JP6680140B2 - セパレータ一体型電極板の製造方法 - Google Patents

セパレータ一体型電極板の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は,セパレータ一体型電極板の製造方法に関する。より詳細には,電極板とその外面を覆うセパレータとが一体となったセパレータ一体型電極板の製造方法に関する。
リチウムイオン二次電池などの電池は,ケース内部に,正負の電極板をセパレータを介しつつ積層してなる電極体を有している。このような電極体を製造するに際して,電極板やセパレータとして,予め電極体として積層されるときの最終サイズよりも大きなサイズのものを用意し,そこから最終サイズに切り出して用いていることがある。
電極板の切断に係る技術としては,例えば,特許文献1が挙げられる。特許文献1には,レーザー光を電極板の切断箇所に照射することで,電極板を切断箇所にて切断することが記載されている。
特開2016−100194号公報
ここで,電極体の製造には,すでに電極板とセパレータとが一体となったセパレータ一体型電極板を用いることが考えられる。また,セパレータ一体型電極板を,ともに最終サイズよりも大きな電極板とセパレータとを重ね合わせ,その重ね合わせた状態で,最終サイズに切り出すことで製造することが考えられる。しかし,このようなセパレータ一体型電極板の切断に,上記のような従来のレーザー光による電極板の切断技術をそのまま,適用することは困難であった。
すなわち,電極板の切断に用いられるレーザー光は,セパレータを透過する。このため,セパレータは,電極板の切断に用いられるレーザー光によって,単独では切断されない。ただし,電極板に重ね合わせた状態のセパレータは,電極板を切断するレーザー光により,電極板のレーザー光の照射箇所の温度をセパレータの溶融温度よりも高い温度まで上昇させることで,切断することができる。しかし,セパレータとしては,電極体における正負の電極板同士を確実に隔てるため,電極板よりも面積が大きなものが用いられがちである。つまり,セパレータ一体型電極板においても,セパレータとして,電極板からはみ出したはみ出し部分が存在するものを用いることが好ましい。そして,そのセパレータの電極板からのはみ出し部分は,電極板に接触しておらず,電極板から離れている。よって,電極板に重ね合わせられたセパレータの,電極板からのはみ出し部分が,電極板を切断するレーザー光を透過してしまうため,切断されずにつながったままの状態で残ってしまうのである。
また,セパレータ一体型電極板の切断には,レーザー光を用いる方法の他にも,トムソン刃などの刃物を用いたせん断による方法が考えられる。しかし,刃物を用いた切断方法では,刃物同士または刃物と型との間に,わずかに隙間(クリアランス)が設けられる。このため,弾性材料であるセパレータは,その刃物同士または刃物と型との間の隙間において弾性変形し,完全に切断されないことがある。すなわち,刃物を用いて切断した場合にも,電極板に重ね合わせられたセパレータの,電極板からのはみ出し部分が,切断されずにつながったままの状態で残ってしまうことがあった。
本発明は,前記した従来の技術が有する問題点の解決を目的としてなされたものである。すなわちその課題とするところは,電極板と電極板に重ね合わせたセパレータとを同時に適切に切断し,セパレータ一体型電極板を製造するセパレータ一体型電極板の製造方法を提供することである。
この課題の解決を目的としてなされた本発明のセパレータ一体型電極板の製造方法は,電極板の表裏に設けられた被覆領域がセパレータにより覆われているセパレータ一体型電極板の製造方法であって,電極板の表裏の被覆領域にそれぞれセパレータを重ね合わせる積層工程と,電極板に重ね合わせたセパレータを溶融させ,溶融痕を形成する溶融工程と,溶融工程よりも後に,電極板を,電極板の幅方向に延びる切断箇所にて,溶融痕が形成されたセパレータとともに切断する切断工程とを有し,積層工程では,セパレータとして,幅方向の両端がそれぞれ,被覆領域の幅方向における両端よりも外側に向けてはみ出す大きさのものを用い,溶融工程では,セパレータの被覆領域からのはみ出し部分のうち,少なくとも切断箇所となる部分については,溶融させることで電極板の外面に密着するように形成された溶融痕とすることを特徴とするセパレータ一体型電極板の製造方法である。
本発明に係るセパレータ一体型電極板の製造方法では,溶融工程により,切断工程における切断箇所となるセパレータのはみ出し部分については少なくとも,電極板の外面に沿って密着している。このため,切断工程では,切断箇所におけるセパレータを,電極板とともに,適切に切断することができる。これにより,電極板と電極板に重ね合わせたセパレータとを同時に適切に切断し,セパレータ一体型電極板を製造することができる。
本発明によれば,電極板と電極板に重ね合わせたセパレータとを同時に適切に切断し,セパレータ一体型電極板を製造するセパレータ一体型電極板の製造方法が提供されている。
第1の形態に係るセパレータ一体型電極板を製造する製造装置の概略構成図である。 積層ロール対の対向位置における電極板およびセパレータの断面図である。 溶融位置における電極板およびセパレータの断面図である。 図3に示す矢印Sの方向から見たときの電極板およびセパレータを示す図である。 図3に示す矢印Tの方向から見たときの電極板およびセパレータを示す図である。 セパレータに溶融痕が形成された後の電極板およびセパレータの断面図である。 第2の形態に係るセパレータ一体型電極板を製造する製造装置の概略構成図である。 セパレータを把持する把持部の断面図である。
以下,本発明を具体化した最良の形態について,図面を参照しつつ詳細に説明する。
[第1の形態]
図1に,本形態のセパレータ一体型電極板100を製造する製造装置1を示す。製造装置1は,電極板110とセパレータ150,160とを一体としてセパレータ一体型電極板100を製造する装置である。
図1に示すように,製造装置1は,巻出部10,11,12と,積層ロール対20と,ホットプレス部30と,レーザー照射部40とを有している。巻出部10は,長尺の電極板110がロール状にしてセットされており,電極板110を積層ロール対20の対向位置Xに向けて巻き出すことのできるものである。電極板110は,例えば,リチウムイオン二次電池等の二次電池に用いられる負極板や正極板である。
巻出部11は,長尺のセパレータ150がロール状にしてセットされており,セパレータ150を積層ロール対20の対向位置Xに向けて巻き出すことのできるものである。巻出部12は,長尺のセパレータ160がロール状にしてセットされており,セパレータ160を積層ロール対20の対向位置Xに向けて巻き出すことのできるものである。なお,本形態において,セパレータ150,160は同種のものである。セパレータ150,160は,例えば,リチウムイオン二次電池用であれば,PE(ポリエチレン)やPP(ポリプロピレン)等の樹脂材料よりなる多孔性の樹脂シートである。
積層ロール対20の対向位置Xでは,巻出部10,11,12からそれぞれ巻き出された電極板110およびセパレータ150,160が,積層ロール対20の間を通過することで積層される。図2に,電極板110およびセパレータ150,160の,積層ロール対20の対向位置Xにおける断面図を示している。図2において,左右方向が電極板110およびセパレータ150,160の幅方向であり,上下方向が厚み方向である。図2に示すように,電極板110およびセパレータ150,160の積層においては,セパレータ150,160がそれぞれ電極板110の表裏の面に重ね合わせられている。
電極板110は,図2に示すように,集電箔120,活物質層130,140を有している。活物質層130は,集電箔120の第1面121に形成されている。活物質層140は,集電箔120の第2面122に形成されている。集電箔120は,例えば,金属箔である。例えば,電極板110がリチウムイオン二次電池の負極板である場合,集電箔120としては銅箔を用いることができる。また,電極板110がリチウムイオン二次電池の負極板である場合には,活物質層130,140には,活物質としての炭素材料や,活物質を結着させる結着材などが含まれている。このため,本形態では,セパレータ150,160の方が,電極板110よりも弾性が高いものとなっている。
また,図2に示すように,本形態では,活物質層130,140はそれぞれ,集電箔120の第1面121,第2面122の一部に形成されている。すなわち,集電箔120には,活物質層130,140が形成されている形成領域と,活物質層130,140が形成されておらず第1面121,第2面122が露出している非形成領域とがある。形成領域と非形成領域とはそれぞれ,集電箔120の幅方向における一端側と他端側とに沿って設けられている。
そして,セパレータ150,160はそれぞれ,電極板110の活物質層130,140の上に重ねられている。具体的には,セパレータ150は,図2に示すように,電極板110の外面のうち,活物質層130の積層面131に重ねられている。また,セパレータ160は,電極板110の外面のうち,活物質層140の積層面141に重ねられている。 これにより,セパレータ150,160はそれぞれ,電極板110の活物質層130の積層面131,活物質層140の積層面141に密着しつつ,これらの面を覆っている。
また,図2に示すように,本形態では,セパレータ150,160として,活物質層130,140よりも幅が広いものを用いている。そして,セパレータ150,160には,活物質層130,140よりも幅方向の両側にそれぞれはみ出しているはみ出し部分A,Bが設けられている。はみ出し部分Aは,活物質層130,140の集電箔120における非形成領域側の端面132,142よりも突出している。また,はみ出し部分Bは,電極板110の集電箔120における形成領域側の端面111よりも突出している。電極板110の端面111は,活物質層130,140の端面でもある。はみ出し部分A,Bの,活物質層130,140の幅方向の端面からのはみ出し量は,1mm〜10mmとすることができる。
なお,図2に示す状態では,まだ,活物質層130,140の端面132,142,および,電極板110の端面111はいずれも,セパレータ150,160に覆われていない。また,集電箔120の非形成領域の幅方向における長さは,図2に示すように,セパレータ150,160のはみ出し部分Aの長さよりも長いものである。
積層ロール対20の対向位置Xを通過した電極板110およびセパレータ150,160は,図1に示すように,製造装置1内を搬送され,次に,ホットプレス部30が設けられた溶融位置Yへと到達する。ホットプレス部30は,溶融位置Yにおいて,セパレータ150,160の幅方向における端部を圧迫しつつ溶融させるものである。本形態のホットプレス部30は,セパレータ150,160の溶融を,搬送方向について,一定間隔で行う。その間隔は,セパレータ一体型電極板100の搬送方向における長さと同じである。図3に,電極板110およびセパレータ150,160の,溶融位置Yにおける断面図を示している。
図3に示すように,ホットプレス部30は,第1上プレスヘッド31および第1下プレスヘッド32よりなる第1プレスヘッド対35と,第2上プレスヘッド33および第2下プレスヘッド34よりなる第2プレスヘッド対36とを有している。第1プレスヘッド対35は,第1上プレスヘッド31を下向きに,第1下プレスヘッド32を上向きに移動させることで,電極板110およびセパレータ150,160を挟み込むことができる。また,第2プレスヘッド対36は,第2上プレスヘッド33を下向きに,第2下プレスヘッド34を上向きに移動させることで,セパレータ150,160を挟み込むことができる。図3には,第1プレスヘッド対35および第2プレスヘッド対36による挟み込みがなされている状態を示している。
また,第1プレスヘッド対35による挟み込み位置は,セパレータ150,160のはみ出し部分Aである。第2プレスヘッド対36による挟み込み位置は,セパレータ150,160のはみ出し部分Bである。なお,本形態において,第1プレスヘッド対35は,はみ出し部分Aのうち,活物質層130,140の端面132,142から隙間Cを空けた,はみ出し部分Aの先端部分Dを挟み込んでいる。また,本形態において,第2プレスヘッド対36は,はみ出し部分Bのうち,電極板110の端面111から隙間Eを空けた,はみ出し部分Bの先端部分Fを挟み込んでいる。この隙間C,Eを設けておくことで,活物質層130,140の端部を露出させることなく,後述する溶融痕を形成することができる。つまり,セパレータ150,160により,活物質層130,140を適切に覆うことができる。
図4に,図3に示す第1プレスヘッド対35等を,矢印Sの向きから見たときの図を示している。つまり,図4は,図1に示す溶融位置Yにおける,第1プレスヘッド対35による挟み込み状態での拡大図である。図4に示すように,第1プレスヘッド対35は,第1上プレスヘッド31および第1下プレスヘッド32の先端でそれぞれ,溶融位置Yにおいて,セパレータ150,160を集電箔120に押し付けている。
図5に,図3に示す第2プレスヘッド対36等を,矢印Tの向きから見たときの図を示している。つまり,図5は,図1に示す溶融位置Yを背面から見たときにおける,第2プレスヘッド対36による挟み込み状態での拡大図である。図5に示すように,第2プレスヘッド対36は,第2上プレスヘッド33および第2下プレスヘッド34の先端で,溶融位置Yにおいて,セパレータ150,160を押し付け合っている。
また,第1プレスヘッド対35および第2プレスヘッド対36は,それぞれのプレスヘッドの先端温度を,セパレータ150,160の溶融温度以上の温度まで上昇させることができる。これにより,第1プレスヘッド対35および第2プレスヘッド対36は,溶融位置Yにおいて,挟み込んだセパレータ150,160を溶融させる。なお,第1プレスヘッド対35および第2プレスヘッド対36による加熱温度は120℃以上が好ましい。また,加熱時間をより短時間とするため,250℃〜350℃とすることがより好ましい。そして,第1プレスヘッド対35および第2プレスヘッド対36は,セパレータ150,160を溶融させた後,それぞれプレスヘッドを離間させ,セパレータ150,160から遠ざける。溶融したセパレータ150,160の溶融箇所は,その後,固化する。
図6には,溶融箇所が固化した後の電極板110およびセパレータ150,160の断面図を示している。図6に示すように,セパレータ150,160の溶融した箇所にはそれぞれ,溶融痕AM,BMが形成されている。溶融痕AMは,セパレータ150,160のはみ出し部分Aであった箇所が溶融後,固化することで形成されたものである。図6に示すように,溶融痕AMは,集電箔120の第1面121側においては,集電箔120の第1面121から活物質層130の端面132に沿って形成されている。また,溶融痕AMは,集電箔120の第2面122側においては,集電箔120の第2面122から活物質層140の端面142に沿って形成されている。このため,溶融痕AMは,集電箔120の第1面121,第2面122,活物質層130の端面132,活物質層140の端面142に密着するように形成されている。
また,溶融痕BMは,セパレータ150,160のはみ出し部分Bであった箇所が溶融後,固化することで形成されたものである。図6に示すように,溶融痕BMは,電極板110の端面111に沿って形成されている。このため,溶融痕BMは,電極板110の端面111に密着するように形成されている。
ホットプレス部30の溶融位置Yを通過した電極板110およびセパレータ150,160は,製造装置1内を搬送され,次に,レーザー照射部40が設けられた切断位置Zへと到達する。レーザー照射部40は,切断位置Zにおいて,電極板110に向けてレーザー光を照射することができるものである。レーザー照射部40は,溶融痕AM,BMが形成された位置が切断位置Zに到達したときに,レーザー光の照射を行う。
レーザー照射部40は,電極板110を切断できるレーザー光を照射することができるものである。具体的に,本形態では,レーザー照射部40として,ファイバーレーザーを用いている。このファイバーレーザーは,波長が約1000nmのレーザー光を照射できるものである。
また,レーザー照射部40は,レーザー光を照射しつつ,そのレーザー光の照射位置を,電極板110の幅方向に移動させる。つまり,電極板110の切断箇所は,幅方向に延びている。レーザー光の照射位置の移動は,例えば,レーザー照射部40のレーザー光を対象物に向けて照射する照射口の移動により行うことができる。あるいは,ガルバノスキャナを用いることで,レーザー光の照射位置を移動させることも可能である。そして,レーザー光の照射位置を電極板110の幅方向の一端から他端まで移動させることで,電極板110を幅方向に切断することができる。
ここで,ファイバーレーザーは,セパレータ150,160によって吸収されないため,セパレータ150,160を直接,切断することができない波長のものである。しかし,ファイバーレーザーが電極板110に照射されることで,その照射箇所における電極板110は発熱する。この電極板110の発熱により,セパレータ150,160についても溶融させ,切断することができる。このため,セパレータ150,160に,電極板110に密着していない箇所がある場合には,その密着していないセパレータ150,160の箇所が切断されずにつながったまま残ってしまう。
しかし,前述したように,本形態のセパレータ150,160はそれぞれ,積層ロール対20の対向位置Xでの積層により,活物質層130の積層面131,活物質層140の積層面141に密着するように重ねられている。さらに,セパレータ150,160は,溶融位置Yでの溶融により,図6において説明したように,その溶融痕AM,BMの箇所においても,電極板110の外面に密着している。そして,レーザー照射部40は,溶融痕AM,BMが形成された位置が切断位置Zに到達したときに,レーザー光の照射を行っている。つまり,切断位置Zでは,セパレータ150,160が密着した電極板110の箇所にレーザー光が照射されている。
よって,本形態では,切断位置Zにおいて,電極板110を,その幅方向の一端側から他端側までレーザー光によって切断することで,その切断箇所に密着しているセパレータ150,160についても,幅方向について完全に切断することができる。これにより,本形態の切断位置Zでは,セパレータ150,160を,電極板110と同時に適切に切断することができる。そして,切断位置Zにおける切断により,セパレータ一体型電極板100を製造することができる。
すなわち,本形態では,製造装置1により,積層ロール対20の対向位置Xでの積層工程と,溶融位置Yでのセパレータ150,160の溶融工程と,切断位置Zでの切断工程とを行うことで,セパレータ一体型電極板100を製造している。製造されたセパレータ一体型電極板100は,電極板110の表裏に設けられた活物質層130,140が,セパレータ150,160により覆われてなるものである。
なお,製造装置1により製造されたセパレータ一体型電極板100は,その後,電池の製造に使用される。具体的には,電極板110が負極板である場合,セパレータ一体型電極板100と正極板とを交互に積層することで電極体が製造される。さらに,製造された電極体は,電池ケース内に収容される。これにより,セパレータ一体型電極板100を用いて電池が製造される。
また,セパレータ一体型電極板100では,活物質層130,140が確実に,セパレータ150,160によって覆われている。セパレータ150,160として,電極板110の幅方向における両端がそれぞれ,活物質層130,140における両端よりも外側に向けてはみ出す大きさのものを用いているからである。さらに,切断位置Zにおいて形成されたセパレータ一体型電極板100の切断面においては,セパレータ150,160が電極板110の切断箇所と重なる同じ箇所にて切断されているため,セパレータ150,160から電極板110が飛び出していることがないからである。よって,セパレータ一体型電極板100を用いることで,正負の電極板をセパレータによって確実に隔てることができ,正負の電極板同士が接触してしまうことのない電極体を製造することができる。
[第2の形態]
次に,第2の形態について説明する。本形態においても,製造されるセパレータ一体型電極板については,同じものである。本形態では,セパレータに溶融痕を形成する方法と,電極板とセパレータとを同時に切断する方法とが,第1の形態と異なる。
図7に,本形態に係る製造装置2を示す。製造装置2についても,電極板110とセパレータ150,160とを一体としてセパレータ一体型電極板100を製造する装置である。
製造装置2は,巻出部10,11,12と,積層ロール対20と,レーザー照射部50と,トムソン刃70とを有している。このうち,巻出部10,11,12,積層ロール対20については,第1の形態と同じものである。また,巻出部10,11,12よりそれぞれ巻き出される電極板110,セパレータ150,160についても,第1の形態と同じものである。このため,積層ロール対20の対向位置Xまでは第1の形態と同様である。すなわち,電極板110の表裏にそれぞれセパレータ150,160が積層されるまでは,第1の形態と同じである。そして,本形態の製造装置2は,溶融位置Yと切断位置Zとに設けられた構成がそれぞれ,第1の形態と異なる。
すなわち,本形態では,積層ロール対20の対向位置Xを通過した電極板110およびセパレータ150,160は,製造装置2内を搬送され,次に,レーザー照射部50,51が設けられた溶融位置Yへと到達する。レーザー照射部50,51は,溶融位置Yにおいて,セパレータ150,160の幅方向における端部を溶融させるものである。
つまり,レーザー照射部50,51は,セパレータ150,160を溶融させることのできるレーザー光を照射することができるものである。具体的に,本形態では,レーザー照射部50,51として,COレーザーを用いている。このCOレーザーとしては,波長5μm〜20μm,出力1W〜20Wの条件で照射することが好ましい。そして,このような条件で照射されたCOレーザーは,セパレータ150,160に吸収され,その照射箇所を溶融させることができる。なお,このCOレーザーについては,セパレータ150,160に照射され,セパレータ150,160によって吸収されるため,電極板110を損傷等させてしまうことはない。
レーザー照射部50,51による溶融箇所は,第1の形態と同じである。つまり,本形態では,レーザー照射部50,51はそれぞれ,溶融位置Yにおいて,図3により説明した活物質層130,140の幅方向の端面から隙間C,Eを空けたセパレータ150,160のはみ出し部分A,Bの先端部分D,Fにレーザー光を照射する。そして,その照射箇所を溶融させる。なお,レーザー照射部50によりレーザー光の照射位置を移動させる必要がある場合には,例えば,レーザー光を対象物に向けて照射する照射口の移動やガルバノスキャナ等により,照射位置を移動させればよい。そして,溶融痕AM,BMが形成される箇所は,本形態においても,第1の形態と同じである。
また,本形態では,レーザー照射部50,51によるレーザー光の照射は,その照射箇所の搬送方向における上流および下流の位置を,把持部60,61によって挟み込みつつ行う。セパレータ150,160の反り等により,セパレータ150,160が電極板110から浮き上がっているような場合には,溶融痕AM,BMを,電極板110の外面に密着するように適切に形成できないおそれがあるからである。把持部60,61は,その搬送方向について,レーザー照射部50,51によるレーザー光の照射箇所に隙間をあけつつ設けられている。この隙間は,レーザー照射部50,51により照射されるレーザー光が通過できる程度であればよく,例えば,0.1mm〜1mm程度とすることができる。また,把持部60,61としては,図8に示す断面形状のようなものを用いることができる。なお,図8には,すでにレーザー光が照射され,溶融痕BMが形成された状態を示している。
レーザー照射部50,51の溶融位置Yを通過した電極板110およびセパレータ150,160は,製造装置2内を搬送され,次に,トムソン刃70が設けられた切断位置Zへと到達する。トムソン刃70は,図7に示すように,切断位置Zにおける電極板110等の上方に設けられている。トムソン刃70は,電極板110よりも幅方向に長い刃物である。そして,トムソン刃70は,受型71に向けて下降することで,電極板110およびセパレータ150,160を同時に切断することができる。その切断箇所は,第1の形態と同様,溶融痕AM,BMが形成された位置である。
ここで,トムソン刃70は,切断時において,受型71に接触するまで下降するものではない。トムソン刃70が受型71に接触し,刃先の欠け等が生じた場合には,その後,適切な切断を行うことができないからである。つまり,トムソン刃70の下降端では,トムソン刃70の刃先と受型71との間に,わずかに隙間が空くようにされている。そして,多孔性の樹脂シートであるセパレータ150,160は,弾性材料であるため,これら単独では,トムソン刃70が下降端まで下降した際にも,トムソン刃70の刃先と受型71と隙間において完全に切断されないことがある。つまり,トムソン刃70による切断時にも,セパレータ150,160に,電極板110に密着していない箇所がある場合には,その密着していないセパレータ150,160の箇所が切断されずにつながったまま残ってしまうおそれがある。
しかし,本形態では,セパレータ150,160が密着した電極板110の箇所が切断位置Zに到達したときに,トムソン刃70による切断を行っている。よって,本形態においても,切断位置Zにおいて,セパレータ150,160を,電極板110とともに,幅方向について完全に切断することができる。これにより,本形態でも,切断位置Zにおいて,セパレータ150,160を,電極板110と同時に適切に切断することができる。そして,切断位置Zにおける切断により,セパレータ一体型電極板100を製造することができる。すなわち,本形態においても,製造装置2による積層工程,溶融工程,切断工程により,電極板110の表裏に設けられた活物質層130,140が,セパレータ150,160によって覆われてなるセパレータ一体型電極板100を製造することができる。
そして,製造装置2により製造されたセパレータ一体型電極板100についても,その後,電池の製造に使用される。その際,セパレータ一体型電極板100を用いることで,正負の電極板をセパレータによって確実に隔てることができ,正負の電極板同士が接触してしまうことのない電極体を製造することができる。
なお,第1の実施形態では,溶融工程をホットプレスにより行い,切断工程をファイバーレーザーにより行っている。一方,第2の実施形態では,溶融工程をCOレーザーにより行い,切断工程をトムソン刃により行っている。しかし,溶融工程に用いる方法および切断工程に用いる方法は,第1の実施形態と第2の実施形態とで入れ替えてもよい。すなわち,溶融工程をCOレーザーにより行い,切断工程をファイバーレーザーにより行うこととしてもよい。また,溶融工程をホットプレスにより行い,切断工程をトムソン刃により行うこととしてもよい。また,切断工程では,トムソン刃以外の刃物を用いる方法を採用してもよい。例えば,丸刃の刃物,はさみ,ギロチンシャー等を用いる方法により,切断工程を行うこともできる。また,切断工程では,電極板110を切断できるレーザー光であれば,ファイバーレーザーに限らず,採用することができる。
次に,上記の形態に係る実施例について,比較例とともに説明する。実施例および比較例では,それぞれ異なる方法により,セパレータ一体型電極板を作製した。次の表1に実施例および比較例に係る各セパレータ一体型電極板の作製方法について示している。
Figure 0006680140
なお,実施例1,2および比較例1,2ではいずれも,最初に積層工程を行っている。この積層工程については,上記の実施形態で説明した通りである。すなわち,セパレータとして,幅方向の両端がそれぞれ,電極板の活物質層の幅方向における両端よりもはみ出す大きさのものを用いた。
また,実施例1,2および比較例1,2ではいずれも,電極板,セパレータの各材料として,同じものを用いた。具体的には,電極板として,10μmの厚みの銅箔を集電箔とし,その表裏の両面に60μmの活物質層を形成したものを用いた。また,活物質層は,活物質としてグラファイトを用いて形成した。さらに,セパレータとしては,厚み20μmのPEを用いた。なお,セパレータとしては,電極板へ付着しやすくするため,予めその両面に接着性バインダーを塗布したものを用いた。また,電極板とセパレータとの積層においては,図2にA,Bで示すセパレータの電極板からのはみ出し部分の幅方向の長さを,5mmとした。
そして,表1に示すように,実施例1,2ではともに,切断工程の前に,溶融工程を行っている。すなわち,実施例1,2では,上記の実施形態において説明したように,溶融工程において,セパレータの幅方向の両端部のはみ出し部分のうち,切断工程にて切断箇所となる部分を溶融させ,溶融痕を電極板の外面に密着するように形成した。これに対し,比較例1,2ではともに,溶融工程を行わずに切断工程を行った。
なお,実施例1,2の溶融工程ではともに,図3にC,Eで示す活物質層の端面からの隙間を1mmとしてセパレータのはみ出し部分の溶融を行った。つまり,図3にD,Fで示すはみ出し部分の先端部分の幅方向の長さを,4mmとした。
また,実施例1の溶融工程では,搬送方向に設けられた2対の把持部に,溶融対象箇所の搬送方向に0.5mmの隙間を開けつつ,溶融対象箇所の搬送方向における上流および下流の位置を把持させ,その把持部同士の隙間に,COレーザーを照射した。COレーザーの照射条件は,波長9.3μm,出力20W,レーザースポット径265μmとし,ガルバノスキャナを用いて溶融対象箇所に照射した。
また,実施例2の溶融工程では,プレスヘッド対として,図4および図5にそれぞれG,Hで示す先端の搬送方向における長さが0.5mmのものを用いた。さらに,プレスヘッド対の先端を300℃まで加熱することで,溶融対象箇所を溶融させた。
また,表1には,実施例1,2および比較例1,2についてそれぞれ,不良率を示している。不良率は,実施例1,2および比較例1,2の各方法によりそれぞれ10枚,セパレータ一体型電極板を作製し,切断工程で切断がなされた切断箇所にて,セパレータが完全に切断されていないものを不良とした。
表1に示すように,比較例1,2ではともに,不良率が高いものであった。比較例1,2では,溶融工程を行っていないことにより,セパレータのはみ出し部分が電極板に密着していない状態で切断工程を行っている。このため,比較例1,2ではともに,切断工程において,セパレータのはみ出し部分が適切に切断されず,つながったままで残ってしまっていた。
これに対し,切断工程前に溶融工程を行った実施例1,2ではともに,不良率が0%であった。すなわち,本形態に係る方法により,セパレータ一体型電極板を,セパレータの切断不良を生じさせることなく作製できることが確認された。
以上詳細に説明したように,本実施の形態では,電極板110の表裏に設けられた活物質層130,140を,セパレータ150,160によって覆うことで,セパレータ一体型電極板100を製造する。つまり,本形態において,電極板110のうち,活物質層130,140の形成領域が,セパレータ150,160により覆われる被覆領域である。セパレータ一体型電極板100の製造工程としては,積層工程と,溶融工程と,切断工程とをこの順に行う。積層工程では,電極板110の活物質層130,140の積層面131,141にそれぞれ,セパレータ150,160を重ね合わせる。溶融工程では,電極板110に重ね合わせたセパレータ150,160を溶融させ,溶融痕AM,BMを形成する。切断工程では,電極板110を,幅方向に延びる切断箇所にて,セパレータ150,160とともに切断する。そして,積層工程では,セパレータ150,160として,幅方向の両端がそれぞれ,活物質層130,140の幅方向における両端よりも外側に向けてはみ出す大きさのものを用いている。さらに,溶融工程では,セパレータ150,160のはみ出し部分A,Bのうち,切断工程で切断箇所となる部分を溶融させ,溶融痕AM,BMを電極板110の外面に密着するように形成している。これにより,電極板と電極板に重ね合わせたセパレータとを同時に適切に切断し,セパレータ一体型電極板を製造するセパレータ一体型電極板の製造方法が実現されている。
なお,本実施の形態は単なる例示にすぎず,本発明を何ら限定するものではない。従って本発明は当然に,その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良,変形が可能である。例えば,上記の実施形態では,溶融工程において,セパレータの幅方向における活物質層の両端からのはみ出し部分のうち,切断工程において切断箇所となる部分だけを溶融し,溶融痕を形成している。しかし,溶融痕は,少なくとも切断工程において切断箇所となる部分に形成されていればよく,搬送方向について連続して形成されていてもよい。このように搬送方向について連続して溶融させる溶融工程では,例えば,回転軸方向を電極板等の幅方向に合わせて設けた,ローラー状の加熱部材を用いることができる。
1 製造装置
20 積層ロール対
30 ホットプレス部
40 レーザー照射部
100 セパレータ一体型電極板
110 電極板
120 集電箔
130,140 活物質層
150,160 セパレータ
A,B はみ出し部分
AM,BM 溶融痕
X 対向位置
Y 溶融位置
Z 切断位置

Claims (1)

  1. 電極板の表裏に設けられた被覆領域がセパレータにより覆われているセパレータ一体型電極板の製造方法において,
    前記電極板の表裏の前記被覆領域にそれぞれ前記セパレータを重ね合わせる積層工程と,
    前記電極板に重ね合わせた前記セパレータを溶融させ,溶融痕を形成する溶融工程と,
    前記溶融工程よりも後に,前記電極板を,前記電極板の幅方向に延びる切断箇所にて,前記溶融痕が形成された前記セパレータとともに切断する切断工程とを有し,
    前記積層工程では,
    前記セパレータとして,前記幅方向の両端がそれぞれ,前記被覆領域の幅方向における両端よりも外側に向けてはみ出す大きさのものを用い,
    前記溶融工程では,
    前記セパレータの前記被覆領域からのはみ出し部分のうち,少なくとも前記切断箇所となる部分については,溶融させることで前記電極板の外面に密着するように形成された前記溶融痕とすることを特徴とするセパレータ一体型電極板の製造方法。
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