JP5804996B2 - 有機基材用防曇防汚剤及び当該防曇防汚剤で有機基材を被覆する方法 - Google Patents
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Description
本発明の有機基材用防曇防汚剤は、さらに、ケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸テトラエチル、アルカリ土類金属塩から選択される少なくとも1種の添加剤を含有していてもよい。
また、本発明の有機基材用防曇防汚剤を有機基材に接触又は塗布して、有機基材の表面を膨潤させ、膨潤した有機基材中にオルガノシリカゾルを侵入させ、常温で乾燥させてアルコール系有機溶剤を除去し、シリカ被膜を形成することを含む、有機基材を防曇防汚剤で被覆する方法も提供される。
本発明の有機基材用防汚防曇剤により有機基材上に形成される無機硬化塗膜は、紫外線による劣化や黄変が少なく、長期にわたりセルフクリーニングによる防汚効果を維持できる。
本発明の有機基材用防汚防曇剤は、有機基材に塗布した後は常温乾燥により有機基剤に浸透し密着するため、密着強度が高く、長期にわたり防汚防曇効果を維持できる。
[実施例1]
水4.893wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)42.000wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)42.500wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)8.000wt%を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤1を得た。
水4.893wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)50.000wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)42.500wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)0.400wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)1.600wt%を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤2を得た。
水4.893wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)42.000wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)42.500wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてMA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)10.000wt%を添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤3を得た。
水8.050wt%にエタノール(和光純薬製)0.800wt%、2N塩酸0.010wt%及びオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)(和光純薬製)0.100wt%を順次添加し、TEOS溶液を得た。別途、水5.393wt%にホウ酸(和光純薬製)0.090wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)37.800wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)38.250wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)1.800wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)7.200wt%、TEOS溶液を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤4を得た。
水4.893wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、エタノール(和光純薬製)42.000wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)42.500wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてIPA-ST(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、IPA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)8.000wt%を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤5を得た。
水8.050wt%にエタノール(和光純薬製)0.750wt%、2N塩酸0.005wt%及びオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)(和光純薬製)0.050wt%を順次添加し、TEOS溶液を得た。別途、水5.030wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.010wt%、水酸化マグネシウム0.005wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)10.800wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)65.250wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.450wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)7.500wt%、TEOS溶液を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤6を得た。
水8.050wt%にエタノール(和光純薬製)0.800wt%、2N塩酸0.010wt%及びオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)(和光純薬製)0.100wt%を順次添加し、TEOS溶液を得た。別途、水2.393wt%にホウ酸(和光純薬製)0.090wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)65.250wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)10.800wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)10.000wt%、TEOS溶液を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤7を得た。
水8.050wt%にエタノール(和光純薬製)0.800wt%、2N塩酸0.010wt%及びオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)(和光純薬製)0.100wt%を順次添加し、TEOS溶液を得た。別途、水5.425wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.010wt%、水酸化マグネシウム0.005wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)16.800wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)53.250wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.450wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)7.500wt%、TEOS溶液を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤8を得た。
水8.050wt%にエタノール(和光純薬製)0.800wt%、2N塩酸0.010wt%及びオルトケイ酸テトラエチル(TEOS)(和光純薬製)0.100wt%を順次添加し、TEOS溶液を得た。別途、水5.393wt%にホウ酸(和光純薬製)0.090wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)56.250wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)19.800wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)1.800wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)7.200wt%、TEOS溶液を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤9を得た。
[比較例1]
水5.393wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)42.000wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)42.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)8.000wt%を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤10を得た。
水69.393wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)10.000wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)10.000wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)8.000wt%を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤11を得た。
水4.393wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)85.000wt%、イソプロピルアルコール(和光純薬製)5.000wt%、及びテトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)1.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)4.000wt%を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤12を得た。
水9.393wt%にホウ酸(和光純薬製)0.100wt%を添加し、完全に溶解するまで撹拌した。撹拌しているホウ酸水溶液にケイ酸ナトリウム(富士化学製)0.005wt%、水酸化マグネシウム0.002wt%を添加した。その後、メタノール(和光純薬製)80.000wt%、テトラヒドロフラン(和光純薬製)0.500wt%を少量ずつ滴下し、スターラーで10分撹拌した。撹拌後、オルガノシリカゾルとしてメタノールシリカゾル(粒子径10〜20nm、固形分30%:日産化学工業製)2.000wt%、MA-ST-UP(粒子径40〜100nm、固形分15%:日産化学工業製)8.000wt%を順次添加し、スターラーで30分撹拌し、防汚防曇剤13を得た。
防曇防汚剤1〜13をアクリル基材、ポリカーボネート基材及びポリエステル基材の3種類の有機基材にスピンコート法を用いて10秒〜60秒間接触させた後、室温、低湿度環境下で常温乾燥させて、有機基材に無機硬化塗膜を形成させ、試験片1〜13とした。
次に、得られた試験片1〜13の外観を観察した後、接触角、密着強度及び耐久性を測定した。試験方法は以下のとおりである。
試験片上の塗膜状態を目視で確認した。
・接触角測定
ぬれ性評価装置(株式会社ニック製)を用いて、純水1μlを試験片に滴下し、液滴の拡がりが終了した点での接触角を測定した。
JIS K5600-5-6(クロスカット法)に準拠した方法で付着性を確認したところ、目視での確認が難しく、クロスカット法では塗膜の剥離が不明瞭であった。そこで、以下に示す方法で耐テープ剥離性試験を行った。
○:8割程度塗膜が残存した(テープの粘着成分が試験片上に8割程度残っているものを含む)
△:5割程度塗膜が残存した(テープの粘着成分が試験片上に5割程度残っているものを含む)
×:完全に塗膜が剥離した
・耐久性試験
試験片を屋外に2ヶ月間放置し、曝露試験を行った。2ヶ月曝露後の表面状態を目視により確認した。評価基準は下記に依った。
△:汚れの付着は認められるが、流水で洗い流すことができた
実施例1〜9及び比較例1〜4の組成及び試験片1〜13の塗膜性能試験結果を下記表1〜表3にまとめた。
実施例1で調製した防汚防曇剤1を有機基材であるアクリル樹脂に接触させ、常温乾燥させた後のアクリル樹脂表面の原子間力顕微鏡(AFM)による表面解析の結果、アクリル樹脂表面に20〜80nm程度の凹凸が形成され、親水効果が強化されていることが確認された(図3参照)。透過型電子顕微鏡(FE-TEM/EDS)による断面観察を行ったところ、界面より約90nmまで浸透していることが確認された(図2参照)。図2に示すFE-TEM/EDSの断面観察及び元素マッピングにおいて観察しやすくするために、表面にPtを蒸着した。図2中、黒く見える部分がPtであり、Ptと塗膜界面から約29nm付近で防汚防曇剤1の酸素(成分1)が22%程度、ケイ素(成分2)が12%程度存在していることがわかる。
本発明の有機基材用防曇防汚剤を接触させて形成されたシリカ被膜は、アクリル樹脂に親水性を付与する。親水性が付与されるとアクリル樹脂に汚れが付着しにくくなり、また付着した汚れも水と共に流下されるので、有機基材表面の防汚性が強化される。本発明の有機基材用防曇防汚剤を塗布して表面に無機硬化塗膜(シリカ被膜)を形成したアクリル樹脂の親水性の指標である水接触角は20度以下となることが確認された(図4参照)。図4に示す例(実施例5で調製した防汚防曇剤5)では、塗布前のアクリル樹脂表面の水接触角が70度に対して、塗布後の水接触角は7度と著しく親水性が改善されたことがわかる。
本発明の有機基材用防曇防汚剤をアクリル樹脂製ミラー及びポリエステル樹脂表面に塗布し、屋外での自然暴露試験を行ったところ、本発明の有機基材用防曇防汚剤を塗布した加工面では水滴も汚れも認められず、良好な視認性が維持されていることが確認できた(図5参照)。図5上の写真は、実施例3で調製した防汚防曇剤3をアクリル樹脂ミラーに接触、塗布して常温乾燥させたサンプルについて雨天時に撮影した水滴の残りの有無を示し、下の写真は実施例1で調製した防汚防曇剤1をポリエステル樹脂表面に接触、塗布して常温乾燥させたサンプルについて汚れの程度を示す。これらのサンプルでは約7ヶ月間の屋外暴露試験の結果、親水効果を維持していたことが確認されている。
実施例1で調製した防汚防曇剤1をガラス板にスピンコートし、常温乾燥させた後、温水の入ったビーカーの上に置いて放置したところ、本発明の有機基材用防曇防汚剤で被覆した部分には水滴が付着しないことが確認できた(図6参照)。同様にアクリル板に適用した場合も図6と同様の効果を示すことを確認している。
Claims (9)
- メタノール及び/又はエタノール20〜80wt%と、
イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール又はグリコールエーテル20〜80wt%と、
オルガノシリカゾル1.0〜70.0wt%と、
テトラヒドロフラン0.1〜3.0wt%と、
ホウ酸0.02〜0.4wt%と、
を含有する、有機基材用防曇防汚剤。 - メタノール及び/又はエタノール35〜55wt%と、
イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール又はグリコールエーテル35〜55wt%と、
オルガノシリカゾル1.5〜20.0wt%と、
テトラヒドロフラン0.5〜2.0wt%と、
ホウ酸0.05〜0.15wt%
を含有する、請求項1に記載の有機基材用防曇防汚剤。 - メタノール及び/又はエタノールと、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール又はグリコールエーテルとの含有比率は1:2〜2:1の範囲にある、請求項1又は2に記載の有機基材用防曇防汚剤。
- 前記オルガノシリカゾルは、鎖状シリカゾルである、請求項1〜3の何れかに記載の有機基材用防曇防汚剤。
- 前記オルガノシリカゾルは、鎖状シリカゾルと球状シリカゾルとの併用である、請求項1〜4のいずれかに記載の有機基材用防曇防汚剤。
- さらに、ケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸テトラエチル、アルカリ土類金属塩から選択される少なくとも1種の添加剤を含有する、請求項1〜5の何れかに記載の有機基材用防曇防汚剤。
- 前記有機基材は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂から選択される、請求項1〜6の何れかに記載の有機基材用防曇防汚剤。
- 請求項1〜7の何れかに記載の有機基材用防曇防汚剤を有機基材に接触又は塗布して、有機基材の表面を膨潤させ、膨潤した有機基材中にオルガノシリカゾルを侵入させ、常温で乾燥させてアルコール系有機溶剤を除去し、シリカ被膜を形成することを含む、有機基材を防曇防汚剤で被覆する方法。
- 前記有機基材は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂から選択される、請求項8に記載の方法。
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