JP6684835B2 - ローラ機構及びエッチング装置 - Google Patents

Description

本発明は、２つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体、該支持体を備えるローラ機構、及び該ローラ機構を備えるエッチング装置に関する。

例えばエッチング装置における半導体基板の被搬送板体（以下「ワーク」と呼ぶ。）を２つのローラで上下に挟んで搬送するローラ機構が用いられる（例えば、特許文献１参照）。ここで、ワークを挟む２つのローラは、その離間距離をワークの厚みに併せて定める必要がある。

従来、上側のローラと下側のローラとは同一のサイズであり、２つのローラを１の溝に貫入して下側のローラを支え、その上にある上側のローラとの間にコロを設けていた。コロのサイズによって２つのローラの離間距離を調整し、また、コロを介して２のローラが連動して回転するものである。しかし、長時間の回転及び昇温冷却の繰り返しにより締結が緩むことで、コロずれが生じてしまい、安定した搬送が困難になってしまう。また、締結が緩まないように強くネジ締めすると、偏心が発生してしまう。安定した搬送には適さないものであった。

そこで、２つのローラを、コロを接触することなく、それぞれ独立に位置決めして離間距離を定めることのできるローラ機構が求められる。

特開２００６−２２２１１７号公報

本発明は、２つのローラの軸受け位置を安定して定めることができるローラ機構用の支持体、該支持体を用いるローラ機構、及び該ローラ機構を用いるエッチング装置を提供することを課題とする。

本発明のローラ機構用の支持体は、
２つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体であって、
第１の半円と、該第１の半円に該半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第１の矩形と、を含む断面形状に形成された下段溝と、
前記第１の半円よりも大きな直径を有し、前記第１の矩形と該矩形の前記一辺に対向する他辺側に少なくとも一部を重ねて接続する第２の半円のうち該矩形外の部分と、該第２の半円に該半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第２の矩形と、を含む断面形状で、前記第２の矩形の前記一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝と、
を備え、
前記第２の半円は、該半円の弦を前記第１の矩形の前記一辺と平行に向けることを特徴とする。

この特徴によれば、２つのローラの一方（下段ローラ）を上段溝の開口から挿入し第２の矩形及び第２の半円を介して下段溝に受け、２つのローラの他方（上段ローラ）を上段溝の開口から挿入して上段溝に受けることで、２つのローラの位置（離間距離）を安定して定めることができる。

本発明のローラ機構は、
本発明のローラ機構用の支持体と、
前記第１の半円と等しい直径の軸受けを有する下段ローラと、
前記第２の半円と等しい直径の軸受けを有する上段ローラと、
を備えることを特徴とする。

この特徴によれば、２つのローラの位置（離間距離）の安定したローラ機構を提供することができる。

本発明のローラ機構は、
前記下段ローラ及び上段ローラにそれぞれ接続する２のギアを備え、
該２のギアを介して前記下段ローラ及び前記上段ローラが逆向きに等速度で回転することを特徴とする。

この特徴によれば、下段ローラと上段ローラの回転を連動させ、逆向きに等速度で回転することでワークに上下から同等の移動を与え、ワークを安定して搬送することができる。

本発明のローラ機構は、
前記上段溝は、前記断面に直交する方向に高さの異なる第１及び第２段部を有し、
前記上段ローラの軸受けは、長手方向に高さの異なる第１及び第２端部を有することを特徴とする。

この特徴によれば、上段ローラの軸受けを一向きに上段溝に入れて軸受けの第１及び第２端部をそれぞれ上段溝の第１及び第２段部上に受け、上段ローラの軸受けを逆向きに上段溝に入れて軸受けの第１及び第２端部のうちの低いほうを上段溝の第１及び第２段部のうちの高いほうの上に支持することで、上段溝内で支持される上段ローラの高さを変えることができる。

本発明のローラ機構は、
前記上段ローラの軸受けは、前記第２の半円と等しい直径を有する２つの円弧と該２つの円弧の端部を接続する２つの直線とを含む外縁形状を有し、外縁形状の中心から前記２つの円弧の一方側に偏心した軸受孔を有することを特徴とする。

この特徴によれば、上段ローラの軸受けを一向き又は逆向きに上段溝に入れて軸受けを受けることで、上段溝内で支持される上段ローラの高さを変えることができる。

本発明のエッチング装置は、
ワークにエッチング液を噴射するエッチング装置であって、
本発明のローラ機構と、
前記下段ローラの下方又は前記上段ローラの上方からエッチング液を噴射する噴射装置と、
を備えることを特徴とする。

この特徴によれば、ワークを安定して搬送するエッチング装置を提供することができる。

本発明のエッチング装置は、
前記下段ローラと上段ローラの離間距離はワークの厚さに略等しいことを特徴とする。

この特徴によれば、ワークの厚さに合わせた設計で、ワークをさらに安定して搬送することができる。ここで、「略等しい」とは、ワークを下段ローラと上段ローラで狭圧して搬送できる状態であることを言う。

本発明のローラ機構用の支持体によれば、下段ローラと上段ローラの離間距離を安定して定めることが可能となる。

本発明のローラ機構によれば、下段ローラと上段ローラの離間距離が安定しており、ワークを安定して搬送することが可能となる。

本発明のエッチング装置によれば、ワークが安定して搬送され、効率的なエッチング処理が可能となる。

図１は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す側面図である。 図２は、溝の形状を示す図である。 図３は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す正面図である。 図４は、エッチング装置の構成を示す正面図である。 図５は、ローラ機構用の支持体の構成を示す図である。 図６は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。 図７は、ローラ機構の構成を示す図である。 図８は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。 図９は、ローラ機構の構成を示す図である。

以下、本発明の実施例について説明する。

本実施例は、ローラ機構の基本的な構成を示すものである。

図１は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す側面図であり、ワーク２０の搬送方向が図面左右方向である。ローラ機構１０は、対向する２つのローラによりワーク２０を挟んで搬送する機構であり、支持体１１、下段ローラ１２、及び上段ローラ１３を備える。ここで、ワーク２０として、例えば半導体基板を搬送することができる。

（支持体の構成）
支持体１１は、下段ローラ１２及び上段ローラ１３を回転可能に受けるローラ機構用の支持体である。下段ローラ１２及び上段ローラ１３のそれぞれの両端を支持するよう、一対の支持体１１が互いに対向して床面１４上に配置される。支持体１１は、ワーク２０の搬送方向を長手とする矩形状の板状部材であり、上辺に向かって開口する溝１１ａが長手方向に複数並んで形成されている。なお、支持体１１は、一軸方向に並設された１又は複数の溝１１ａが形成されていれば、板状の一体物に限らず任意の形状及び構造を採用することができる。

図２は、溝の形状を示す図である。溝１１ａは、下段溝１１ａ_１及び上段溝１１ａ_２を含む。

下段溝１１ａ_１は、第１の半円１１ａ_１１及び第１の半円１１ａ_１１にその半円の弦に底辺を重ねて接続する第１の矩形１１ａ_１２を含む形状に形成されている。第１の矩形１１ａ_１２の底辺の全体が第１の半円１１ａ_１１の弦の全体に重なっている。なお、第１の矩形１１ａ_１２に代えて上辺に対して底辺が短い台形を含むこととしてもよい。第１の半円１１ａ_１１の周縁部１１ｃが、下段ローラ１２を支持する。

上段溝１１ａ_２は、第１の半円１１ａ_１１よりも大きな直径を有し、第１の矩形１１ａ_１２とその上辺側に一部を重ねて接続する第２の半円１１ａ_２１（第１の矩形１１ａ_１２の内部を除く：図において第２の半円１１ａ_２１が第１の矩形１１ａ_１２によって切り取られている。）及び第２の半円１１ａ_２１にその半円の弦に底辺を重ねて接続する第２の矩形１１ａ_２２を含む形状に形成され、第２の矩形１１ａ_２２の上辺側を支持体１１の上辺に開口している。第２の矩形１１ａ_２２の底辺の全体が第２の半円１１ａ_２１の弦の全体に重なっている。なお、第２の矩形１１ａ_２２に代えて上辺に対して底辺が短い台形を含むこととしてもよい。第２の半円１１ａ_２１の周縁部１１ｂが、上段ローラ１３を支持する。

第２の半円１１ａ_２１は、その半円の弦を第１の矩形１１ａ_１２の上辺と平行に向け、第２の矩形１１ａ_２２は、側辺を第１の矩形１１ａ_１２の側辺と平行に向けて、上段溝１１ａ_２を形成している。それにより、下段及び上段溝１１ａ_１，１１ａ_２が同一方向を向き、下段ローラ１２及び上段ローラ１３を溝１１ａの開口を介してそれぞれの溝に容易に入れることができる。なお、第２の半円１１ａ_２１は、その半円の弦を第１の矩形１１ａ_１２の上辺に対して傾斜して支持体１１の上辺側に向け、第２の矩形１１ａ_２２は、側辺を第１の矩形１１ａ_１２の側辺と交差する方向に向けて、上段溝１１ａ_２を形成してもよい。つまり、上段溝１１ａ_２を下段溝１１ａ_１に対して傾けてもよい。また、下段溝１１ａ_１を、上段溝１１ａ_２と同じ角度で又は異なる角度で傾けてもよい。これによっても、下段ローラ１２及び上段ローラ１３を溝１１ａの開口を介してそれぞれの溝１１ａに容易に入れることができる。

上述の構成の支持体１１により、下段ローラ１２を上段溝１１ａ_２（すなわち、溝１１ａ）の開口から挿入し、第２の矩形１１ａ_２２及び第２の半円１１ａ_２１を介して下段溝１１ａ_１に受け、上段ローラ１３を上段溝１１ａ_２（すなわち、溝１１ａ）の開口から挿入して上段溝１１ａ_２に受けることで、下段ローラ１２及び上段ローラ１３の軸受け位置を安定して定めることができる。

（ローラ機構の構成）
図３は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す正面図である。下段ローラ１２は、複数の溝１１ａのそれぞれに挿入されて、ワーク２０をその下側から支持しつつ回転して搬送する部材であり、ローラ軸１２ａ、軸受け１２ｂ及び搬送用円盤１２ｃを有する。

ローラ軸１２ａは、下段ローラ１２の回転軸となる軸体である。

軸受け１２ｂは、第１の半円１１ａ_１１と等しい直径を有するリング状の部材であり、ローラ軸１２ａの両端に固定されて下段溝１１ａ_１の中で摺動回転する。軸受け１２ｂが第１の半円１１ａ_１１に位置決めされ、ローラ軸１２ａの中心が第１の半円１１ａ_１１の中心に位置決めされる。

搬送用円盤１２ｃは、ローラ軸１２ａと中心を合わせて設けられた円盤状の部材である。ワーク２０を下側から支持する。なお、複数の搬送用円盤１２ｃは等経であり、ワーク２０は平面状に支持される。

上段ローラ１３は、複数の溝１１ａのそれぞれに挿入されて、ワーク２０をその上側から支持しつつ回転して搬送する部材であり、ローラ軸１３ａ、軸受け１３ｂ及び搬送用円盤１３ｃを有する。

ローラ軸１３ａは、上段ローラ１３の回転軸となる軸体である。

軸受け１３ｂは、第２の半円１１ａ_２１と等しい直径を有するリング状の部材であり、ローラ軸１３ａの両端に固定されて上段溝１１ａ_２の中で摺動回転する。軸受け１３ｂが第２の半円１１ａ_２１に位置決めされ、ローラ軸１３ａの中心が第２の半円１１ａ_２１の中心に位置決めされる。

搬送用円盤１３ｃは、ローラ軸１３ａと中心を合わせて設けられた円盤状の部材である。ワーク２０を上側から支持する。なお、複数の搬送用円盤１３ｃは等経であり、ワーク２０は平面状に支持される。

上述の下段ローラ１２及び上段ローラ１３の構成により、下段ローラ１２及び上段ローラ１３を溝１１ａの開口から挿入して、下段ローラ１２を下段溝１１ａ_１に受け、上段ローラ１３を上段溝１１ａ_２に受けることで、下段ローラ１２及び上段ローラ１３のそれぞれの位置を独立に定めることができる。それにより、上段ローラ１３の位置を調整するための追加の位置合わせ部材（コロ等）を要さず、ローラ機構１０を簡便に構成することが可能となる。

なお、ローラ機構１０は、下段ローラ１２及び上段ローラ１３に接続するギア（不図示）をさらに備えてもよい。下段ローラ１２と上段ローラ１３の回転を連動することができ、それによりワークを安定して搬送することが可能となる。

以上詳細に説明したように、支持体１１は、第１の半円１１ａ_１１、第１の半円１１ａ_１１にその半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第１の矩形１１ａ_１２を含む形状に形成された下段溝１１ａ_１、第１の半円１１ａ_１１よりも大きな直径を有し、第１の矩形１１ａ_１２とその矩形の一辺に対向する他辺側に少なくとも一部を重ねて接続する第２の半円１１ａ_２１、第２の半円１１ａ_２１にその半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第２の矩形１１ａ_２２、を含む形状で、第２の矩形１１ａ_２２の一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝１１ａ_２と、を備える。下段ローラ１２を上段溝１１ａ_２の開口から挿入し、第２の矩形１１ａ_２２及び第２の半円１１ａ_２１を介して下段溝１１ａ_１に受け、上段ローラ１３を上段溝１１ａ_２の開口から挿入して上段溝１１ａ_２に受けることで、２つのローラの軸受け位置を独立に定めることができる。

また、ローラ機構１０は、支持体１１、第１の半円１１ａ_１１と等しい直径を有する下段ローラ１２、及び第２の半円１１ａ_２１と等しい直径を有する上段ローラ１３を備える。下段ローラ１２及び上段ローラ１３を開口から挿入して、下段ローラ１２を下段溝１１ａ_１に受け、上段ローラ１３を上段溝１１ａ_２に受けることで、下段ローラ１２及び上段ローラ１３のそれぞれの軸受け位置を独立に定めることができる。

本実施例は、ローラ機構を使用したエッチング装置を示すものである。ローラ機構は実施例１と同様であり、詳細な説明を省略する。

図４は、エッチング装置の構成を示す正面図である。エッチング装置１は、ワーク２０にエッチング液を噴射する装置であり、ローラ機構１０、ギアモータ（不図示）、及び噴射装置１４を備える。

ローラ機構１０は、先述のとおりの構成を有し、下段ローラ１２及び上段ローラ１３の離間距離（すなわち、ローラ軸１２ａ，１３ａの間隙のサイズ）はワーク２０の厚さに略等しくなるように、下段ローラ１２及び上段ローラ１３をそれぞれ受ける下段及び上段溝１１ａ_１，１１ａ_２の高さ（すなわち、軸受け位置）が定められている。それにより、ワーク２０を下段ローラ１２及び上段ローラ１３により適当な力で挟圧して、それらの間を介して安定に搬送することができる。

ギアモータは、ワーク２０を搬送するための動力を発生するモータであり、チェーン、ギア等を介して下段ローラ１２及び上段ローラ１３に動力を伝達する。例えば、ギアモータの駆動軸をヘリカルギアを介して下段ローラ１２に接続し、下段ローラ１２をスパーギアを介して上段ローラ１３に接続する。下段ローラ１２及び上段ローラ１３の回転速度、すなわちワーク２０の搬送速度は、ギア比及びインバータ制御により調整される。

噴射装置１４は、一対の軸受け１３の間で床面１４上に設置されている。噴射装置１４は、下段ローラ１２の下方から下段ローラ１２の間隙を介してエッチング液を噴射して、ローラ機構１０により搬送されるワーク２０の下面にエッチング液を噴射する。

なお、噴射装置１４は、ローラ機構１０の上方に設けてもよい。噴射装置１４は、上段ローラ１３の上方から上段ローラ１３の間隙を介してエッチング液を噴射して、ローラ機構１０により搬送されるワーク２０の上面にエッチング液を噴射する。

なお、噴射装置１４は、床面１４上及びローラ機構１０の上方にそれぞれ設置してもよい。２つの噴射装置１４により、ローラ機構１０により下段ローラ１２及び上段ローラ１３との間を介してワーク２０を搬送しつつ、噴射装置１４によりワーク２０の下面及び上面にエッチング液を噴射することができる。

以上詳細に説明したように、エッチング装置１は、ローラ機構１０及び下段ローラ１２の下方又は上段ローラ１３の上方からエッチング液を噴射する噴射装置１４を備える。ローラ機構１０により下段ローラ１２及び上段ローラ１３との間を介してワーク２０を搬送しつつ、噴射装置１４によりワーク２０の下面又は上面にエッチング液を噴射することができる。

本実施例は、上段ローラと下段ローラの離間距離を可変とするローラ機構を示すものである。本実施例において相違を示した点を除き実施例１と同様であり、詳細な説明を省略する。また、本実施例のローラ機構は、実施例２に示したエッチング装置にも適用可能である。

図５は、ローラ機構用の支持体の構成を示す図である。ここで、図５（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ、正面図及び図５（Ａ）における中心線についての断面を示す図である。支持体１１は、第２の半円１１ａ_２１の周縁部１１ｂが、低い第１段部１１ｂ_１及び高い第２段部１１ｂ_２を有する。第１及び第２段部１１ｂ_１，１１ｂ_２は、それぞれが正面視において第２の半円１１ａ_２１に沿った底面を有する。

図６は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。ここで、図６（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ、正面図及び図６（Ａ）における中心線についての断面を示す図である。軸受け１３ｂは、長手方向（すなわち、ローラ軸１３ａの長手方向）に、低い第１端部１３ｂ_１及び高い第２端部１３ｂ_２を有する。第１及び第２端部１３ｂ_１，１３ｂ_２は、それぞれが正面視において第２の半円１１ａ_２１に等しい底面を有する。ここで、第１及び第２端部１３ｂ_１，１３ｂ_２の高低差は、軸受け１３ｂの第１及び第２段部１１ｂ_１，１１ｂ_２の高低差に等しいものとする。

図７は、ローラ機構の構成を示す図である。なお、簡単のため、下段ローラ１２等は省略する。ローラ機構１０は、上述の支持体１１及び上段ローラ１３を備える。図７（Ａ）に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを一向きに、すなわち第１及び第２端部１３ｂ_１，１３ｂ_２をそれぞれ支持体１１の第１及び第２段部１１ｂ_１，１１ｂ_２に向けて上段溝１１ａ_２に入れて、軸受け１３ｂの第１及び第２端部１３ｂ_１，１３ｂ_２をそれぞれ上段溝１１ａ_２の第１及び第２段部１１ｂ_１，１１ｂ_２上に受けることができる。他方、図７（Ｂ）に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを逆向きに、すなわち第１及び第２端部１３ｂ_１，１３ｂ_２をそれぞれ支持体１１の第２及び第１段部１１ｂ_２，１１ｂ_１に向けて上段溝１１ａ_２に入れて、軸受け１３ｂの第１及び第２端部１３ｂ_１，１３ｂ_２のうちの低いほう（この例では第１端部１３ｂ_１）を上段溝１１ａ_２の第１及び第２段部１１ｂ_１，１１ｂ_２のうちの高いほう（この例では第２段部１１ｂ_２）の上に支持することもできる。図７（Ａ）に示す状態と図７（Ｂ）に示す状態とで、ローラ軸１３ａの高さがＤだけ相違する。Ｄの値は、第１段部１１ｂ_１と第２段部１１ｂ_２との高さの差に等しい。これによって、上段ローラ１３と下段ローラ１２との離間距離もＤだけ相違し、ワーク２０の厚さの相違等に対応することができる。

Ｄの値は、０．５ｍｍ程度とすることが好ましい。

本実施例は、上段ローラと下段ローラの離間距離を可変とするローラ機構の別途の構成を示すものである。

図８は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。軸受け１３ｂは、第２の半円１１ａ_２１と等しい直径を有する２つの円弧１３ｂ_３，１３ｂ_４とこれら２つの円弧の端部を接続する２つの直線とを含む角丸長方形状の外縁形状を有し、中心から下方に偏心したローラ軸１３ａを通す軸受孔を有する。

図９は、ローラ機構の構成を示す図である。なお、簡単のため、下段ローラ１２等は省略する。ローラ機構１０は、図１に示した支持体１１及び上述の上段ローラ１３を備える。図９（Ａ）に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを一向き、すなわちローラ軸１３ａを下方に偏心して上段溝１１ａ_２に入れて軸受け１３ｂを受けることができる。他方、図９（Ｂ）に示すように、上段ローラ１３の軸受け１３ｂを逆向きに、すなわちローラ軸１３ａを上方に偏心して上段溝１１ａ_２に入れて軸受け１３ｂを受けることもできる。図９（Ａ）に示す状態と図９（Ｂ）に示す状態とで、ローラ軸１３ａの高さがＤだけ相違する。Ｄの値は、軸受け１３ｂの軸受孔の偏心距離（図８にｄで示す。）の２倍に等しい。これによって、上段ローラ１３と下段ローラ１２との離間距離もＤだけ相違し、ワーク２０の厚さの相違等に対応することができる。

２つのローラの軸受け位置を独立に定めることができるローラ機構用の支持体、該支持体を用いるローラ機構、及び該ローラ機構を用いるエッチング装置である。ワークを安定して搬送することができ、多くのローラ機構生産業者、ローラ機構使用業者、特に半導体のエッチング処理実施者、による利用が考えられる。

１０ ローラ機構
１１ 支持体
１１ａ 溝
１１ａ_１ 下段溝
１１ａ_１１ 第１の半円
１１ａ_１２ 第１の矩形
１１ａ_２ 上段溝
１１ａ_２１ 第２の半円
１１ａ_２２ 第２の矩形
１２ 下段ローラ
１２ａ ローラ軸
１２ｂ 軸受け
１３ 上段ローラ
１３ａ ローラ軸
１３ｂ 軸受け
２０ ワーク
３０ エッチング装置
３１ 噴射装置

Claims (5)

1. ２つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体であって、
   第１の半円と、該第１の半円に該半円の弦に一辺を重ねて接続する第１の矩形と、を含む断面形状に形成された下段溝と、
   前記第１の半円よりも大きな直径を有し、前記第１の矩形と該矩形の前記一辺に対向する他辺側に一部を重ねて接続する第２の半円のうち該矩形外の部分と、該第２の半円に該半円の弦に一辺を重ねて接続する第２の矩形と、を含む断面形状で、前記第２の矩形の前記一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝とを備え、
   前記第２の半円は、該半円の弦を前記第１の矩形の前記一辺と平行に向けるローラ機構用の支持体と、
   前記第１の半円と等しい直径の軸受けを有する下段ローラと、
   前記第２の半円と等しい直径の軸受けを有する上段ローラと、
   を備え、
   前記上段溝は、前記断面に直交する方向に高さの低い第１段部及び高さの高い第２段部を有し、
   前記上段ローラの軸受けは、長手方向に高さの低い第１端部及び高さの高い第２端部を有する、
   ことを特徴とする、ローラ機構。
2. ２つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体であって、
   第１の半円と、該第１の半円に該半円の弦に一辺を重ねて接続する第１の矩形と、を含む断面形状に形成された下段溝と、
   前記第１の半円よりも大きな直径を有し、前記第１の矩形と該矩形の前記一辺に対向する他辺側に一部を重ねて接続する第２の半円のうち該矩形外の部分と、該第２の半円に該半円の弦に一辺を重ねて接続する第２の矩形と、を含む断面形状で、前記第２の矩形の前記一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝とを備え、
   前記第２の半円は、該半円の弦を前記第１の矩形の前記一辺と平行に向けるローラ機構用の支持体と、
   前記第１の半円と等しい直径の軸受けを有する下段ローラと、
   前記第２の半円と等しい直径の軸受けを有する上段ローラと、
   を備え、
   前記上段ローラの軸受けは、前記第２の半円と等しい直径を有する２つの円弧と該２つの円弧の端部を接続する２つの直線とを含む外縁形状を有し、外縁形状の中心から前記２つの円弧の一方側に偏心した軸受孔を有する、
   ことを特徴とする、ローラ機構。
3. 前記下段ローラ及び上段ローラにそれぞれ接続する２のギアを備え、
   該２のギアを介して前記下段ローラ及び前記上段ローラが逆向きに等速度で回転することを特徴とする、請求項１又は２に記載のローラ機構。
4. ワークにエッチング液を噴射するエッチング装置であって、
   請求項１〜３のいずれか１項に記載のローラ機構と、
   前記下段ローラの下方又は前記上段ローラの上方からエッチング液を噴射する噴射装置と、
   を備えることを特徴とする、エッチング装置。
5. 前記下段及び上段ローラの離間距離はワークの厚さに略等しいことを特徴とする、請求項４に記載のエッチング装置。