場合には汚れ落ちが容易なセルフクリーニング性を有する膜を形成することができる。

＜シリカ粒子＞
本実施形態の膜形成用組成物は、シリカ粒子を含む。
本実施形態の膜形成用組成物において、シリカ粒子は、形成される膜の物理耐性及び親水性の向上に寄与する。すなわち、シリカ粒子は、形成される膜において硬いフィラーとして機能し、かつ、粒子表面のヒドロキシ基の作用によって形成される膜の親水性を向上し得る。

シリカ粒子としては、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。
ヒュームドシリカは、ケイ素原子を含む化合物を気相中で酸素及び水素と反応させることによって得ることができる。原料となるケイ素化合物としては、ハロゲン化ケイ素（例えば、塩化ケイ素）等が挙げられる。
コロイダルシリカは、原料化合物を加水分解及び縮合するゾルゲル法により合成することができる。コロイダルシリカの原料化合物としては、アルコキシケイ素（例えば、テトラエトキシシラン）、ハロゲン化シラン化合物（例えば、ジフェニルジクロロシラン）等が挙げられる。

シリカ粒子の形状は、特に限定されず、球状、板状、針状、数珠状等の形状が挙げられる。ここでいう「球状」には、真球状の他、回転楕円体、卵形等の形状も含まれる。
シリカ粒子の大きさは、特に限定されない。例えば、膜形成用組成物を用いて形成される膜の透明性がより良好であるという観点からは、シリカ粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、４ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがより好ましく、８ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。

シリカ粒子の平均一次粒子径は、シリカ粒子の形状が球状又は断面楕円等の略球状である場合には、分散したシリカ粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から３００個以上のシリカ粒子について投影面積を測定し、投影面積から円相当径を求める。得られた円相当径をシリカ粒子の平均一次粒子径とする。シリカ粒子の形状が球状又は略球状ではない場合には、その他の方法、例えば、動的光散乱法を用いて、シリカ粒子の平均一次粒子径を求める。

シリカ粒子としては、市販品を用いることができる。
シリカ粒子の市販品の例としては、日産化学工業（株）のスノーテックス（登録商標）シリーズ〔例えば、スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〕、エボニック社のＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）シリーズ、ナルコケミカル社のＮａｌｃｏ（登録商標）シリーズ〔例えば、Ｎａｌｃｏ（登録商標）８６９９〕、扶桑化学工業（株）のクォートロンＰＬシリーズ（例えば、ＰＬ−１）等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物は、シリカ粒子を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。本実施形態の膜形成用組成物がシリカ粒子を２種以上含む場合には、形状、平均一次粒子径等が互いに異なるシリカ粒子を併用してもよい。

本実施形態の膜形成用組成物中のシリカ粒子の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上７０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上５０質量％以下であることが更に好ましい。
膜形成用組成物中のシリカ粒子の含有率が上記範囲内であると、硬度、耐傷性、及び耐衝撃性により優れ、かつ、所望の親水性を有する膜を形成することができる。

＜ケトン系溶剤＞
本実施形態の膜形成用組成物は、ケトン系溶剤を含む。
本実施形態の膜形成用組成物において、ケトン系溶剤は、基材との密着性に寄与する。
ケトン系溶剤としては、特に限定されず、アセトン、ジアセトンアルコール、アセチルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等が挙げられる。

ケトン系溶剤は、より透明性に優れる膜を形成することができるという観点から、ＳＰ値（溶解度パラメーター）が１０．０ＭＰａ^１／２以上のケトン系溶剤であることが好ましい。なお、ケトン系溶剤のＳＰ値の上限は、特に限定されず、基材への塗布性（例えば、ハジキ等の面状故障が生じ難いこと）の観点から、１３．０ＭＰａ^１／２以下であることが好ましい。

ＳＰ値が１０．０ＭＰａ^１／２以上のケトン系溶剤の具体例を以下に示す。但し、本実施形態は、以下の具体例に限定されない。下記の具体例の後ろのカッコ内の数値は、ＳＰ値（単位：ＭＰａ^１／２）を示す。
アセトン（１０．０）、ジアセトンアルコール（１０．２）、アセチルアセトン（１０．３）、シクロペンタノン（１０．４）。

上記のＳＰ値は、分子凝集エネルギーの平方根で表される値で、Ｒ．Ｆ．Ｆｅｄｏｒｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ，１４，ｐ１４７〜ｐ１５４（１９７４）に記載の方法で計算される値である。

本実施形態の膜形成用組成物は、ケトン系溶剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物中のケトン系溶剤の含有率は、１質量％以上９５質量％以下が好ましい。膜形成用組成物中のケトン系溶剤の含有率は、膜形成用組成物が適用される基材の種類、膜形成用組成物中に含まれる素材の溶解性などに応じて、適宜設定することができる。
例えば、ポリカーボネート基材に対して膜形成用組成物を適用する場合には、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、ケトン系溶剤の含有率は、３質量％以上９５質量％以下が好ましく、５質量％以上９５質量％以下がより好ましく、１０質量％以上６０質量％以下が更に好ましく、２０質量％以上５０質量％以下が特に好ましい。また、ポリメチルメタクリレート基材に対して膜形成用組成物を適用する場合には、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、ケトン系溶剤の含有率は、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより好ましく、３質量％以上７質量％以下が更に好ましい
膜形成用組成物中のケトン系溶剤の含有率が上記範囲内であると、透明性及び密着性により優れる膜を形成することができる。

＜水＞
本実施形態の膜形成用組成物は、水を含む。
本実施形態の膜形成用組成物における水の含有率は、特に限定されず、適宜設定することができる。
本実施形態の膜形成用組成物では、例えば薄膜を形成する場合、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、１質量％以上２０質量％以下の量の水を含むことができ、５質量％以上１５質量％以下の量の水を含むことが好ましく、６質量％以上１２質量％以下の量の水を含むことがより好ましい。また、例えば厚膜を形成する場合、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、１質量％以上７０質量％以下の量の水を含むことができ、５質量％以上６０質量％以下の量の水を含むことが好ましく、６質量％以上５０質量％以下の量の水を含むことがより好ましい。
なお、本実施形態における薄膜は厚さ１μｍ以下の膜を指し、厚膜は厚さ１μｍを超える厚さの膜を指す。

＜特定溶剤＞
本実施形態の膜形成用組成物は、更に、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、及びエーテル系溶剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤（以下、「特定溶剤」ともいう。）を含むことが好ましい。
本実施形態の膜形成用組成物は、既述のケトン系溶剤に加えて、更に特定溶剤を含むことで、より密着性に優れる膜を形成することができる。

本明細書において、「アルコール系溶剤」とは、炭化水素の１つの炭素原子に１つのヒドロキシ基が置換した構造の溶剤をいう。
本明細書において、「グリコールエーテル系溶剤」とは、１分子内に１つのヒドロキシ基と少なくとも１つのエーテル基とを有する構造の溶剤をいう。
本明細書において、「エーテル系溶剤」とは、１分子内にヒドロキシ基を有さず、かつ、少なくとも１つのエーテル基を有する構造の溶剤をいう。

アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、ブタノール、ｎ−プロパノール、２−プロパノール、tert−ブタノール、２−ブタノール、ベンジルアルコール、２−メチル−１−ブタノール、２−メチル−２−ブタノール等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、ジエチレングリコールモノへキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ジプロピレングリコールメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等が挙げられる。
エーテル系溶剤としては、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、tert−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，２ジメトキシエタン、ジエチルエーテル等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物が特定溶剤を更に含む場合、特定溶剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物が特定溶剤を更に含む場合、膜形成用組成物中の特定溶剤の含有率は、特に限定されるものではない。
本実施形態の膜形成用組成物中の特定溶剤の含有率は、基材への塗布性（例えば、ハジキ等の面状故障が生じ難いこと）の観点から、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。
また、本実施形態の膜形成用組成物中の特定溶剤の含有率は、基材との密着性の観点から、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、７５質量％以下が好ましく、６５質量％以下がより好ましく、５５質量％以下が更に好ましい。

本実施形態の膜形成用組成物が特定溶剤を更に含む場合、膜形成用組成物中における、ケトン系溶剤の含有量に対する特定溶剤の含有量（即ち、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、及びエーテル系溶剤の合計含有量）の比率は、基材への塗布性及び基材との密着性の観点から、質量基準で、０．１〜５１．４であることが好ましい。膜形成用組成物中における、ケトン系溶剤の含有量に対する特定溶剤の含有量の比率は、膜形成用組成物が適用される基材の種類、膜形成用組成物中に含まれる素材の溶解性などに応じて、適宜設定することができる。
例えばポリカーボネート基材に対して膜形成用組成物を適用する場合には、上記比率は、０．１〜１６．５が好ましく、０．１〜７．１であることがより好ましく、０．３〜５．５であることがさらに好ましく、１．０〜３．１であることが特に好ましい。また、例えばポリメチルメタクリレート基材に対して膜形成用組成物を適用する場合には、上記比率は、１．０〜５１．４であることが好ましく、１．０〜１６．５であることがより好ましく、４．２〜１６．５であることが更に好ましく、７．６〜１６．５であることが特に好ましい。

本実施形態の膜形成用組成物における溶媒の総含有率は、膜形成用組成物の経時における安定性を良好に保つ観点で、膜形成用組成物の全質量に対して、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが更に好ましく、９５質量％以上であることが特に好ましい。

＜その他の成分＞
本実施形態の膜形成用組成物は、必要に応じて、上記にて説明した成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、基材との密着性向上に寄与する密着助剤、膜形成用組成物の粘度を調整する粘度調整剤、特定シロキサン化合物の加水分解物の縮合反応を促進する触媒（以下、「縮合促進触媒」ともいう。）、帯電防止剤、界面活性剤等が挙げられる。

＜密着助剤＞
本実施形態の膜形成用組成物は、密着助剤を更に含んでいてもよい。
本実施形態の膜形成用組成物において、密着助剤は、膜形成用組成物により形成される膜と基材（特に、ポリカーボネート基材）との密着性向上に寄与する。

密着助剤としては、分子内にシロキサン構造を有しない膜形成性成分、例えば、膜形成性の高分子化合物が挙げられ、より具体的には、ウレタン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリリン酸塩、メタリン酸塩等の、末端に極性基（水酸基、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基等）を有する化合物が挙げられる。
これらの中でも、密着助剤としては、膜形成用組成物により形成される膜と基材との密着性がより良好であるという観点から、末端に水酸基、カルボキシ基、及びリン酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有する化合物が好ましく、ウレタン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、及びポリリン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも１種がより好ましく、ウレタン系樹脂及び（メタ）アクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂が更に好ましい。

ウレタン系樹脂としては、特に限定されず、例えば、ポリオール骨格とポリイソシアネート骨格とで形成されるソフトセグメント／ハードセグメント構造を有するポリウレタン等が挙げられる。
ウレタン系樹脂としては、市販品を用いることができる。
ウレタン系樹脂の市販品の例としては、三井化学（株）のタケラック（登録商標）Ｗシリーズ、ＷＳシリーズ、ＷＤシリーズ、三洋化成工業（株）のパーマリン（登録商標）シリーズ、ユーコート（登録商標）シリーズ、ユープレン（登録商標）シリーズ等が挙げられる。

本明細書において、「（メタ）アクリル系樹脂」とは、アクリル酸に由来する構成単位、メタクリル酸に由来する構成単位、アクリル酸エステルに由来する構成単位、及びメタクリル酸エステルに由来する構成単位からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む重合体をいう。
（メタ）アクリル系樹脂としては、アクリル酸の単独重合体（即ち、ポリアクリル酸）、メタクリル酸の単独重合体（即ち、ポリメタクリル酸）、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、及びメタクリル酸エステル等からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体を含む共重合体などが挙げられる。
これらの中でも、（メタ）アクリル系樹脂としては、ポリアクリル酸が好ましい。ポリアクリル酸の重量平均分子量は、２５，０００以上５，０００，０００以下であることが好ましく、５０，０００以上２，０００，０００以下であることがより好ましく、１５０，０００以上１，０００，０００以下であることが更に好ましい。
ポリアクリル酸の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定することができる。

ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による測定は、測定装置として、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ及びＳＣ−８０２０（いずれも東ソー（株））を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）Ｓｕｐｅｒ ＨＭ−Ｈ（６．０ｍｍＩＤ×１５ｃｍ、東ソー（株））を２本用い、溶離液として、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いることにより測定することができる。また、測定条件としては、試料濃度を０．５質量％、流速を０．６ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、及び測定温度を４０℃とし、示唆屈折計（ＲＩ）検出器を用いて行うことができる。
検量線は、東ソー（株）の「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ａ−５００」、「Ｆ−１」、「Ｆ−１０」、「Ｆ−８０」、「Ｆ−３８０」、「Ａ−２５００」、「Ｆ−４」、「Ｆ−４０」、「Ｆ−１２８」、及び「Ｆ−７００」の１０サンプルから作製されたものを用いることができる。

ポリリン酸塩としては、ポリリン酸ナトリウム、ポリリン酸カリウム等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物が密着助剤を更に含む場合、密着助剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物が密着助剤を更に含む場合、密着助剤の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、０．００１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以上１質量％以下であることがより好ましく、０．０５質量％以上０．５質量％以下であることが更に好ましい。
膜形成用組成物中の密着助剤の含有率が上記範囲内であると、基材との密着性に優れる膜を形成し易い。

＜粘度調整剤＞
本実施形態の膜形成用組成物は、粘度調整剤を更に含んでいてもよい。
本実施形態の膜形成用組成物が粘度調整剤を含むと、膜形成用組成物の粘度が高まり、塗布の際に液垂れが生じ難くなり、塗装適性が向上する。

粘度調整剤としては、特に限定されず、公知の増粘剤、粘度の高い溶剤等が挙げられる。粘度調整剤は、膜形成用組成物を基材に付与する方法に応じて、適宜選択することができる。
増粘剤としては、特に限定されず、膜形成用組成物に含まれる溶媒の種類に応じて、適宜選択することが好ましい。増粘剤としては、比較的少量の使用で増粘効果が得られるという観点から、重量平均分子量が３，０００以上１０，０００，０００以下の増粘剤が好ましい。
なお、ここでいう増粘剤には、既述のウレタン系樹脂及び（メタ）アクリル系樹脂は含まれない。
増粘剤の重量平均分子量は、既述のポリアクリル酸の重量平均分子量と同様の方法により測定することができる。

増粘剤としては、具体的には、（株）成和化成のＳＥＰＩＧＥＬ ３０５、ビックケミー社のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）４１０、４１１、４１５、４２０、４２５、４２８、４３０、４３１、７４１０ＥＴ、７４１１ＥＳ、７４２０ＥＳ、大阪有機化学工業（株）のコスカットＧＡ４６８、無機系材料〔ケイ酸塩（水溶性ケイ酸アルカリ）、モンモリロナイト、有機モンモリロナイト、コロイド状アルミナ等〕、繊維素誘導体系材料（カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等）、タンパク質系材料（カゼイン、カゼイン酸ソーダ、カゼイン酸アンモニウム等）、アルギン酸系材料（アルギン酸ソーダ等）、ポリビニル系材料（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルベンジルエーテル共重合物等）、ポリエーテル系材料（プルロニックポリエーテル、ポリエーテルジアルキルエステル、ポリエーテルジアルキルエーテル、ポリエーテルウレタン変性物、ポリエーテルエポキシ変性物等）、無水マレイン酸共重合体系材料（ビニルエーテル−無水マレイン酸共重合物の部分エステル、乾性油脂肪酸アリルアルコールエステル−無水マレイン酸のハーフエステル等）などが挙げられる。また、増粘剤としては、上記以外にも、ポリアマイドワックス塩、アセチレングリコール、ゼンタンガム、分子末端若しくは側鎖に極性基を有するオリゴマー又はポリマー等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物が粘度調整剤として増粘剤を更に含む場合、増粘剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物が粘度調整剤として増粘剤を含む場合、膜形成用組成物中の増粘剤の含有率は、膜形成用組成物の全質量に対して、０．０１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上２０質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以上１０質量％以下であることが更に好ましい。

粘度調整剤としては、形成される膜中に粘度調整剤成分が残存しない点において、粘度の高い溶剤が好ましい。
本明細書において、「粘度の高い溶剤」とは、例えば、２５℃における粘度が３０ｍＰａ／ｓ以上の溶剤をいう。
なお、本明細書における粘度は、東機産業（株）のＢ型粘度計（型式：ＴＶＢ−１０）を用いて測定した値である。
粘度の高い溶剤としては、例えば、グリコール系溶剤が挙げられる。
本明細書において、「グリコール系溶剤」とは、炭化水素の２つ以上の炭素原子にそれぞれ１つずつヒドロキシ基が置換した構造の溶剤をいう。

グルコール系溶剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等が挙げられる。
これらの中でも、グルコール系溶剤としては、シリカ粒子の分散性及び塗布した際の乾燥性の観点から、プロピレングリコール及びジプロピレングリコールから選ばれる少なくとも１種が好ましい。

本実施形態の膜形成用組成物が粘度調整剤としてグリコール系溶剤を更に含む場合、グリコール系溶剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物が粘度調整剤としてグリコール系溶剤を含む場合、膜形成用組成物中のグリコール系溶剤の含有率は、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、４０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましく、５質量％以下であることが特に好ましい。
グリコール系溶剤の含有率が、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して４０質量％以下であると、塗布の際に膜形成用組成物の液垂れが生じることを抑制しつつ、密着性に優れる膜を形成することができる。
また、膜形成用組成物中のグリコール系溶剤の含有率は、グリコール系溶剤を更に含むことによる塗装適性の向上効果の観点から、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対して、０．１質量％以上であることが好ましい。

本実施形態の膜形成用組成物が粘度調整剤を更に含む場合、増粘剤と粘度の高い溶剤とを併用して粘度を調整してもよい。本実施形態の膜形成用組成物の最適な粘度は、基材への塗布方法によって異なるが、例えば、スプレー塗布の場合には、膜形成用組成物の粘度は、２ｍＰａ／ｓ以上２００ｍＰａ／ｓ以下であることが好ましく、３ｍＰａ／ｓ以上１００ｍＰａ／ｓ以下であることがより好ましく、４ｍＰａ／ｓ以上５０ｍＰａ／ｓ以下であることが更に好ましい。

（縮合促進触媒）
本実施形態の膜形成用組成物は、特定シロキサン化合物の加水分解物の縮合反応を促進する触媒（即ち、縮合促進触媒）を含むことが好ましい。
本実施形態の膜形成用組成物は、縮合促進触媒を含むことで、より耐久性に優れた膜を形成することができる。本実施形態では、基材上に膜形成用組成物を付与した後、付与した膜形成用組成物を乾燥させて水分を減少させることに伴い、膜形成用組成物中の特定シロキサン化合物の加水分解物が有するヒドロキシ基の少なくとも一部が互いに縮合して、縮合物を形成することで、安定な膜が形成される。また、本実施形態の膜形成用組成物は、縮合促進触媒を含むことで、より速やかに膜を形成することができる。

縮合促進触媒としては、特に限定されず、酸触媒、アルカリ触媒、有機金属触媒等の触媒が挙げられる。
酸触媒としては、硝酸、塩酸、硫酸、酢酸、リン酸、クロロ酢酸、蟻酸、シュウ酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸、ジノニルナフタレンモノスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ポリリン酸塩、メタリン酸塩等が挙げられる。
これらの中でも、酸触媒としては、リン酸、トルエンスルホン酸、ポリリン酸塩、及びメタリン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
アルカリ触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、炭酸水素ナトリウム、尿素等が挙げられる。
これらの中でも、アルカリ触媒としては、重曹及び尿素から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
有機金属触媒としては、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート等のアルミキレート化合物；ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウムキレート化合物；チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のチタンキレート化合物；ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクチエート等の有機スズ化合物、アルミニウムエチレート、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムｓｅｃ−ブチレート等のアルミニウムアルコキシド；チタン（ＩＶ）エトキシド、チタンイソプロポキシド、チタン（ＩＶ）ｎ−ブトキシド等のチタンアルコキシド；ジルコニウム（ＩＶ）エトキシド、ジルコニウム（ＩＶ）ｎ−プロポキシド、ジルコニウム（ＩＶ）ｎ−ブトキシド等のジルコニウムアルコキシドなどが挙げられる。
これらの中でも、有機金属触媒としては、アルミキレート化合物、チタンキレート化合物、及びジルコニウムキレート化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
上記の中でも、縮合促進触媒としては、有機金属触媒がより好ましく、アルミキレート化合物が更に好ましい。

本実施形態の膜形成用組成物が縮合促進触媒を含む場合、縮合促進触媒を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物が縮合促進触媒を含む場合、膜形成用組成物中の縮合促進触媒の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、０．１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、０．２質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、０．３質量％以上２０質量％以下であることが更に好ましい。
膜形成用組成物中の縮合促進触媒の含有率が、上記範囲内であると、透明性に優れる膜をより速やかに形成することができる。

（帯電防止剤）
本実施形態の膜形成用組成物は、帯電防止剤を含むことが好ましい。
本実施形態の膜形成用組成物において、帯電防止剤は、膜形成用組成物を用いて形成される膜に対して、帯電防止性を付与することにより、汚染物質の付着を抑制する目的で用いられる。

帯電防止剤としては、特に限定されず、帯電防止機能を有する化合物から、適宜選択することができる。界面活性を示す化合物又は界面活性を示さない化合物のいずれであってもよい。帯電防止剤としては、例えば、イオン性の界面活性剤、金属酸化物粒子等が挙げられる。
なお、ここでいう金属酸化物粒子には、既述のシリカ粒子は含まれない。
イオン性の界面活性剤は、例えば、塗布により膜を形成する場合に、膜面付近に偏析しやすい性質があるため、少量で効果が期待できる。また、金属酸化物粒子は、膜に帯電防止性を与えるために比較的多量を必要とされる場合があるが、無機物であるため、膜の耐傷性を高める点で適している。

イオン性の界面活性剤としては、アルキル硫酸塩〔ドデシル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム等〕、アルキルベンゼンスルホン酸塩〔ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム等〕、アルキルスルホコハク酸塩〔ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム等〕、などのアニオン性界面活性剤；アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤を挙げられる。

金属酸化物粒子としては、酸化スズ粒子、アンチモンドープ酸化スズ粒子、スズドープ酸化インジウム粒子、酸化亜鉛粒子等が挙げられる。
金属酸化物粒子の形状は、特に限定されず、球状であってもよく、板状であってもよく、針状であってもよい。
金属酸化物粒子は、屈折率が大きく、粒径が大きいと、透過光の過度の散乱による損失が発生しやすいため、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、金属酸化物粒子の形状が球状又は断面楕円等の略球状である場合には、分散した金属酸化物粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から３００個以上の金属酸化物粒子について投影面積を測定し、投影面積から円相当径を求め、得られた円相当径を金属酸化物粒子の平均一次粒子径とする。金属酸化物粒子の形状が球状又は略球状ではない場合には、その他の方法、例えば、動的光散乱法を用いて、金属酸化物粒子の平均一次粒子径を求める。

本実施形態の膜形成用組成物が帯電防止剤を含む場合、帯電防止剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物が帯電防止剤としてイオン性の界面活性剤を含む場合、膜形成用組成物中のイオン性の界面活性剤の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、５質量％以下であることが好ましく、１質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以下であることが更に好ましい。
また、膜形成用組成物中のイオン性の界面活性剤の含有率は、イオン性の界面活性剤を含むことによる膜の防汚性の向上効果の観点から、膜形成用組成物の全固形分に対して０．０１質量％以上であることが好ましい。
なお、膜形成用組成物中のイオン性の界面活性剤の含有率が、膜形成用組成物の全固形分に対して０．０１質量％以上５質量％以下であると、シリカ粒子の凝集を抑制しつつ、防汚性に優れる膜を形成することができる。

本実施形態の膜形成用組成物が帯電防止剤として金属酸化物粒子を含む場合、膜形成用組成物中の金属酸化物粒子の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、４０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましい。
また、膜形成用組成物中の金属酸化物粒子の含有率は、金属酸化物粒子を含むことによる膜の防汚性の向上効果の観点から、膜形成用組成物の全固形分に対して１質量％以上であることが好ましい。
なお、膜形成用組成物中の金属酸化物粒子の含有率が、膜形成用組成物の全固形分に対して１質量％以上４０質量％以下であると、膜を塗布により形成する場合の成膜性を損なうことなく、膜に対して効果的に帯電防止性を付与することができる。

（界面活性剤）
本実施形態の膜形成用組成物は、界面活性剤を含むことが好ましい。
本実施形態の膜形成用組成物は、界面活性剤を含むことで、汚染物質の付着防止性、即ち、防汚性に優れる膜を形成することができる。
なお、ここでいう界面活性剤には、既述の帯電防止剤として挙げた、界面活性を示し、かつ、帯電防止機能を有する化合物（即ち、イオン性の界面活性剤）は含まれない。

本実施形態の膜形成用組成物では、帯電防止剤が界面活性を示すか示さないかに関わらず、帯電防止剤と界面活性剤とを併用してもよい。
帯電防止剤が界面活性を示さない化合物である場合には、水洗浄性の観点から、膜形成用組成物は、界面活性剤を含むことが好ましい。帯電防止剤が界面活性を示す化合物である場合には、防汚性をより向上させる観点から、膜形成用組成物は、帯電防止剤とは別に界面活性剤を含むことが好ましい。

本実施形態の膜形成用組成物は、界面活性剤を含むことにより、形成される膜の防汚性が高まるのみならず、例えば、膜を塗布により形成する場合の塗布性が高まる。詳細には、本実施形態の膜形成用組成物が界面活性剤を含むと、膜形成用組成物の表面張力が低下するため、膜の均一性がより高まる。

−非イオン性界面活性剤−
界面活性剤としては、例えば、非イオン性界面活性剤が挙げられる。
帯電防止剤としてイオン性の界面活性剤を用いる場合、膜形成用組成物中にイオン性の界面活性剤が過剰に存在すると、系内の電解質量が増えてシリカ粒子の凝集を招きやすいことから、非イオン性界面活性剤を併用することが好ましい。但し、非イオン性界面活性剤は、必ずしもイオン性の界面活性剤と併用する必要はなく、界面活性剤として非イオン性界面活性剤を単独で含んでもよい。

非イオン性界面活性剤としては、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ポリアルキレングリコールモノアルキルエステル、ポリアルキレングリコールモノアルキルエステル・モノアルキルエーテル等が挙げられる。非イオン性界面活性剤の具体的な例としては、ポリエチレングリコールモノラウリルエーテル、ポリエチレングリコールモノステアリルエーテル、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル、ポリエチレングリコールモノラウリルエステル、ポリエチレングリコールモノステアリルエステル等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物が非イオン性界面活性剤を含む場合、非イオン性界面活性剤としては、親水性及び防汚性により優れる膜を形成するという観点から、ＨＬＢ値が１５より大きい非イオン性界面活性剤（以下、「特定非イオン性界面活性剤」ともいう。）が好ましい。
本実施形態の膜形成用組成物が特定非イオン性界面活性剤を含むと、形成される膜の親水性がより向上し、疎水性成分である汚染物質（例えば、シリコーン）の付着防止性が良好となる。
特定非イオン性界面活性剤のＨＬＢ値は、１５．５以上であることが好ましく、１６以上であることがより好ましく、１７以上であることが更に好ましく、１８以上であることが特に好ましい。
特定非イオン性界面活性剤のＨＬＢ値の上限は、特に限定されず、例えば、２０以下が好ましい。

界面活性剤のＨＬＢ値（Hydrophile-Lipophile Balance）とは、界面活性剤の親水親油バランスのことである。
本明細書における界面活性剤のＨＬＢ値は、グリフィン法（全訂版 新・界面活性剤入門、ｐ１２８）により以下の式（Ｉ）で定義され、算術により求められる値である。
式（I)界面活性剤のＨＬＢ値＝（親水基部分の分子量／界面活性剤の分子量）×２０ ・・・ （Ｉ）

特定非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル、ソルビタン誘導体、ポリオキシアルキレンアリールエーテルのホルマリン縮合物、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテルのホルマリン縮合物、ポリエチレングリコール等が挙げられる。
これらの中でも、特定非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルが特に好ましい。

特定非イオン性界面活性剤におけるポリオキシアルキレンアルキルエーテルのアルキル基としては、例えば、炭素数が１〜３６の直鎖型アルキル基又は炭素数が３〜３６の分岐型のアルキル基が挙げられる。
また、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルのオキシアルキレン部は、親水性に特に優れる膜を形成することができるという観点から、ポリオキシエチレンであることが好ましい。また、特定非イオン性界面活性剤が有するポリオキシエチレン構造単位数は、６以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、１５以上であることが更に好ましく、２０以上であることが特に好ましい。また、ポリオキシエチレン構造単位数は、例えば、溶解性の観点から、１００以下とすることができる。

特定非イオン性界面活性剤がポリオキシアルキレンアルキルエーテルである場合、下記の式（ＩＩ）で表される界面活性剤が好ましい。
ＲＯ−（Ｃ_２Ｈ_４０）ｍ−Ｈ ・・・ （ＩＩ）

式（ＩＩ）中、ｍは、６〜１００の整数を表す。Ｒは、炭素数１〜３６の直鎖型アルキル基又は炭素数３〜３６の分岐型アルキル基を表す。

特定非イオン性界面活性剤としては、市販品を用いることができる。特定非イオン性界面活性剤の市販品の例としては、日本エマルジョン（株）のＥＭＡＬＥＸ ７１５（ＨＬＢ値：１５．６）、ＥＭＡＬＥＸ ７２０（ＨＬＢ値：１６．５）、ＥＭＡＬＥＸ ７３０（ＨＬＢ値：１７．５）、ＥＭＡＬＥＸ ７５０（ＨＬＢ値：１８．４）（いずれも商品名、ポリオキシエチレンラウリルエーテル）、花王（株）のレオドールＴＷ−Ｐ１２０（商品名、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ＨＬＢ値：１５．６）、三洋化成工業（株）のＰＥＧ２０００（商品名、ＨＬＢ値：１９．９）等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物が非イオン性界面活性剤を含む場合、非イオン性界面活性剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物が非イオン性界面活性剤（好ましくは、特定非イオン性界面活性剤）を含む場合、膜形成用組成物中の非イオン性界面活性剤の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、０．０１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上１０質量％以下であることが更に好ましい。
膜形成用組成物中の非イオン性界面活性剤の含有率が上記範囲内であると、形成される膜の親水性が良好となり、疎水性成分である汚染物質（例えば、シリコーン）の付着防止性が良好となる。

−イオン性界面活性剤−
界面活性剤としては、例えば、イオン性界面活性剤が挙げられる。
イオン性界面活性剤としては、リン酸基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有するイオン性界面活性剤（以下、「特定イオン性界面活性剤」ともいう。）が好ましい。
本実施形態の膜形成用組成物が特定イオン性界面活性剤を含むと、特定イオン性界面活性剤が有するリン酸基及びカルボキシ基の少なくとも一方の官能基が酸吸着性基として機能し、既述のシリカ粒子の表面に吸着する。この吸着により、シリカ粒子の分散安定性が向上する。また、この吸着により、シリカ粒子の表面への疎水性成分の吸着が抑制されるため、シリカ粒子に起因する良好な親水性が損なわれず、良好な防汚性が保持される。

特定イオン性界面活性剤は、シリカ粒子との吸着性を考慮すると、アニオン性界面活性剤であることが好ましく、疎水性基として、炭素数１〜３６の炭化水素基、シクロへキシル基、シクロブチル基等の脂肪族環状炭化水素基、及び、スチリル基、ナフチル基、フェニル基、フェニレンエーテル基等の芳香族炭化水素基から選ばれる疎水性基を有し、かつ、酸吸着性基として、リン酸基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する化合物であることがより好ましい。なお、既述の疎水性基は、更に、置換基を有していてもよい。
特定イオン性界面活性剤は、酸吸着基として、リン酸基及びカルボキシ基から選ばれる少なくとも１種の官能基のみを有していることが好ましい。すなわち、特定イオン性界面活性剤は、スルホン酸基、硫酸基等のリン酸基及びカルボキシ基以外の酸吸着基を有していないことが好ましい。

リン酸基を有する特定イオン性界面活性剤としては、アルキルリン酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩等が挙げられる。
カルボキシ基を有する特定イオン性界面活性剤としては、Ｎ−アシルアミノ酸、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸塩、脂肪族カルボン酸塩、脂肪族ジカルボン酸塩、重量平均分子量が２５０００未満のポリカルボン酸系共重合体、重量平均分子量が２５０００未満のマレイン酸系共重合体等が挙げられる。

特定イオン性界面活性剤の酸価は、シリカ粒子の分散安定性及び疎水性成分の吸着抑制性の観点から、１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。
特定イオン性界面活性剤の酸価の下限は、特に限定されず、例えば、３ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
本明細書における特定イオン性界面活性剤の酸価は、指示薬の滴定により測定することができる。具体的には、ＪＩＳ（日本工業規格）Ｋ ００７０に記載の方法に従い、特定イオン性界面活性剤の固形分１ｇ中の酸成分を中和する水酸化カリウムのｍｇ数を測定して算出することにより求められる値である。

特定イオン性界面活性剤としては、市販品を用いることができる。特定イオン性界面活性剤の市販品の例としては、ＢＹＫ社のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５（酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−１８０（酸吸着性基：リン酸基、酸価：９４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、エボニック社のＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ６６０Ｃ（酸吸着性基：リン酸基、酸価：３０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ＢＹＫ（登録商標）−Ｐ１０４（酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ）等が挙げられる。

本実施形態の膜形成用組成物がイオン性界面活性剤を含む場合、イオン性界面活性剤を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本実施形態の膜形成用組成物がイオン性界面活性剤（好ましくは、特定イオン性界面活性剤）を含む場合、膜形成用組成物中のイオン性界面活性剤の含有率は、膜形成用組成物の全固形分に対して、０．０５質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上２０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上１５質量％以下であることが更に好ましい。
膜形成用組成物中のイオン性界面活性剤の含有率が上記範囲内であると、シリカ粒子の凝集防止効果、及び疎水性成分の吸着防止効果がより良好となり、イオン性界面活性剤を含むことによる親水性膜の防汚性向上効果が得やすくなる。

〔膜形成用組成物の調製方法〕
本実施形態の膜形成用組成物は、特定シロキサン化合物と、シリカ粒子と、ケトン系溶剤と、水と、必要に応じて、既述の任意成分とを混合することにより調製することができる。
例えば、本実施形態の膜形成用組成物の調製方法としては、まず、特定シロキサン化合物を、水を含む溶媒と混合し、特定シロキサン化合物の加水分解物を形成させ、特定シロキサン化合物の加水分解物を含む加水分解液を調製することが好ましい。
次いで、得られた加水分解液に、ケトン系溶剤及びシリカ粒子を添加する。この際、所望により、既述の任意成分である特定溶剤、ポリアクリル酸、グリコール系溶剤、界面活性剤、縮合促進触媒、帯電防止剤等を添加することができる。

特定シロキサン化合物の加水分解反応は、室温（２５℃）でも進行するが、反応促進のために、特定シロキサン化合物と水とを接触させて混合液を調製した後、得られた混合液を３０℃〜５０℃程度に加温してもよい。加水分解反応の反応時間は長い方がより反応が進行するため好ましい。十分に加水分解反応を進行させるという観点からは、加温状態で１時間〜３６時間反応させることも好ましい。
また、特定シロキサン化合物の加水分解反応を促進する触媒を、特定シロキサン化合物及び水を含む混合液中に共存させることで、半日程度でも親水性に必要な特定シロキサン化合物の加水分解物を得ることが可能である。

特定シロキサン化合物の加水分解反応は可逆反応であるため、特定シロキサン化合物の加水分解物を含む混合液から水が除かれると、特定シロキサン化合物の加水分解物のヒドロキシ基間における縮合反応が開始し、進行する。したがって、特定シロキサン化合物及び水（好ましくは過剰量の水）を含む混合液中で、特定シロキサン化合物の加水分解反応を進行させて特定シロキサン化合物の加水分解物を得た場合、得られた加水分解物を単離せずに混合液のまま、シリカ粒子等と混合し、膜形成用組成物を調製することが好ましい。
なお、保存等によって膜形成用組成物中の水分量が低下すると、特定シロキサン化合物の加水分解物の縮合反応が進行することがあるため、膜形成用組成物には、特定シロキサン化合物の加水分解物の縮合反応物が含まれている場合がある。

〔膜形成用組成物の用途〕
本実施形態の膜形成用組成物は、特定シロキサン化合物の加水分解物、シリカ粒子、及び水に対して、溶剤としてケトン系溶剤を組み合わせて含むことで、透明性及び密着性に優れる膜を形成することができる。
また、実施形態の膜形成用組成物は、特定シロキサン化合物の加水分解物及びシリカ粒子を含むため、親水性に優れた膜を形成することができる。膜が親水性に優れると、膜の表面に付着した水の接触角が小さくなるため、微小な水滴が膜の表面に付着することで発生する膜の曇りが抑制される。すなわち、本実施形態の膜形成用組成物により形成される膜は、防曇性に優れる。
したがって、本実施形態の膜形成用組成物は、監視カメラ、照明、センサー灯具等を保護するための保護材（所謂、保護カバー）；自動車、二輪車等の車両の車庫の屋根材；道路標識等の標識；高速道路路肩設置用、鉄道用等の防音壁；自動車、二輪車等の車両のボディー；自動車の窓ガラス、ミラー、ライトの保護材（例えば、レンズ）などに対して、防曇性等の機能を付与するために、好適に用いることができる。
これらの中でも、本実施形態の膜形成用組成物は、自動車のライト（ヘッドライト、テールランプ、ドアミラーウィンカーライト等）の保護材、及び監視カメラの保護材に対して、より好適に用いることができる。
一般に、自動車は、ライトとライトを保護するためのレンズとを含んで構成されるライトユニットを備えている。このライトユニット内に何らかの原因で水分が入ると、レンズに曇りが生じることがある。このような曇りは、保護カバーを有する監視カメラ（即ち、ハウジング一体型監視カメラ）の保護カバーでも生じ得る。本実施形態の膜形成用組成物を用いて形成される膜は、透明性に優れることから、自動車のライト及び監視カメラの機能及び性能を損なわず、かつ、密着性に優れることから、優れた防曇性を長期間にわたって保つことができる。

＜膜＞
本実施形態の膜は、既述の本実施形態の膜形成用組成物により形成され、少なくとも、特定シロキサン化合物の加水分解物の縮合反応物（以下、単に「縮合反応物」ともいう。）と、シリカ粒子とを含む。
本実施形態の膜は、透明性及び密着性に優れる。
また、本実施形態の膜は、特定シロキサン化合物の加水分解物の縮合反応物を含むことで、表面の親水性が良好となり、かつ、実用上問題のない膜強度が得られる。
本実施形態の膜は、縮合反応物を、１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
以下、本実施形態の膜の好ましい物性について説明する。

（水接触角）
本実施形態の膜の水接触角は、３０°以下であることが好ましく、２０°以下であることがより好ましく、１５°以下であることが更に好ましく、１０°以下であることが特に好ましい。
膜の水接触角が３０°以下であることは、膜の表面が親水性により優れることを示す。
膜の水接触角は、測定装置として全自動接触角計（型番：ＤＭ−７０１、協和界面科学（株））を用い、雰囲気温度２５℃の条件下で、膜の表面に純水を１μＬ滴下し、θ/２
法により接触角を５回測定し、得られた値の算術平均値とする。

（吸水量）
本実施形態の膜の吸水量は、２５ｍｇ／ｃｍ^２以下であることが好ましい。
薄膜を形成する場合、５．０ｍｇ／ｃｍ^２以下であることが好ましく、２．５ｍｇ／ｃｍ^２以下であることがより好ましく、１．０ｍｇ／ｃｍ^２以下であることが更に好ましい。厚膜を形成する場合、２５ｍｇ／ｃｍ^２以下であることが好ましく、１２ｍｇ／ｃｍ^２以下であることがより好ましく、６ｍｇ／ｃｍ^２以下であることが更に好ましい。
薄膜を形成する場合、膜の吸水量が０．３ｍｇ／ｃｍ^２以上５ｍｇ／ｃｍ^２以下であると、膜が膨潤し難いため、優れた密着性が得られやすい傾向がある。厚膜を形成する場合、膜の吸水量が１．５ｍｇ／ｃｍ^２以上２５ｍｇ／ｃｍ^２以下であると膜の透明性、及び長期持続性の良い防曇性が得られやすい傾向がある。

膜の吸水量は、以下の方法により測定する。まず、基材上に膜を備えた積層体を準備する。積層体の質量を測定し、得られた測定値を「初期質量」とする。次いで、６０℃の湯浴を準備し、雰囲気温度２５℃、相対湿度５０％の条件下で、積層体の膜の５ｃｍ四方の範囲にのみ、湯浴の水面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を当てる。積層体を垂直に傾けた場合に水垂れが生じない限度まで、膜に蒸気を当てた後、積層体の質量を測定し、得られた測定値を「試験後質量」とする。初期質量及び試験後質量から、試験による質量増加量を算出し、蒸気を当てた単位面積当たりの質量を求め、吸水量（単位：ｍｇ／ｃｍ^２）とする。

＜積層体＞
本実施形態の積層体は、基材上に、既述の本実施形態の膜を備える。
本実施形態の積層体は、本実施形態の膜を備えるため、基材と膜との密着性に優れる。

基材の材料としては、特に限定されず、ガラス、樹脂（即ち、プラスチック）、金属、セラミックス等の各種材料から適宜選択して用いることができる。また、基材の材料としては、複数の材料から形成される複合材料を用いることもできる。例えば、基材の材料は、ガラス及び樹脂材料を含み、ガラスと樹脂材料とが混在して複合化した複合材、複数種の樹脂材料が混練又は貼合された樹脂複合材等であってもよい。

基材としてガラス基材を用いる場合には、特定シロキサン化合物の加水分解物のケイ素上のヒドロキシ基の縮合がガラス表面のヒドロキシ基との間でも生じるため、基材との密着性により優れた膜が形成される。

基材の材料としては、樹脂材料も好適である。例えば、自動車のライトの保護材、及び監視カメラの保護材には、樹脂材料が用いられることが多い。
基材の材料が樹脂材料である場合、基材としては、光及び熱に対する耐久性に優れ、かつ、本実施形態の膜との間で、基材の透明性を維持しつつ、密着性に優れた積層体を形成できるという観点から、ポリカーボネート基材、ポリメチルメタクリレート基材又はポリエチレンテレフタレート基材であることが好ましく、密着性により優れた積層体を形成できるという観点から、ポリカーボネート基材又はポリメチルメタクリレート基材がより好ましく、ポリカーボネート基材であることが更に好ましい。

基材の厚さは、特に限定されず、本実施形態の膜形成用組成物の適用対象に応じて、適宜設定される。

膜の厚さは、２０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７５ｎｍ以上であることが更に好ましい。膜の厚さが２０ｎｍ以上であると、膜の耐傷性がより優れる。
また、膜の厚さは、透明性の観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。薄膜を形成する場合、１μｍ以下であり、５００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましい。厚さ１μｍを超える厚膜を形成する場合、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることが更に好ましい。

［積層体の製造方法］
本実施形態の積層体の製造方法は、既述の本実施形態の積層体を製造できればよく、特に限定されるものではない。
本実施形態の積層体は、例えば、基材上に、既述の膜形成用組成物を付与することにより膜を形成することを含む方法により製造することができる。

基材上に、膜形成用組成物を付与する方法としては、特に限定されず、好ましくは塗布法である。基材上に、膜形成用組成物を塗布する塗布法としては、特に限定されず、スプレー塗布、刷毛塗布、ローラー塗布、バー塗布、ディップ塗布（所謂、浸漬塗布）等の公知の塗布法を適用することができる。これらの中でも、塗布法としては、曲面、凹凸等の様々な表面形状を有する立体構造体へ塗布する場合には、スプレー塗布が好ましい。

膜形成用組成物をスプレー塗布により基材に塗布する場合、基材のセット方法は、特に限定されない。基材の形状に応じて、基材の向きを、塗布方向に対して、水平方向、垂直方向等、適宜変更しながら塗布することができる。塗布膜厚をより均一にするためには、スプレーノズルと基材との距離が等間隔となる位置にスプレーノズルを配置して基材に塗布することが好ましく、スプレーノズルと基材との距離を１０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下とすることが好ましい。

膜形成用組成物の塗布装置への供給方式は、圧送型、吸上型、及び重力型のいずれの方式を用いることもできる。
スプレーノズルのノズル口径は、０．１ｍｍφ以上１．８ｍｍφ以下であることが好ましく、エア圧は、０．０２ＭＰａ以上０．６０ＭＰａ以下であることが好ましい。このような条件で塗布することで、塗布膜厚をより均一にすることができる。なお、スプレー塗布によって、更に好適な塗布膜を形成するためには、エア量、膜形成用組成物の噴出量、パターン開き等の調整が必要である。

膜形成用組成物をスプレー塗布により基材に塗布する場合、エア量は５Ｌ／分以上６００Ｌ／分以下であることが好ましく、塗料噴出量は５Ｌ／分以上６００Ｌ／分以下であることが好ましく、パターン開きは４０ｍｍ以上４５０ｍｍ以下であることが好ましい。

スプレー塗布においては、塗布時の環境も塗布膜の形成に影響する。温度条件としては１５℃以上３５℃以下であることが好ましく、湿度条件としては８０％ＲＨ以下であることが好ましい。
清浄度は、特に限定されないが、例えば、塗布環境中の微粒子（即ち、パーティクル）による面状故障を抑制する観点から、クラス１０，０００以上の清浄度が好ましく、クラス１，０００以上の清浄度であることがより好ましい。

膜形成用組成物の塗布量は、特に限定されず、膜形成用組成物中の固形分の濃度、所望の膜厚等に応じて、操作性等を考慮し、適宜設定することができる。例えば、膜形成用組成物の塗布量は、１ｍＬ／ｍ^２以上４００ｍＬ／ｍ^２以下であることが好ましく、２ｍＬ／ｍ^２以上１００ｍＬ／ｍ^２以下であることがより好ましく、４ｍＬ／ｍ^２以上４０ｍＬ／ｍ^２以下であることが更に好ましく、６ｍＬ／ｍ^２以上２０ｍＬ／ｍ^２以下であることが特に好ましい。膜形成用組成物の塗布量が上記の範囲内であると、塗布精度が良好となる。

本実施形態の積層体の製造方法は、基材上に付与した膜形成用組成物を乾燥することを含むことが好ましい。
膜形成用組成物の乾燥は、加熱装置を用いて行なってもよい。加熱装置としては、目的の温度に加熱することができれば、特に限定されることなく、公知の加熱装置をいずれも用いることができる。加熱装置としては、オーブン、電気炉等の他、製造ラインに合わせて独自に作製した加熱装置を用いることができる。

膜形成用組成物の乾燥条件は、特に限定されず、塗布膜の硬化性も考慮し、適宜設定することができる。
膜形成用組成物の乾燥は、所定の設定温度を一定に保った恒温条件にて行ってもよいし、段階的に温度条件を変えて行ってもよい。
前者の場合における膜形成用組成物の乾燥条件としては、膜形成用組成物を、表面温度を２０℃以上１５０℃以下にして１分間〜６０分間加熱する乾燥条件が好ましく、表面温度を４０℃以上１５０℃以下にして１分間〜６０分間加熱する乾燥条件がより好ましく、表面温度を６０℃以上１５０℃以下にして１分間〜６０分間加熱する乾燥条件が更に好ましい。
後者の場合における膜形成用組成物の乾燥は、予備乾燥と本乾燥とに分けて行うことが好ましい。予備乾燥の条件としては、表面温度を２０℃以上６０℃以下にして５秒間〜１０分間加熱する条件が好ましい。
なお、表面温度は、赤外線温度計等により測定することができる。

膜形成用組成物の乾燥を、乾燥風を吹き付けることにより行う場合、乾燥風の風量は、基材に到達したときの最適温度を考慮して、適宜設定することができる。しかし、乾燥ムラを考慮すると、可能な限り風量を抑えることが好ましく、無風、即ち、基材に直接乾燥風が当たらない条件で乾燥を行うことがより好ましい。

なお、膜形成用組成物を塗布した基材は、基材の形状に応じて、台座の上に直置き（即ち、平置き）して乾燥してもよいし、立てかけて乾燥してもよいし、吊るして乾燥してもよい。

塗布に使用した後のスプレーガンの部品、塗布装置等の洗浄は、シンナー等の溶剤、水、アルコール、界面活性剤などを使用してもよい。また、スケール等が付着した汚れ、残存した膜形成用組成物等を効果的に洗浄するためには、酸性又はアルカリ性の水溶液を用いて洗浄することが好ましく、ｐＨ３．０以下の水溶液又はｐＨ８．０以上の水溶液を用いて洗浄することがより好ましい。洗浄液の温度は、常温以上が好ましく、５０℃以上であることがより好ましい。

膜形成用組成物の保管容器は、特に限定されず、一斗缶、ローヤル缶等の金属製容器であってもよいし、ポリエチレン、ポリプロピレン等の樹脂製の容器であってもよい。
膜形成用組成物の保管温度は、０℃以上５０℃以下であることが好ましい。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
（膜形成用組成物の調製）
下記の「加水分解液Ａの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１２時間撹拌することにより、加水分解液Ａを調製した。

−加水分解液Ａの組成−
・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔三菱化学（株）〕
０．７４質量部
・アセトン〔ケトン系溶剤、ＳＰ値：１０．０ＭＰａ^１／２〕
１．５４質量部
・蒸留水 ３．２６質量部
・０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液 ０．０８質量部

上記のＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１は、式（１）で表されるシロキサン化合物（即ち、特定シロキサン化合物）であり、式（１）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４が全てメチル基であり、ｎの平均が５である。

次いで、上記にて得られた加水分解液Ａの全量に、下記の「組成Ｂ」に示した成分を添加して混合し、膜形成用組成物を得た。

−組成Ｂ−
・アセトン〔ケトン系溶剤〕 ８１．７１質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（アセトンを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／アセトン（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、平均一次粒子径：９ｎｍ〜１５ｎｍ、固形分：１５質量％、日産化学工業（株）〕
６．９５質量部

（積層体の作製）
基材としてのポリカーボネート基板〔商品名：カーボグラス（登録商標）Ｃ−１１０、厚さ：０．５ｍｍ、旭硝子（株）〕上に、上記にて得られた膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。塗布後、膜形成用組成物を塗布したポリカーボネート基板を、２５℃にて１分間静置した。静置後、塗布した膜形成用組成物を１２０℃で２０分間加熱して乾燥させて、基材上に、厚さ１００ｎｍの膜を備える積層体を作製した。

＜実施例２＞
下記の「加水分解液Ｃの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１２時間撹拌することにより、加水分解液Ｃを調製した。

−加水分解液Ｃの組成−
・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔三菱化学（株）〕
０．７４質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
１．５４質量部
・蒸留水 ３．２６質量部
・０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液 ０．０８質量部

次いで、上記にて得られた加水分解液Ｃの全量に、下記の「組成Ｄ」に示した成分を添加して混合し、膜形成用組成物を得た。

−組成Ｄ−
・アセトン〔ケトン系溶剤〕 ３９．１２質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
４２．５９質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／エタノール（９５）（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液）
１．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部

（積層体の作製）
上記にて得られた膜形成用組成物を用いて、実施例１と同様にして、基材上に膜を備える積層体を作製した。

＜実施例３＞
実施例２において、ケトン系溶剤として、「アセトン」を用いる代わりに「シクロヘキサノン（ＳＰ値：９．９ＭＰａ^１／２）」を用いたこと以外は、実施例２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜実施例４＞
実施例２において、ケトン系溶剤として、「アセトン」を用いる代わりに「アセチルアセトン（ＳＰ値：１０．３ＭＰａ^１／２）」を用いたこと以外は、実施例２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜実施例５＞
実施例２において、ケトン系溶剤として、「アセトン」を用いる代わりに「シクロペンタノン（ＳＰ値：１０．４ＭＰａ^１／２）」を用いたこと以外は、実施例２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜実施例６＞
実施例２において、ケトン系溶剤として、「アセトン」を用いる代わりに「ジアセトンアルコール（ＳＰ値：１０．２ＭＰａ^１／２）」を用いたこと以外は、実施例２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜実施例７＞
実施例６において、特定溶剤として、アルコール系溶剤である「エタノール」を用いる代わりに、アルコール系溶剤である「ｎ−プロパノール」を用いたこと以外は、実施例６と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。ここでいう「エタノール」は、膜形成用組成物の調製に用いた全てのエタノールを指し、希釈液の調製に用いたエタノールを含む。

＜実施例８＞
実施例６において、特定溶剤として、アルコール系溶剤である「エタノール」を用いる代わりに、エーテル系溶剤である「１，２−ジメトキシエタン」を用いたこと以外は、実施例６と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。ここでいう「エタノール」は、膜形成用組成物の調製に用いた全てのエタノールを指し、希釈液の調製に用いたエタノールを含む。

＜実施例９＞
実施例６において、特定溶剤として、アルコール系溶剤である「エタノール」を用いる代わりに、グリコールエーテル系溶剤である「プロピレングリコールモノメチルエーテル」を用いたこと以外は、実施例６と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。ここでいう「エタノール」は、膜形成用組成物の調製に用いた全てのエタノールを指し、希釈液の調製に用いたエタノールを含む。

＜実施例１０＞
実施例９において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｅ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例９と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｅ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ３９．１７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ３９．１７質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部
・ポリアクリル酸〔密着助剤、重量平均分子量：２５，０００、湘南和光純薬（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例１１＞
実施例１０において、重量平均分子量が２５，０００のポリアクリル酸を用いる代わりに、重量平均分子量が１３０，０００のポリアクリル酸〔シグマアルドリッチジャパン（株）〕を用いたこと以外は、実施例１０と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。なお、ポリアクリル酸は、実施例１０と同様に、プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて０．１質量％希釈液とした上で、膜形成用組成物の調製に用いた。

＜実施例１２＞
実施例１０において、重量平均分子量が２５，０００のポリアクリル酸を用いる代わりに、重量平均分子量が２５０，０００のポリアクリル酸〔湘南和光純薬（株）〕を用いたこと以外は、実施例１０と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。なお、ポリアクリル酸は、実施例１０と同様に、プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて０．１質量％希釈液とした上で、膜形成用組成物の調製に用いた。

＜実施例１３＞
実施例１０において、重量平均分子量が２５，０００のポリアクリル酸を用いる代わりに、重量平均分子量が１，０００，０００のポリアクリル酸〔湘南和光純薬（株）〕を用いたこと以外は、実施例１０と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。なお、ポリアクリル酸は、実施例１０と同様に、プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて０．１質量％希釈液とした上で、膜形成用組成物の調製に用いた。

＜実施例１４＞
実施例１２において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｆ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例１２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｆ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ３９．１７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ２９．３８質量部
・ジプロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
９．７９質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例１５＞
実施例１４において、粘度調整剤として、グリコール系溶剤である「ジプロピレングリコール」を用いる代わりに、グリコール系溶剤である「プロピレングリコール」を用いたこと以外は、実施例１４と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜実施例１６＞
実施例１５において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｇ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例１５と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｇ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ９．７９質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ５８．７６質量部
・プロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
９．７９質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例１７＞
実施例１５において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｈ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例１５と同様の操作を行ない、の膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｈ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 １９．５８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ４８．９６質量部
・プロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
９．７９質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例１８＞
実施例１５において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｉ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例１５と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｉ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ５８．７５質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ９．８０質量部
・プロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
９．７９質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例１９＞
実施例１５において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｊ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例１５と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｊ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ３９．１７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ３４．２８質量部
・プロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
４．９０質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例２０＞
実施例１５において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｋ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例１５と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｋ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ３９．１７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ９．８０質量部
・プロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
２９．３８質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ６．９５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例２１＞
下記の「加水分解液Ｌの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１２時間撹拌することにより、加水分解液Ｌを調製した。

−加水分解液Ｌの組成−
・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔三菱化学（株）〕
０．７４質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 １．５４質量部
・蒸留水 ３．２６質量部
・０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液 ０．０８質量部

次いで、上記にて得られた加水分解液Ｌの全量に、下記の「組成Ｎ」に示した成分を添加して混合し、膜形成用組成物を得た。得られた膜形成用組成物を用いて、積層体を作製した。

−組成Ｎ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ４２．８６質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ３５．９４質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・シリカ分散液Ｍ １５．９３質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

シリカ分散液Ｍは、下記の「シリカ分散液Ｍの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１時間撹拌することにより調製した。

−シリカ分散液Ｍの組成−
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 １３．８９質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 １．０４質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 １６．９３質量部

＜実施例２２＞
実施例２１において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｏ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例２１と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｏ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ４２．８６質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ３５．９４質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） １．５４質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・シリカ分散液Ｍ １５．９３質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例２３＞
実施例２２において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｐ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例２２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｐ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ４５．６０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ２４．８０質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７３０〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１７．５、日本エマルジョン（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１質量％希釈液） １５．４０質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・シリカ分散液Ｍ １５．９３質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例２４＞
実施例２２において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｑ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例２２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｑ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ４５．６０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ２４．８０質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７５０〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１８．４、日本エマルジョン（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１質量％希釈液） １５．４０質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・シリカ分散液Ｍ １５．９３質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例２５＞
塗布した膜形成用組成物を１２０℃で６０分間加熱して乾燥させたこと以外は、実施例２２と同様の操作を行ない、積層体を作製した。

＜実施例２６＞
下記の「加水分解液Ｒの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１２時間撹拌することにより、加水分解液Ｒを調製した。

−加水分解液Ｒの組成−
・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔三菱化学（株）〕
０．６３質量部
・シラノールバインダー液Ｓ ６．３３質量部
・蒸留水 ４．１２質量部
・０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液 ０．０７質量部

シラノールバインダー液Ｓは、下記の「シラノールバインダー液Ｓの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１時間撹拌することにより調製した。

−シラノールバインダー液Ｓの組成−
・クラレポバール（登録商標）Ｒ−１１３０〔シラノール変性ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、（株）クラレ〕 ２．００質量部
・蒸留水 １８．００質量部

次いで、上記にて得られた加水分解液Ｒの全量に、下記の「組成Ｔ」に示した成分を添加して混合し、膜形成用組成物を得た。

−組成Ｔ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ３９．１５質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ２７．５０質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ３．５７質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、日本エマルジョン（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１質量％希釈液） １．３２質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．３２質量部
・シリカ分散液Ｍ １３．６６質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．００質量部

＜実施例２７＞
下記の「加水分解液Ｕの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１２時間撹拌することにより、加水分解液Ｕを調製した。

−加水分解液Ｕの組成−
・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔三菱化学（株）〕
０．６３質量部
・シラノールバインダー液Ｓ １５．８１質量部
・蒸留水 ４．１２質量部
・０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液 ０．０７質量部

次いで、上記にて得られた加水分解液Ｕの全量に、下記の「組成Ｖ」に示した成分を添加して混合し、膜形成用組成物を得た。

−組成Ｖ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ３９．１３質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 １８．９８質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ３．５７質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、日本エマルジョン（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） １．３２質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．３２質量部
・シリカ分散液Ｍ １３．６６質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．００質量部

＜実施例２８＞
実施例２２において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｗ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例２２と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｗ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ４５．６１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 ３２．９７質量部
・プロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
５．７０質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、日本エマルジョン（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） １．５４質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・シリカ分散液Ｍ １５．９３質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例２９＞
実施例２４において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成Ｘ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例２４と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成Ｘ−
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ４５．６１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル〔特定溶剤：グリコールエーテル系溶剤〕 １９．１０質量部
・プロピレングリコール〔粘度調整剤、グリコール系溶剤〕
５．７０質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１０質量％希釈液） ４．１７質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７５０〔特定非イオン性界面活性剤、日本エマルジョン（株）〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した１質量％希釈液） １５．４１質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（水／プロピレングリコールモノメチルエーテル（質量比：１／４）混合液を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．５４質量部
・シリカ分散液Ｍ １５．９３質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いて調製した０．１質量％希釈液）
３．５０質量部

＜実施例３０＞
下記の「加水分解液Ｙの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて２４時間攪拌することにより、加水分解液Ｙを調製した。

−加水分解液Ｙの組成−
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
１７．０２質量部
・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔三菱化学（株）〕
０．７３質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１質量％希釈液）
０．１１質量部
・蒸留水 ２２．２９質量部

次いで、上記にて得られた加水分解液Ｙの全量に、下記の「組成Ｚ」に示した成分を添加して混合し、膜形成用組成物を得た。得られた膜形成用組成物を用いて、基材上に形成する膜の厚みを３μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。

−組成Ｚ−
・蒸留水 ０．１５質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ２．８９質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
２．２２質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（蒸留水を用いて調製した１０質量％希釈液） ０．８２質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（蒸留水を用いて調製した０．２質量％希釈液） ０．８４質量部
・シリカ分散液ＡＡ ３６．５５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．１質量％希釈液） １．８７質量部
・ヒドロキシエチルセルロース〔４，５００〜６，５００ｍＰａ・ｓ、２質量％ in Water at ２５℃、東京化成工業（株）〕（水／エタノール（９５）＝１／１（質量比）を用いて調製した１質量％希釈液）
１４．５０質量部

シリカ分散液ＡＡは、下記の「シリカ分散液ＡＡの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１時間攪拌することにより調製した。

−シリカ分散液ＡＡの組成−
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２０．４０質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 １．５３質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
３２．９０質量部

＜実施例３１＞
実施例３０において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成ＡＢ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３０と同様の操作を行い、膜形成用組成物を調製した。

−組成ＡＢ−
・蒸留水 ０．０５質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ０．９６質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
２．２２質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（蒸留水を用いて調製した１０質量％希釈液）
０．８２質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（蒸留水を用いて調製した０．２質量％希釈液） ０．８４質量部
・シリカ分散液ＡＣ ３８．５８質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．１質量％希釈液） １．８７質量部
・ヒドロキシエチルセルロース〔４，５００〜６，５００ｍＰａ・ｓ、２質量％ in Water at ２５℃、東京化成工業（株）〕（水／エタノール（９５）＝１／１（質量比）を用いて調製した１質量％希釈液）
１４．５０質量部

シリカ分散液ＡＣは、下記の「シリカ分散液ＡＣの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１時間攪拌することにより調整した。

−シリカ分散液ＡＣの組成−
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２０．４０質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 １．５３質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
３５．９４質量部

（積層体の作製）
基材としてのポリメチルメタクリレート基板〔商品名：コモグラス（登録商標）ＣＧ Ｐ、厚さ：１ｍｍ、（株）クラレ〕上に、上記にて得られた膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。塗布後、膜形成用組成物を塗布したポリカーボネート基板を、２５℃にて１分間静置した。静置後、塗布した膜形成用組成物を８０℃で１０分間加熱して乾燥させて、基材上に、厚さ３μｍの膜を備える積層体を作製した。

＜実施例３２＞
実施例３０において得られた膜形成用組成物を用いた以外は、実施例３１同様にして積層体を作製した。

＜実施例３３＞
実施例３１において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成ＡＤ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３１と同様の操作を行い、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成ＡＤ−
・蒸留水 ０．２５質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ４．８２質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
２．２２質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（蒸留水を用いて調製した１０質量％希釈液） ０．８２質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（蒸留水を用いて調製した０．２質量％希釈液） ０．８４質量部
・シリカ分散液ＡＥ ３４．５２質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．１質量％希釈液） １．８７質量部
・ヒドロキシエチルセルロース〔４，５００〜６，５００ｍＰａ・ｓ、２質量％ in Water at ２５℃、東京化成工業（株）〕（水／エタノール（９５）＝１／１（質量比）を用いて調製した１質量％希釈液）
１４．５０質量部

シリカ分散液ＡＥは、下記の「シリカ分散液ＡＥの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１時間攪拌することにより調製した。

−シリカ分散液ＡＥの組成−
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２０．４０質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 １．５３質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２９．８６質量部

＜実施例３４＞
実施例３１において、加水分解液に添加して混合する成分を、下記の「組成ＡＦ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３１と同様の操作を行い、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成ＡＦ−
・蒸留水 ０．５１質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤〕 ９．６４質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
２．２２質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（蒸留水を用いて調製した１０質量％希釈液） ０．８２質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（蒸留水を用いて調製した０．２質量％希釈液） ０．８４質量部
・シリカ分散液ＡＧ ２９．４５質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．１質量％希釈液） １．８７質量部
・ヒドロキシエチルセルロース〔４，５００〜６，５００ｍＰａ・ｓ、２質量％ in Water at ２５℃、東京化成工業（株）〕（水／エタノール（９５）＝１／１（質量比）を用いて調製した１質量％希釈液）
１４．５０質量部

シリカ分散液ＡＧは、下記の「シリカ分散液ＡＧの組成」に示した成分を混合し、２５℃にて１時間攪拌することにより調製した。

−シリカ分散液ＡＧの組成−
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２０．４０質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 １．５３質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２２．４５質量部

＜実施例３５＞
実施例３０において、加水分解液を下記の組成「ＡＨ」に変更し、及び加水分解液に添加して混合する成分を下記の「組成ＡＩ」に示した成分に変更し、下記の「加水分解液の組成ＡＨ」に示した成分を混合した後、４０℃にて８時間撹拌することにより、加水分解液ＡＨを調製したこと以外は、実施例３０と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−加水分解液ＡＨの組成−
・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔三菱化学（株）〕
１．６６質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
１．２７質量部
・蒸留水 ３．２１質量部
・酢酸〔和光純薬工業（株）試薬特級〕 ０．２０質量部

次いで、上記にて得られた加水分解液ＡＨの全量に、下記の「組成ＡＩ」に示した成分を添加して混合し、膜形成用組成物を得た。

−組成ＡＩ−
・蒸留水 １．４６質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２６．８５質量部
・トクソーＩＰＡ（登録商標）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
１．８０質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤、ＫＨネオケム（株）〕
１１．９５質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
５．０６質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
１．８７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．８５質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 ２．２４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２９．９４質量部
・ＳＰ４００〔ヒドロキシエチルセルロース、ダイセルファインケム（株）〕（水を用いて調製した３質量％希釈液） １０．６４質量部

＜実施例３６＞
実施例３５において、加水分解液に添加して混合する成分を下記の「組成ＡＪ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３５と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成ＡＪ−
・蒸留水 １．８０質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２８．３１質量部
・トクソーＩＰＡ（登録商標）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
１．８０質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤、ＫＨネオケム（株）〕
１１．９５質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
５．０６質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
１．８７質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 ２．２４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２９．９４質量部
・ＳＰ４００〔ヒドロキシエチルセルロース、ダイセルファインケム（株）〕（水を用いて調製した３質量％希釈液） １０．６４質量部

＜実施例３７＞
実施例３５において、加水分解液に添加して混合する成分を下記の「組成ＡＫ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３５と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成ＡＫ−
・蒸留水 １．８３質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２４．２０質量部
・トクソーＩＰＡ（登録商標）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
１．８０質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤、ＫＨネオケム（株）〕
１１．９５質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
５．０６質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
１．８７質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 ２．２４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２９．９４質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．１質量％希釈液） ４．１３質量部
・ＳＰ４００〔ヒドロキシエチルセルロース、ダイセルファインケム（株）〕（水を用いて調製した３質量％希釈液） １０．６４質量部

＜実施例３８＞
実施例３１において、加水分解液を加水分解液ＡＨに変更し、加水分解液に添加して混合する成分を下記の「組成ＡＬ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３１と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成ＡＬ−
・蒸留水 １．１３質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
３３．２９質量部
・トクソーＩＰＡ（登録商標）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２．１３質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤、ＫＨネオケム（株）〕
５．５２質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
５．０６質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
１．８７質量部
・ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム〔帯電防止剤であるイオン性界面活性剤、日油（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．２質量％希釈液） １．８５質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 ２．２４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２９．９４質量部
・ＳＰ４００〔ヒドロキシエチルセルロース、ダイセルファインケム（株）〕（水を用いて調製した３質量％希釈液） １０．６４質量部

＜実施例３９＞
実施例３８において、加水分解液に添加して混合する成分を下記の「組成ＡＭ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３８と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成ＡＭ−
・蒸留水 １．４８質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
３４．７４質量部
・トクソーＩＰＡ（登録商標）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２．１３質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤、ＫＨネオケム（株）〕
５．５１質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
５．０６質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
１．８７質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 ２．２４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２９．９４質量部
・ＳＰ４００〔ヒドロキシエチルセルロース、ダイセルファインケム（株）〕（水を用いて調製した３質量％希釈液） １０．６４質量部

＜実施例４０＞
実施例３８において、加水分解液に添加して混合する成分を下記の「組成ＡＮ」に示した成分に変更したこと以外は、実施例３８と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

−組成ＡＮ−
・蒸留水 １．５０質量部
・エタノール（９５）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
３０．６４質量部
・トクソーＩＰＡ（登録商標）〔特定溶剤：アルコール系溶剤〕
２．１３質量部
・ジアセトンアルコール〔ケトン系溶剤、ＫＨネオケム（株）〕
５．５２質量部
・アルミキレートＤ〔縮合促進触媒、川研ファインケミカル（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
５．０６質量部
・ＥＭＡＬＥＸ ７１５〔特定非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ＨＬＢ：１５．６、日本エマルジョン（株）〕（エタノール（９５）を用いて調製した１０質量％希釈液）
１．８７質量部
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−２０１５〔特定イオン性界面活性剤、酸吸着性基：カルボキシ基、酸価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：４０質量％、ＢＹＫ社〕 ２．２４質量部
・スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ〔シリカ粒子、日産化学工業（株）〕 ２９．９４質量部
・ポリアクリル酸〔重量平均分子量：２５０，０００〕（エタノール（９５）を用いて調製した０．１質量％希釈液） ４．１３質量部
・ＳＰ４００〔ヒドロキシエチルセルロース、ダイセルファインケム（株）〕（水を用いて調製した３質量％希釈液） １０．６４質量部

＜比較例１＞
実施例１において、ケトン系溶剤である「アセトン」を用いる代わりに、アルコール系溶剤である「エタノール（９５）」を用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜比較例２＞
実施例１において、ケトン系溶剤である「アセトン」を用いる代わりに、アルコール系溶剤である「ｎ−プロパノール」を用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜比較例３＞
実施例１において、ケトン系溶剤である「アセトン」を用いる代わりに、エーテル系溶剤である「１，２−ジメトキシエタン」を用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜比較例４＞
実施例１において、ケトン系溶剤である「アセトン」を用いる代わりに、グリコールエーテル系溶剤である「プロピレングリコールモノメチルエーテル」を用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜比較例５＞
実施例９において、ケトン系溶剤である「ジアセトンアルコール」を用いる代わりに、エステル系溶剤である「酢酸メチル」を用いたこと以外は、実施例９と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

＜比較例６＞
実施例９において、ケトン系溶剤である「ジアセトンアルコール」を用いる代わりに、炭化水素系溶剤である「キシレン」を用いたこと以外は、実施例９と同様の操作を行ない、膜形成用組成物を調製して、積層体を作製した。

上記にて調製した膜形成用組成物及び作製した積層体の処方等を表２〜表５に示す。
表２〜表５中、「ポリアクリル酸」を「ＰＡ」と表記した。
表２〜表６中、「ポリカーボネート」を「ＰＣ」と表記した。
表５中、「ポリメチルメタクリレート」を「ＰＭＭＡ」と表記した。
表２〜表６における「比率（質量％）」とは、膜形成用組成物に含まれる溶媒の全質量に対する割合を意味する。
表２〜表６における「特定溶剤／ケトン系溶剤比率」とは、膜形成用組成物中における、ケトン系溶剤の含有量に対する特定溶剤の含有量の比率（質量基準）を意味する。
表２〜表６中の処方の欄において、「−」は該当する成分を配合していないことを意味する。

［評価］
上記にて調製した膜形成用組成物及び作製した積層体を用いて、以下の性能評価を行なった。結果を、表７、表８及び表９に示す。

１．膜の密着性
基材と膜との密着性は、膜に対して、ＪＩＳ（日本工業規格）Ｋ５６００（クロスカット法）に準拠したクロスハッチテストを行ない、以下の評価基準に従って評価した。このクロスハッチテストでは、カット間隔を２ｍｍとし、２ｍｍ角の正方形の格子を２５個形成した。
下記の評価基準において、「ＡＡＡ」、「ＡＡ」、「Ａ」及び「Ｂ」が、実用上許容されるレベルである。

−膜の密着性の評価基準−
ＡＡＡ：剥がれが全く認められなかった。
ＡＡ：カット線上に薄く剥がれが認められた。
Ａ：カット線上に明確に剥がれが認められた。
Ｂ：カット線の交点付近に剥がれが認められた。
Ｃ：１つ以上の格子が剥がれた。

２．積層体の透明性
ヘーズメーター（型番：ＮＤＨ ５０００、日本電色工業（株））を用いて、積層体のヘーズ（Ｈａｚｅ）を測定し、得られた測定値を、透明性を評価する指標とした。ヘーズは、積層体の基材面、すなわち、積層体の膜が形成されている面とは反対側の面を光源に向けて測定した。
本評価試験において、ヘーズの測定値は低いほど、透明性に優れる積層体であることを意味する。また、積層体の透明性が優れるということは、膜の透明性が優れることを意味する。ヘーズの測定値は、２％以下が実用上許容されるレベルである。

３．膜の接触角
雰囲気温度２５℃の条件下で、膜の表面に純水を１μＬ滴下し、θ/２法により接触角
（単位：°）を５回測定した。得られた測定値の平均値を水接触角の値とした。なお、測定装置には、全自動接触角計（型番：ＤＭ−７０１、協和界面科学（株））を用いた。
膜の接触角の値が低いほど、親水性、ひいては防曇性に優れる膜であることを意味する。

４．防汚性
フタ付きガラス容器に積層体及びシリコーンシーラント１５２７Ｗ（商品名、天山新材料有限公司社）を入れて密封した。この密封したガラス容器を、６５℃、２５％ＲＨの状態に保った恒温恒湿器（型式：ＳＨ−６４１、エスペック（株））の中に入れ、１５０時間放置した。放置後、密封したガラス容器から積層体を取り出し、膜の接触角を、上記の「３．膜の接触角」と同様の方法により測定した。
放置後の膜の接触角の値が低いほど、シリコーンガスに対する防汚性に優れる膜であることを意味する。

５．吸水量
積層体の質量を測定し、得られた測定値を「初期質量」とした。次いで、６０℃の湯浴を準備し、雰囲気温度２５℃、相対湿度５０％の条件下で、積層体の膜の５ｃｍ四方の範囲にのみ、湯浴の水面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を当てた。積層体を垂直に傾けた場合に水垂れが生じない限度まで、膜に蒸気を当てた後、積層体の質量を測定し、得られた測定値を「試験後質量」とした。初期質量及び試験後質量から、試験による質量増加量を算出し、蒸気を当てた単位面積当たりの質量を求め、吸水量（単位：ｍｇ／ｃｍ^２）とした。
吸水量が多いほど、膜が膨潤し易い傾向がある。

６．塗装適性
（１）ポリカーボネート基板に対する塗装適性
平置きしたポリカーボネート基板（大きさ：２００ｍｍ×２００ｍｍ、厚さ：０．５ｍｍ）の一方の面に、実施例１〜実施例３０の膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。塗布後、膜形成用組成物を塗布したポリカーボネート基板を、２５℃にて３０秒間静置した。次いで、ポリカーボネート基板を垂直に傾けた後、ポリカーボネート基板上の膜形成用組成物を１２０℃で２０分間加熱して乾燥させた。乾燥後、ポリカーボネート基板上に形成された膜の面状を目視にて観察し、以下の評価基準に従って、塗装適性を評価した。
下記の評価基準において、「Ａ」及び「Ｂ」が、実用上許容されるレベルである。

（２）ポリメチルメタクリレート基板に対する塗装適性
平置きしたポリメチルメタクリレート基板〔大きさ：２００ｍｍ×２００ｍｍ、厚さ：１ｍｍ〕の一方の面に、実施例３１〜実施例３４の膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。塗布後、膜形成用組成物を塗布したポリメチルメタクリレート基板を、２５℃にて３０秒間静置した。次いで、ポリメチルメタクリレート基板を垂直に傾けた後、ポリメチルメタクリレート基板上の膜形成用組成物を８０℃で１０分間加熱して乾燥させた。乾燥後、ポリメチルメタクリレート基板上に形成された膜の面状を目視にて観察し、以下の評価基準に従って、塗装適性を評価した。
下記の評価基準において、「Ａ」及び「Ｂ」が、実用上許容されるレベルである。

−塗装適性の評価基準−
Ａ：液垂れ跡が全く確認されなかった。
Ｂ：大きな液垂れ跡は確認されなかったが、細かな液垂れ跡がわずかに確認された。
具体的には、幅１ｃｍ未満、長さ１ｃｍ未満の液垂れ跡が確認された。
Ｃ：大きな液垂れ跡が確認された。
具体的には、幅１ｃｍ以上、長さ１ｃｍ以上の液垂れ跡が視認された。

表７及び表８に示すように、特定シロキサン化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、ケトン系溶剤と、水とを含む、実施例１〜実施例３４の膜形成用組成物を用いて形成した膜は、基材との密着性に優れていた。また、実施例１〜実施例４０の膜形成用組成物を用いて形成した膜を備える積層体は、透明性に優れていた。
また、実施例１〜実施例４０の膜形成用組成物を用いて形成した膜は、水接触角の値が小さく、防曇性に優れると考えられる。

一方、表９に示すように、ケトン系溶剤の代わりに特定溶剤を含む比較例１〜比較例４の膜形成用組成物を用いて形成した膜は、実施例の膜形成用組成物を用いて形成した膜と比較して、密着性が顕著に劣っていた。
また、ケトン系溶剤の代わりに特定溶剤とエステル系溶剤である酢酸メチルとを含む比較例５、及びケトン系溶剤の代わりに特定溶剤と炭化水素系溶剤であるキシレンとを含む比較例６の膜形成用組成物を用いて形成した膜を備える積層体は、実施例の膜形成用組成物を用いて形成した膜を備える積層体と比較して、透明性が顕著に劣っていた。

特定シロキサン化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、ケトン系溶剤と、特定溶剤と、水とを含む膜形成用組成物（例えば、実施例２）を用いて形成した膜は、特定溶剤を含まない膜形成用組成物（例えば、実施例１）を用いて形成した膜と比較して、密着性がより優れていた。

ポリアクリル酸を含む膜形成用組成物（例えば、実施例１０〜１３）を用いて形成した膜は、ポリアクリル酸を含まない膜形成用組成物（例えば、実施例９）を用いて形成した膜と比較して、密着性がより優れていた。
特定イオン性界面活性剤を含む膜形成用組成物（例えば、実施例２１）を用いて形成した膜は、特定イオン性界面活性剤を含まない膜形成用組成物（例えば、実施例２）を用いて形成した膜と比較して、防汚性が顕著に優れていた。
特定イオン性界面活性剤に加えて、更に特定非イオン性界面活性剤を含む膜形成用組成物（例えば、実施例２２）を用いて形成した膜は、特定イオン性界面活性剤に加えて、更に特定非イオン性界面活性剤を含まない膜形成用組成物（例えば、実施例２１）を用いて形成した膜と比較して、防汚性が更に優れていた。

基材上に塗布した膜形成用組成物の乾燥時間が６０分の実施例２５は、乾燥時間が２０分の実施例２２と比較して、膜の吸水量が少ないことから、膜が水分によって膨潤し難く、より良好な密着性を有することが示唆された。
特定シロキサン化合物の加水分解物の一部を、シラノール変性ポリビニルアルコールに代えた膜形成用組成物（例えば、実施例２６及び実施例２７）を用いて形成した膜は、シラノール変性ポリビニルアルコールを含まない膜形成用組成物（例えば、実施例２２）と比較して、吸水量が多く、密着性が劣っていた。

［監視カメラカバーへの適用］
＜実施例４１〜実施例６９＞
ソニー（株）のネットワークカメラ用屋外ドームハウジングＡ−ＯＤＰ７Ｃ１Ａに用いられるハウジング交換カバーＲＣＰ７Ｃの内面に、各実施例（実施例１〜実施例２９）で調製した膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。次いで、塗布した膜形成用組成物を、１２０℃にて２０分間乾燥（実施例２５で調製した膜形成用組成物に関しては、６０分間乾燥）させることにより、内面が膜（乾燥後の厚さ：１００μｍ）で被覆されたカメラカバーを得た。次いで、６０℃の湯浴を準備し、得られたカメラカバーの膜で被覆された内面に、湯浴の水面と内面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を２分間当てた。
また、比較試験として、膜形成用組成物を用いて膜を形成していないハウジング交換カバーＲＣＰ７Ｃの内面に、上記と同様の方法により蒸気を当てた。
その結果、膜を形成していないカメラカバーの内面には、曇りが生じたのに対して、膜を形成したカメラカバーの内面は曇らず、実施例１〜実施例２９の膜形成用組成物によれば、良好な防曇性を示す膜を形成できることが明らかとなった。

＜実施例７０〜実施例７３＞
実施例３０、実施例３５〜実施例３７で調製した膜形成用組成物を用い、膜の乾燥後の厚さを３μｍにした以外は、実施例４１〜実施例６９と同様にして、ハウジング交換カバーＲＣＰ７Ｃの内面が膜で被覆されたカメラカバーを得た。次いで、６０℃の湯浴を準備し、得られたカメラカバーの膜で被覆された内面に、湯浴の水面と内面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を２分間当てた。
その結果、膜を形成したカメラカバーの内面は曇らず、実施例３０、実施例３５〜実施例３７の膜形成用組成物によれば、良好な防曇性を示す膜を形成できることが明らかとなった。

＜実施例７４〜実施例８０＞
ハウジング交換カバー（商品名：ＢＫＣ-１３Ｌ、（株）プラコー）の内面に各実施例（実施例３１〜実施例３４、実施例３８〜実施例４０）で調製した膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。次いで、塗布した膜形成用組成物を、８０℃にて１０分間乾燥させることにより、内面が膜（乾燥後の厚さ：３μｍ）で被覆されたカメラカバーを得た。次いで、６０℃の湯浴を準備し、得られたカメラカバーの膜で被覆された内面に、湯浴の水面と内面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を２分間当てた。
また、比較試験として、膜形成用組成物を用いて膜を形成していないハウジング交換カバーＢＫＣ-１３Ｌの内面に、上記と同様の方法により蒸気を当てた。
その結果、膜を形成していないカメラカバーの内面には、曇りが生じたのに対して、膜を形成したカメラカバーの内面は曇らず、実施例３１〜実施例３４、実施例３８〜４０の膜形成用組成物によれば、良好な防曇性を示す膜を形成できることが明らかとなった。

［自動車ヘッドライトレンズへの適用］
＜実施例８１〜実施例１０９＞
（株）オフィスケイのＷ２１９補修用ヘッドライトレンズの内面に、各実施例（実施例１〜実施例２９）で調製した膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。次いで、塗布した膜形成用組成物を、１２０℃にて２０分間乾燥（実施例２５で調製した膜形成用組成物に関しては、６０分間乾燥）させることにより、内面が膜で被覆されたヘッドライトレンズを得た。次いで、６０℃の湯浴を準備し、得られたヘッドライトレンズの膜で被覆された内面に、湯浴の水面と内面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を２分間当てた。
また、比較試験として、膜形成用組成物を用いて膜を形成していないヘッドライトレンズの内面に、上記と同様の方法により蒸気を当てた。
その結果、膜を形成していないヘッドライトレンズの内面には、曇りが生じたのに対して、膜を形成したヘッドライトレンズの内面は曇らず、実施例１〜実施例２９の膜形成用組成物によれば、良好な防曇性を示す膜を形成できることが明らかとなった。

＜実施例１１０〜実施例１１３＞
実施例３０、実施例３５〜実施例３７で調製した膜形成用組成物を用い、膜の乾燥後の厚さ３μｍにした以外は、実施例８１〜実施例１０９と同様にして、（株）オフィスケイのＷ２１９補修用ヘッドライトレンズの内面が膜で被覆されたヘッドライトレンズを得た。次いで、６０℃の湯浴を準備し、得られたヘッドライトレンズの膜で被覆された内面に、湯浴の水面と内面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を２分間当てた。
その結果、膜を形成したヘッドライトレンズの内面は曇らず、実施例３０、実施例３５〜実施例３７の膜形成用組成物によれば、良好な防曇性を示す膜を形成できることが明らかとなった。

［自動車テールライトレンズへの適用］
＜実施例１１４〜実施例１２０＞
（有）モータープロデュースのヴィッツ用ＬＥＤテールライト（商品番号：ＯＥＴ１５３）のレンズカバー内面に、各実施例（実施例３１〜実施例３４、実施例３８〜実施例４０）で調製した膜形成用組成物を、スプレーガン（形式：Ｗ−１０１−１０１Ｇ、アネスト岩田（株））を用いて塗布した。次いで、塗布した膜形成用組成物を、８０℃にて１０分間乾燥させることにより、内面が膜（乾燥後の厚さ：３μｍ）で被覆されたテールライトレンズを得た。次いで、６０℃の湯浴を準備し、得られたテールライトレンズの膜で被覆された内面に、湯浴の水面と内面との距離を５ｃｍに保った状態で湯浴の蒸気を２分間当てた。
また、比較試験として、膜形成用組成物を用いて膜を形成していないテールライトレンズの内面に、上記と同様の方法により蒸気を当てた。
その結果、膜を形成していないテールライトレンズの内面には、曇りが生じたのに対して、膜を形成したテールライトレンズの内面は曇らず、実施例３１〜実施例３４、実施例３８〜実施例４０の膜形成用組成物によれば、良好な防曇性を示す膜を形成できることが明らかとなった。

２０１６年６月１７日に出願された日本国特許出願２０１６−１２１２８６及び２０１６年１１月１５日に出願された日本国特許出願２０１６−２２２７５６の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (6)

1. 下記式（１）で表されるシロキサン化合物の加水分解物と、
   シリカ粒子と、
   アセトン、ジアセトンアルコール、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、及びシクロペンタノンから選択される少なくとも１種のケトン系溶剤と、
   水と、
   を含む膜形成用組成物。
   
   
   式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜６の１価の有機基を表す。ｎは、２〜２０の整数を表す。
2. 更に、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、及びエーテル系溶剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤を含む請求項１に記載の膜形成用組成物。
3. 更に、ウレタン系樹脂及び（メタ）アクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂を含む請求項１又は請求項２に記載の膜形成用組成物。
4. 前記（メタ）アクリル系樹脂が、ポリアクリル酸である請求項３に記載の膜形成用組成物。
5. 基材上に、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の膜形成用組成物を付与することにより膜を形成することを含む積層体の製造方法。
6. 前記基材が、ポリカーボネート基材又はポリメチルメタクリレート基材である請求項５に記載の積層体の製造方法。