JP6659332B2 - 基板処理装置、基板処理装置の真空吸着テーブルから基板を脱着する方法、及び、基板処理装置の真空吸着テーブルに基板を載置する方法 - Google Patents
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Description
としては、たとえば発泡ポリウレタンと不織布を積層したパッド、具体的には市場で入手できるIC1000(商標)/SUBA(登録商標)系や、スウェード状の多孔性ポリウレタン非繊維質パッド、具体的には、市場で入手できるPOLITEX(登録商標)などを用いることができる。バフ研磨処理によって、スクラッチ等のダメージ又は汚染物が付着した表層部の除去、メイン研磨ユニットにおける主研磨で除去できなかった箇所の追加除去、又はメイン研磨後の、微小領域の凹凸や基板全体に渡る膜厚分布といったモフォロジーの改善、を実現することができる。
である)。
ー部904−1の内径とは互いに等しく設定されていてもよい。この場合、上室903−1aに供給される作動流体と上室904−1aに供給される作動流体の供給圧力との間に差を設けることによって、上記と同様の効果を得ることができる。
WF ウェハ(基板)
48 リフトピン
48−1 基板案内面
48−1a テーパ部
48−2 基板保持面
300A バフ処理装置
400 バフテーブル(真空吸着テーブル)
402 支持面(吸着面)
404 開口部
410 真空通路
412 圧力センサ
450 バッキング材
452 貫通孔
454 切欠き部
500 リフトピン駆動装置
714 純水供給源
724−2 薬液供給源
744 窒素源
750 開閉弁
752 開閉弁
754 開閉弁
756 開閉弁
600 リフトピン保持部材
601 リング状本体部
602 リフトピン保持部
603 基部
800 トッププレート
900 リフトピン保持部材駆動装置
901 昇降ロッド
902 基部プレート
903 第1のピストンシリンダー装置
903−1 第1のシリンダー部
903−2 第1のピストン部
903−1a 上室
903−1b 下室
903−2a ピストン本体部
903−2b ピストン本体部
903−2c ピストンロッド部
904 第2のピストンシリンダー装置
904−1 第2のシリンダー部
904−2 第2のピストン部
904−1a 上室
904−1b 下室
904−2a ピストン本体部
904−2b ピストン本体部
904−2c ピストンロッド部
906 中間プレート
907 第1のレバー部分
908 第2のレバー部分
909 支点部
Claims (10)
- 基板を載置可能な真空吸着テーブルと、前記真空吸着テーブルの外周に沿って配置される複数のリフトピンと、を備える基板処理装置であって、
前記複数のリフトピンの各々は、基板の外周端面を案内可能な基板案内面を含む先端部と、前記基板案内面から前記リフトピンの径方向外側に延びる基板保持面を含む基端部と、を備えており、
前記複数のリフトピンは、前記複数のリフトピンの基板案内面が真空吸着テーブルの吸着面より下方に配置される下端位置、前記複数のリフトピンの基板保持面が前記真空吸着テーブルの吸着面より上方に配置される上端位置、及び、前記下端位置と前記上端位置との間の中間位置で、停止可能であり、
前記中間位置において、前記複数のリフトピンの基板案内面は、前記真空吸着テーブルの吸着面より上方に配置されており、前記複数のリフトピンの基板保持面は、前記真空吸着テーブルの吸着面より下方に配置されており、
前記真空吸着テーブルは、前記真空吸着テーブルの吸着面に負圧を導入するための真空通路を備えており、
前記複数のリフトピンは、前記真空吸着テーブルの吸着面への負圧の導入が停止された後、前記真空通路内圧力が所定の圧力以上になるまでの間、前記中間位置に保持され、
前記中間位置において、前記基板案内面は、前記真空吸着テーブルに載置された基板の外周を囲む、基板処理装置。 - 前記複数のリフトピンは、前記真空吸着テーブルの吸着面への負圧の導入が開始された後、前記真空通路内圧力が所定の圧力以下になるまでの間、前記中間位置に保持される、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記複数のリフトピンを前記下端位置から前記中間位置まで上昇させるための第1のピストンシリンダー装置と、前記複数のリフトピンを前記中間位置から前記上端位置まで上昇させるための第2のピストンシリンダー装置と、を備える、請求項1〜2のいずれか一
項に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置は、前記複数のリフトピンを前記真空吸着テーブルに対して上昇または下降させるリフトピン駆動装置を備えており、
前記リフトピン駆動装置は、前記真空吸着テーブルの外周に沿って配置され且つ前記複数のリフトピンが取り付けられるリフトピン保持部材と、前記リフトピン保持部材を前記真空吸着テーブルに対して上昇または下降させるリフトピン保持部材駆動装置と、を備えており、
前記リフトピン保持部材駆動装置は、第1のピストンシリンダー装置及び第2のピストンシリンダー装置を備えており、
前記複数のリフトピンは、前記第1のピストンシリンダー装置及び前記第2のピストンシリンダー装置のいずれか一方の作動により前記中間位置に移動される、請求項1〜2のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1のピストンシリンダー装置は、前記真空吸着テーブルに対して位置固定された第1のシリンダー部と、前記第1のシリンダー部に配置され且つ前記真空吸着テーブルに対して接近または離間する方向に摺動可能な第1のピストン部と、を備えており、
前記第2のピストンシリンダー装置は、前記第1のピストン部に対して位置固定された第2のシリンダー部と、前記第2のシリンダー部に配置され且つ前記真空吸着テーブルに対して接近または離間する方向に摺動可能な第2のピストン部と、を備えており、
前記第1のシリンダー部の内径は、前記第2のシリンダー部の内径よりも大きく、
前記複数のリフトピンは、前記第1のピストンシリンダー装置の作動により前記中間位置に移動される、
請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置はバフ処理装置であり、前記真空吸着テーブルはバフテーブルである、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置の真空吸着テーブルから基板を脱着する方法であって、
前記真空吸着テーブルの外周に沿って配置される前記複数のリフトピンを、前記複数のリフトピンが前記真空吸着テーブルの回転を妨げない前記下端位置、前記複数のリフトピンが前記真空吸着テーブルの吸着面より上方で基板を保持する前記上端位置、及び、前記下端位置と前記上端位置との間の前記中間位置で、停止させることを含み、
前記方法は、
前記複数のリフトピンを、前記下端位置から前記中間位置へ上昇させる工程と、
前記真空吸着テーブルの吸着面への負圧導入を停止する工程と、
前記真空吸着テーブルの吸着面に流体を供給する工程と、
前記真空吸着テーブルの吸着面の圧力が所定の圧力以上になったとき、前記複数のリフトピンを前記中間位置から前記上端位置へ上昇させる工程と、を含む、基板処理装置の真空吸着テーブルから基板を脱着する方法。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置の真空吸着テーブルに基板を載置する方法であって、
前記真空吸着テーブルの外周に沿って配置される前記複数のリフトピンを、前記複数のリフトピンが前記真空吸着テーブルの回転を妨げない前記下端位置、前記複数のリフトピンが前記真空吸着テーブルの吸着面より上方で基板を保持する前記上端位置、及び、前記下端位置と前記上端位置との間の前記中間位置で、停止させることを含み、
前記方法は、
前記複数のリフトピンを、前記上端位置から前記中間位置へ下降させる工程と、
前記真空吸着テーブルの吸着面に負圧を導入する工程と、
前記真空吸着テーブルの吸着面の圧力が所定の圧力以下になったとき、前記複数のリフトピンを前記中間位置から前記下端位置へ下降させる工程と、
を含む、基板を真空吸着テーブルに載置する方法。 - 前記基板処理装置はバフ処理装置であり、前記真空吸着テーブルはバフテーブルである、請求項7に記載の方法。
- 前記基板処理装置はバフ処理装置であり、前記真空吸着テーブルはバフテーブルである、請求項8に記載の方法。
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