JP6678280B2 - 塩素含有粉体の脱塩処理方法及び塩素含有粉体の脱塩処理装置 - Google Patents
塩素含有粉体の脱塩処理方法及び塩素含有粉体の脱塩処理装置 Download PDFInfo
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Description
塩素含有粉体に第1脱塩用洗液を混合してスラリーにするスラリー化工程と、
前記スラリー中で前記塩素含有粉体に含まれる塩素を液相中に溶出させる塩素溶出工程と、
前記塩素を溶出させた該スラリーから液相の一部又は全部を分離して第1脱塩ケーキと第1ろ液を得る脱塩ケーキ形成工程と、
前記第1脱塩ケーキを、前記第1脱塩用洗液とは別個の第2脱塩用洗液で洗浄して第2脱塩ケーキと第2ろ液を得る脱塩ケーキ洗浄工程とを備え、
前記脱塩ケーキ形成工程で得られる前記第1ろ液、及び/又は前記脱塩ケーキ洗浄工程で得られる前記第2ろ液は、少なくともその一部を前記第1脱塩用洗液として循環利用して、前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度を制御しつつ、前記スラリー化工程と、前記塩素溶出工程と、前記脱塩ケーキ形成工程と、前記脱塩ケーキ洗浄工程とを、供給される塩素含有粉体ごとに繰り返すことを特徴とする塩素含有粉体の脱塩処理方法を提供するものである。
(1)前記第1ろ液、前記第2ろ液、前記第1脱塩用洗液として循環利用後の該第1脱塩用洗液、及び前記第2脱塩用洗液として循環利用後の該第2脱塩用洗液からなる群から選ばれた1種又は2種以上のうち、前記第1脱塩用洗液又は前記第2脱塩用洗液として再度利用しないものを排液として回収する排液回収工程
(2)前記工程(1)で回収した排液に重金属捕集剤を添加して、該排液に含まれる重金属を凝集フロック状に不溶化する重金属不溶化工程
(3)前記工程(2)で不溶化した重金属を含む凝集フロック含有液から液相の一部又は全部を分離して第1凝集ケーキと第3ろ液を得る重金属凝集ケーキ形成工程
(4)前記第1凝集ケーキを、前記第1脱塩用洗液及び前記第2脱塩用洗液とは別個の第3脱塩用洗液で洗浄して第2凝集ケーキと第4ろ液を得る重金属凝集ケーキ洗浄工程
第1脱塩用洗液を供給するための第1脱塩用洗液供給装置と、
塩素含有粉体を前記第1脱塩用洗液供給装置からの前記第1脱塩用洗液と混合してスラリーにするとともに、前記スラリー中で前記塩素含有粉体に含まれる塩素を液相中に溶出させるための溶出槽と、
前記塩素を溶出させた該スラリーから液相の一部又は全部を分離して第1脱塩ケーキと第1ろ液を得る処理を行なう第1固液分離装置と、
前記溶出槽で処理された前記スラリーを前記第1固液分離装置に搬送するためのスラリー搬送装置と、
前記第1固液分離装置において、前記第1脱塩用洗液とは別個の第2脱塩用洗液で前記第1脱塩ケーキを洗浄して第2脱塩ケーキと第2ろ液を得る処理を行なうよう、その第2脱塩用洗液を供給するための第2脱塩用洗液供給装置と、
前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの形成処理で得られる前記第1ろ液、及び/又は前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの洗浄処理で得られる前記第2ろ液を、少なくともその一部を前記第1脱塩用洗液として循環利用するため、前記第1脱塩用洗液供給装置に送液するための第1送液装置と、
前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視するための第1塩素イオン濃度監視装置を備えたことを特徴とする塩素含有粉体の脱塩処理装置を提供するものである。
前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、前記第1脱塩用洗液供給装置に前記第1脱塩用洗液として新たな第1脱塩用洗液を供給するための新たな第1脱塩用洗液の供給装置を備え、
前記第1脱塩用洗液供給装置は、該第1脱塩用洗液供給装置から前記溶出槽への前記第1脱塩用洗液の供給量を可変可能にするとともに、該第1脱塩用洗液供給装置から排液することを可能にする第1供給調整弁を備え、
前記新たな第1脱塩用洗液の供給装置は、前記第1脱塩用洗液供給装置への該洗液の供給量を可変可能にする第2供給調整弁を備え、
前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度が第1閾値を超えた場合、前記第1供給調整弁を制御することにより、前記第1脱塩用洗液供給装置からの前記第1脱塩用洗液の前記溶出槽への供給を止め又は減少させ、前記第1脱塩用洗液供給装置から前記第1脱塩用洗液の一部又は全部を排液したうえ、前記新たな第1脱塩用洗液の供給装置の前記第2供給調整弁を制御することにより、前記第1脱塩用洗液供給装置に、前記第1脱塩用洗液として前記第1閾値を満足するように前記新たな第1脱塩用洗液を供給するように構成された、該脱塩処理装置を提供するものである。
前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの洗浄処理で得られる前記第2ろ液を、少なくともその一部を前記第2脱塩用洗液として循環利用するため、前記第2脱塩用洗液供給装置に送液するための第2送液装置と、
前記第2脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視するための第2塩素イオン濃度監視装置とを備える、該脱塩処理装置を提供するものである。
前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、前記第2脱塩用洗液供給装置に前記第2脱塩用洗液として新たな第2脱塩用洗液を供給するための新たな第2脱塩用洗液の供給装置を備え、
前記第2脱塩用洗液供給装置は、該第2脱塩用洗液供給装置から前記第1脱塩ケーキへの前記第2脱塩用洗液の供給量を可変可能にするとともに、該第2脱塩用洗液供給装置から排液することを可能にする第3供給調整弁を備え、
前記新たな第2脱塩用洗液の供給装置は、前記第2脱塩用洗液供給装置への該洗液の供給量を可変可能にする第4供給調整弁を備え、
前記第2脱塩用洗液の塩素イオン濃度が前記第1閾値とは別個の第2閾値を超えた場合、前記第3供給調整弁を制御することにより、前記第2脱塩用洗液供給装置からの前記第2脱塩用洗液の前記第1脱塩ケーキへの供給を止め又は減少させ、前記第2脱塩用洗液供給装置から前記第2脱塩用洗液の一部又は全部を排液したうえ、前記新たな第2脱塩用洗液の供給装置の前記第4供給調整弁を制御することにより、前記第2脱塩用洗液供給装置に、前記第2脱塩用洗液として前記第2閾値を満足するように前記新たな第2脱塩用洗液を供給するように構成された、該脱塩処理装置を提供するものである。
前記第1ろ液及び前記第2ろ液のうち、前記第1脱塩用洗液又は前記第2脱塩用洗液として再度利用しないもの、前記第1脱塩用洗液供給装置から排液として送液された前記第1脱塩用洗液、及び前記第2脱塩用洗液供給装置から排液として送液された前記第2脱塩用洗液からなる群から選ばれた1種又は2種以上を排液として回収して収容し、これに重金属捕集剤を添加することにより、該排液に含まれる重金属を凝集フロック状に不溶化させるための重金属不溶化反応槽と、
前記不溶化した重金属を含む凝集フロック含有液から液相の一部又は全部を分離して第1凝集ケーキと第3ろ液を得る処理を行なう第2固液分離装置と、
前記重金属不溶化反応槽で処理された前記凝集フロック含有液を前記第2固液分離装置に搬送するための凝集フロック含有液搬送装置とを備える、該脱塩処理装置を提供するものである。
前記第2固液分離装置において、前記第1脱塩用洗液及び前記第2脱塩用洗液とは別個の第3脱塩用洗液で洗浄して第2凝集ケーキと第4ろ液を得る処理を行なうよう、その第3脱塩用洗液を供給するための第3脱塩用洗液供給装置を備える、該脱塩処理装置を提供するものである。
前記第2固液分離装置でなされる前記第1凝集ケーキの洗浄処理で得られる前記第4ろ液を、少なくともその一部を前記第1脱塩用洗液として循環利用するため、前記第1脱塩用洗液供給装置に送液するための第3送液装置を備える、該脱塩処理装置を提供するものである。
前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの洗浄処理で得られる前記第2ろ液を、少なくともその一部を前記第3脱塩用洗液として利用するため、前記第3脱塩用洗液供給装置に送液するための第4送液装置と、及び/又は、
前記第2固液分離装置でなされる前記第1凝集ケーキの洗浄処理で得られる前記第4ろ液を、少なくともその一部を前記第3脱塩用洗液として循環利用するため、前記第3脱塩用洗液供給装置に送液するための第5送液装置と、
前記第3脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視するための第3塩素イオン濃度監視装置とを備える、該脱塩処理装置を提供するものである。
前記第3脱塩用洗液供給装置は、該第3脱塩用洗液供給装置から前記第1凝集ケーキへの前記第3脱塩用洗液の供給量を可変可能にするとともに、該第3脱塩用洗液供給装置から排液することを可能にする第5供給調整弁を備え、
前記新たな第3脱塩用洗液の供給装置は、前記第3脱塩用洗液供給装置への該洗液の供給量を可変可能にする第6供給調整弁を備え、
前記第3脱塩用洗液の塩素イオン濃度が前記第1閾値及び前記第2閾値とは別個の第3閾値を超えた場合、前記第5供給調整弁を制御することにより、前記第3脱塩用洗液供給装置からの前記第3脱塩用洗液の前記第1凝集ケーキへの供給を止め又は減少させ、前記第3脱塩用洗液供給装置から前記第3脱塩用洗液の一部又は全部を排液したうえ、前記新たな第3脱塩用洗液の供給装置の前記第6供給調整弁を制御することにより、前記第3脱塩用洗液供給装置に、前記第3脱塩用洗液として前記第3閾値を満足するように前記新たな第3脱塩用洗液を供給するように構成された、該脱塩処理装置を提供するものである。
CCl≒CW×WCl+CCl-NS・・・(1)
ここで、一般的な塩素含有粉体P1の非水溶性塩分含有率(CCl-NS)は、0.8質量%〜1.2質量%である。
結果を表5に示す。
2 溶出槽
3 第1固液分離装置
4、12 スラリー搬送装置
5 第1送液装置(ポンプ機構)
6 第2送液装置(ポンプ機構)
7 第1塩素イオン濃度監視装置
8 第2塩素イオン濃度監視装置
9 脱塩ケーキ搬送装置
11 重金属不溶化反応槽
15 重金属凝集ケーキ搬送装置
16 第3送液装置(ポンプ機構)
17 第4送液装置(ポンプ機構)
18 第5送液装置(ポンプ機構)
19 第3塩素イオン濃度監視装置
21 塩素含有粉体供給装置
22 第1脱塩用洗液供給装置
22a 第1供給調整弁(調整弁機構)
23 新たな第1脱塩用洗液の供給装置
23a 第2供給調整弁(調整弁機構)
24、115 撹拌装置
24a、115a 撹拌翼
31 第2脱塩用洗液供給装置
31a 第3供給調整弁(調整弁機構)
32 新たな第2脱塩用洗液の供給装置
32a 第4供給調整弁(調整弁機構)
111 ORP調整剤供給装置
111a ORP調整剤供給調整弁
112 無機凝集剤供給装置
112a 無機凝集剤供給調整弁
113 高分子凝集剤供給装置
113a 高分子凝集剤供給調整弁
114 pH調整剤供給装置
114a pH調整剤供給調整弁
141 第3脱塩用洗液供給装置
141a 第5供給調整弁(調整弁機構)
142 新たな第1脱塩用洗液の供給装置
142a 第6供給調整弁(調整弁機構)
201 制御装置
Va〜Vo バルブ機構
P1 塩素含有粉体
S1、S2 スラリー
C1 第1脱塩ケーキ
C2 第2脱塩ケーキ
C3 第1凝集ケーキ
C4 第2凝集ケーキ
W1 第1脱塩用洗液
W1a 新たな第1脱塩用洗液
W2 第2脱塩用洗液
W2a 新たな第2脱塩用洗液
W3 第1ろ液
W4 第2ろ液
W5 系外に向けた排液
W6 第3ろ液
W7 第3脱塩用洗液
W7a 新たな第3脱塩用洗液
W8 第4ろ液
W9 系外排液
Claims (24)
- 塩素含有粉体に第1脱塩用洗液を混合してスラリーにするスラリー化工程と、
前記スラリー中で前記塩素含有粉体に含まれる塩素を液相中に溶出させる塩素溶出工程と、
前記塩素を溶出させた該スラリーから液相の一部又は全部を分離して第1脱塩ケーキと第1ろ液を得る脱塩ケーキ形成工程と、
前記第1脱塩ケーキを、前記第1脱塩用洗液とは別個の第2脱塩用洗液で洗浄して第2脱塩ケーキと第2ろ液を得る脱塩ケーキ洗浄工程とを備え、
前記脱塩ケーキ形成工程で得られる前記第1ろ液、及び/又は前記脱塩ケーキ洗浄工程で得られる前記第2ろ液は、少なくともその一部を前記第1脱塩用洗液として循環利用して、前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視及び制御しつつ、前記スラリー化工程と、前記塩素溶出工程と、前記脱塩ケーキ形成工程と、前記脱塩ケーキ洗浄工程とを、供給される塩素含有粉体ごとに繰り返すことを特徴とする塩素含有粉体の脱塩処理方法。 - 前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度が第1閾値を超えた場合、前記第1脱塩用洗液を、新たな第1脱塩用洗液により前記第1閾値を満足するように制御する、請求項1に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記塩素含有粉体に加える初回の第1脱塩用洗液として海水を利用し、前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度が15質量%を超えないようにする、請求項1に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記脱塩ケーキ洗浄工程で得られる前記第2ろ液は、少なくともその一部を前記第2脱塩用洗液として循環利用して、前記第2脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視及び制御しつつ、前記スラリー化工程と、前記塩素溶出工程と、前記脱塩ケーキ形成工程と、前記脱塩ケーキ洗浄工程とを、供給される塩素含有粉体ごとに繰り返す、請求項1に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記第2脱塩用洗液の塩素イオン濃度が前記第1閾値とは別個の第2閾値を超えた場合、前記第2脱塩用洗液を、新たな第2脱塩用洗液により前記第2閾値を満足するように制御する、請求項4に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記第2脱塩用洗液の塩素イオン濃度が3.5質量%を超えないようにする、請求項4又は5に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 更に下記(1)〜(3)の工程を備える、請求項1に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
(1)前記第1ろ液、前記第2ろ液、前記第1脱塩用洗液として循環利用後の該第1脱塩用洗液、及び前記第2脱塩用洗液として循環利用後の該第2脱塩用洗液からなる群から選ばれた1種又は2種以上のうち、前記第1脱塩用洗液又は前記第2脱塩用洗液として再度利用しないものを排液として回収する排液回収工程
(2)前記工程(1)で回収した排液に重金属捕集剤を添加して、該排液に含まれる重金属を凝集フロック状に不溶化する重金属不溶化工程
(3)前記工程(2)で不溶化した重金属を含む凝集フロック含有液から液相の一部又は全部を分離して第1凝集ケーキと第3ろ液を得る重金属凝集ケーキ形成工程 - 更に下記(4)の工程を備える、請求項7記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
(4)前記第1凝集ケーキを、前記第1脱塩用洗液及び前記第2脱塩用洗液とは別個の第3脱塩用洗液で洗浄して第2凝集ケーキと第4ろ液を得る重金属凝集ケーキ洗浄工程 - 前記重金属不溶化工程は、前記排液のpHを7〜11とする、請求項7又は8に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記重金属凝集ケーキ洗浄工程で得られる前記第4ろ液は、少なくともその一部を前記第1脱塩用洗液として循環利用する、請求項8に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記脱塩ケーキ洗浄工程で得られる前記第2ろ液は、少なくともその一部を前記第3脱塩用洗液として利用し、及び/又は前記重金属凝集ケーキ洗浄工程で得られる前記第4ろ液は、少なくともその一部を前記第3脱塩用洗液として循環利用し、前記第3脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視及び制御しつつ、前記重金属凝集ケーキ洗浄工程における洗浄処理を行う、請求項10に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記第3脱塩用洗液の塩素イオン濃度が前記第1閾値及び前記第2閾値とは別個の第3閾値を超えた場合、前記第3脱塩用洗液を、新たな第3脱塩用洗液により前記第3閾値を満足するように制御する、請求項11に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記第3脱塩用洗液の塩素イオン濃度が3.5質量%を超えないようにする、請求項11に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 前記塩素含有粉体が、焼却飛灰、溶融飛灰、及び塩素バイパスダストから選ばれた1種又は2種以上を含むものである、請求項1又は7に記載の塩素含有粉体の脱塩処理方法。
- 第1脱塩用洗液を供給するための第1脱塩用洗液供給装置と、
塩素含有粉体を前記第1脱塩用洗液供給装置からの前記第1脱塩用洗液と混合してスラリーにするとともに、前記スラリー中で前記塩素含有粉体に含まれる塩素を液相中に溶出させるための溶出槽と、
前記塩素を溶出させた該スラリーから液相の一部又は全部を分離して第1脱塩ケーキと第1ろ液を得る処理を行なう第1固液分離装置と、
前記溶出槽で処理された前記スラリーを前記第1固液分離装置に搬送するためのスラリー搬送装置と、
前記第1固液分離装置において、前記第1脱塩用洗液とは別個の第2脱塩用洗液で前記第1脱塩ケーキを洗浄して第2脱塩ケーキと第2ろ液を得る処理を行なうよう、その第2脱塩用洗液を供給するための第2脱塩用洗液供給装置と、
前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの形成処理で得られる前記第1ろ液、及び/又は前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの洗浄処理で得られる前記第2ろ液を、少なくともその一部を前記第1脱塩用洗液として循環利用するため、前記第1脱塩用洗液供給装置に送液するための第1送液装置と、
前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視するための第1塩素イオン濃度監視装置を備えたことを特徴とする塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、前記第1脱塩用洗液供給装置に前記第1脱塩用洗液として新たな第1脱塩用洗液を供給するための新たな第1脱塩用洗液の供給装置を備え、
前記第1脱塩用洗液供給装置は、該第1脱塩用洗液供給装置から前記溶出槽への前記第1脱塩用洗液の供給量を可変可能にするとともに、該第1脱塩用洗液供給装置から排液することを可能にする第1供給調整弁を備え、
前記新たな第1脱塩用洗液の供給装置は、前記第1脱塩用洗液供給装置への該洗液の供給量を可変可能にする第2供給調整弁を備え、
前記第1脱塩用洗液の塩素イオン濃度が第1閾値を超えた場合、前記第1供給調整弁を制御することにより、前記第1脱塩用洗液供給装置からの前記第1脱塩用洗液の前記溶出槽への供給を止め又は減少させ、前記第1脱塩用洗液供給装置から前記第1脱塩用洗液の一部又は全部を排液したうえ、前記新たな第1脱塩用洗液の供給装置の前記第2供給調整弁を制御することにより、前記第1脱塩用洗液供給装置に、前記第1脱塩用洗液として前記第1閾値を満足するように前記新たな第1脱塩用洗液を供給するように構成された、請求項15に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、
前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの洗浄処理で得られる前記第2ろ液を、少なくともその一部を前記第2脱塩用洗液として循環利用するため、前記第2脱塩用洗液供給装置に送液するための第2送液装置と、
前記第2脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視するための第2塩素イオン濃度監視装置とを備える、請求項15に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、前記第2脱塩用洗液供給装置に前記第2脱塩用洗液として新たな第2脱塩用洗液を供給するための新たな第2脱塩用洗液の供給装置を備え、
前記第2脱塩用洗液供給装置は、該第2脱塩用洗液供給装置から前記第1脱塩ケーキへの前記第2脱塩用洗液の供給量を可変可能にするとともに、該第2脱塩用洗液供給装置から排液することを可能にする第3供給調整弁を備え、
前記新たな第2脱塩用洗液の供給装置は、前記第2脱塩用洗液供給装置への該洗液の供給量を可変可能にする第4供給調整弁を備え、
前記第2脱塩用洗液の塩素イオン濃度が前記第1閾値とは別個の第2閾値を超えた場合、前記第3供給調整弁を制御することにより、前記第2脱塩用洗液供給装置からの前記第2脱塩用洗液の前記第1脱塩ケーキへの供給を止め又は減少させ、前記第2脱塩用洗液供給装置から前記第2脱塩用洗液の一部又は全部を排液したうえ、前記新たな第2脱塩用洗液の供給装置の前記第4供給調整弁を制御することにより、前記第2脱塩用洗液供給装置に、前記第2脱塩用洗液として前記第2閾値を満足するように前記新たな第2脱塩用洗液を供給するように構成された、請求項17に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、
前記第1ろ液及び前記第2ろ液のうち、前記第1脱塩用洗液又は前記第2脱塩用洗液として再度利用しないもの、前記第1脱塩用洗液供給装置から排液として送液された前記第1脱塩用洗液、及び前記第2脱塩用洗液供給装置から排液として送液された前記第2脱塩用洗液からなる群から選ばれた1種又は2種以上を排液として回収して収容し、これに重金属捕集剤を添加することにより、該排液に含まれる重金属を凝集フロック状に不溶化させるための重金属不溶化反応槽と、
前記不溶化した重金属を含む凝集フロック含有液から液相の一部又は全部を分離して第1凝集ケーキと第3ろ液を得る処理を行なう第2固液分離装置と、
前記重金属不溶化反応槽で処理された前記凝集フロック含有液を前記第2固液分離装置に搬送するための凝集フロック含有液搬送装置とを備える、請求項15又は17に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、
前記第2固液分離装置において、前記第1脱塩用洗液及び前記第2脱塩用洗液とは別個の第3脱塩用洗液で洗浄して第2凝集ケーキと第4ろ液を得る処理を行なうよう、その第3脱塩用洗液を供給するための第3脱塩用洗液供給装置を備える、請求項19に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、
前記第2固液分離装置でなされる前記第1凝集ケーキの洗浄処理で得られる前記第4ろ液を、少なくともその一部を前記第1脱塩用洗液として循環利用するため、前記第1脱塩用洗液供給装置に送液するための第3送液装置を備える、請求項19に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、
前記第1固液分離装置でなされる前記第1脱塩ケーキの洗浄処理で得られる前記第2ろ液を、少なくともその一部を前記第3脱塩用洗液として利用するため、前記第3脱塩用洗液供給装置に送液するための第4送液装置と、及び/又は、
前記第2固液分離装置でなされる前記第1凝集ケーキの洗浄処理で得られる前記第4ろ液を、少なくともその一部を前記第3脱塩用洗液として循環利用するため、前記第3脱塩用洗液供給装置に送液するための第5送液装置と、
前記第3脱塩用洗液の塩素イオン濃度を監視するための第3塩素イオン濃度監視装置とを備える、請求項19に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記塩素含有粉体の脱塩処理装置は、更に、前記第3脱塩用洗液供給装置に前記第3脱塩用洗液として新たな第3脱塩用洗液を供給するための新たな第3脱塩用洗液の供給装置を備え、
前記第3脱塩用洗液供給装置は、該第3脱塩用洗液供給装置から前記第1凝集ケーキへの前記第3脱塩用洗液の供給量を可変可能にするとともに、該第3脱塩用洗液供給装置から排液することを可能にする第5供給調整弁を備え、
前記新たな第3脱塩用洗液の供給装置は、前記第3脱塩用洗液供給装置への該洗液の供給量を可変可能にする第6供給調整弁を備え、
前記第3脱塩用洗液の塩素イオン濃度が前記第1閾値及び前記第2閾値とは別個の第3閾値を超えた場合、前記第5供給調整弁を制御することにより、前記第3脱塩用洗液供給装置からの前記第3脱塩用洗液の前記第1凝集ケーキへの供給を止め又は減少させ、前記第3脱塩用洗液供給装置から前記第3脱塩用洗液の一部又は全部を排液したうえ、前記新たな第3脱塩用洗液の供給装置の前記第6供給調整弁を制御することにより、前記第3脱塩用洗液供給装置に、前記第3脱塩用洗液として前記第3閾値を満足するように前記新たな第3脱塩用洗液を供給するように構成された、請求項22に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。 - 前記第1固液分離装置と前記第2固液分離装置とは、同一の装置でそれぞれによる処理を行う、請求項19に記載の塩素含有粉体の脱塩処理装置。
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