JP6343207B2 - 研磨方法および研磨装置 - Google Patents
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Description
2 ヘッド本体
3 リテーナリング
4 弾性膜(メンブレン)
4a 隔壁
4b ウェーハ保持面(基板保持面)
4h 孔
5 センター室
6 リプル室
7 アウター室
8 エッジ室
9 リテーナリング圧力室
10 研磨テーブル
10a テーブル軸
11,12,13,14,15,21,22,23,24,26 流路
20 研磨パッド
20a 研磨面
30 流体供給源
31,87 真空源
35 気水分離槽
50 基板受け渡し装置(プッシャ)
51 研磨ヘッドガイド
52 プッシャステージ
53,89 リリースノズル
60 ウェーハ洗浄ノズル
61,63 研磨ヘッド洗浄ノズル
62 研磨液供給ノズル
64 研磨ヘッドアーム
65 研磨ヘッドシャフト
66 回転筒
67 タイミングプーリ
68 研磨ヘッド回転モータ
69 タイミングベルト
70 タイミングプーリ
71,98 リリースノズル洗浄ノズル
75 リテーナリングステーション
76 搬送ステージ
77 押し上げ機構
78 押し上げピン
79 ケーシング
80 アームシャフト
81 上下動機構
82 ロータリージョイント
83 軸受
84 ブリッジ
85 支持台
86 支柱
88 ボールねじ
88a ねじ軸
88b ナット
90 サーボモータ
92 シャッタ
93,95 アクチュエータ
96 アームモータ
F1〜F5 流量センサ
R1〜R5 圧力レギュレータ
P1〜P5 圧力センサ
V1−1〜V1−3,V2−1〜V2−3,V3−1〜V3−3,V4−1〜V4−3,V5−1〜V5−3 バルブ
Claims (32)
- 研磨テーブルと研磨ヘッドとを相対移動させながら、該研磨ヘッドで基板を前記研磨テーブル上の研磨パッドに押圧して前記基板を研磨し、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させ、
前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄し、
前記基板を洗浄している間、前記基板受け渡し装置に設けられたリリースノズルから流体を吐出し、
前記基板の洗浄後、前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間に前記リリースノズルからリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させることを特徴とする研磨方法。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドを洗浄している間、前記リリースノズルから流体を吐出することを特徴とする請求項2に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記リリースノズルからの流体の吐出を開始することを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 研磨テーブルと研磨ヘッドとを相対移動させながら、該研磨ヘッドで基板を前記研磨テーブル上の研磨パッドに押圧して前記基板を研磨し、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させ、
前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄し、
前記基板を洗浄している間、前記基板受け渡し装置に設けられたリリースノズルに向かって流体を噴射し、
前記基板の洗浄後、前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間に前記リリースノズルからリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させることを特徴とする研磨方法。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄することを特徴とする請求項5に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドを洗浄している間、前記リリースノズルに向かって流体を噴射することを特徴とする請求項6に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記リリースノズルへの流体の噴射を開始することを特徴とする請求項5に記載の研磨方法。
- 研磨テーブルと研磨ヘッドとを相対移動させながら、該研磨ヘッドで基板を前記研磨テーブル上の研磨パッドに押圧して前記基板を研磨し、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させ、
シャッタを前記基板受け渡し装置に設けられたリリースノズルの上方に移動させて該リリースノズルを覆い、
前記シャッタで前記リリースノズルを覆った状態で、前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄し、
前記基板の洗浄後、前記シャッタを前記リリースノズルから離れた待機位置に移動させ、そして、
前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間に前記リリースノズルからリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させることを特徴とする研磨方法。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄することを特徴とする請求項9に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドを洗浄する前に、前記シャッタを前記リリースノズルの上方に移動させて該リリースノズルを覆うことを特徴とする請求項10に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記シャッタを前記リリースノズルの上方に移動させて該リリースノズルを覆うことを特徴とする請求項9に記載の研磨方法。
- 研磨テーブルと研磨ヘッドとを相対移動させながら、該研磨ヘッドで基板を前記研磨テーブル上の研磨パッドに押圧して前記基板を研磨し、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させ、
前記基板受け渡し装置に設けられたリリースノズルを、該基板受け渡し装置から離れた待避位置に移動させ、
前記リリースノズルが前記待避位置にある状態で、前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄し、
前記基板の洗浄後、前記リリースノズルを前記待避位置からシャワー位置に移動させ、そして、
前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間に前記リリースノズルからリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させることを特徴とする研磨方法。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄することを特徴とする請求項13に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドを洗浄する前に、前記リリースノズルを前記待避位置に移動させることを特徴とする請求項14に記載の研磨方法。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記リリースノズルを前記待避位置に移動させることを特徴とする請求項13に記載の研磨方法。
- 研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドに押圧して該基板を研磨する研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドに前記基板を渡し、該基板を前記研磨ヘッドから受け取る基板受け渡し装置と、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、前記基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させる研磨ヘッド移動機構と、
前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄する基板洗浄ノズルと、
前記基板受け渡し装置に設けられ、前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間にリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させるリリースノズルと、を備え、
前記リリースノズルは、前記基板洗浄ノズルが前記基板に洗浄流体を噴射している間、流体を吐出するように構成されていることを特徴とする研磨装置。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄する研磨ヘッド洗浄ノズルをさらに備えたことを特徴とする請求項17に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッド洗浄ノズルが前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射している間、前記リリースノズルから流体を吐出することを特徴とする請求項18に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記リリースノズルからの流体の吐出を開始することを特徴とする請求項17に記載の研磨装置。
- 研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドに押圧して該基板を研磨する研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドに前記基板を渡し、該基板を前記研磨ヘッドから受け取る基板受け渡し装置と、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、前記基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させる研磨ヘッド移動機構と、
前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄する基板洗浄ノズルと、
前記基板受け渡し装置に設けられ、前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間にリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させるリリースノズルと、
前記基板洗浄ノズルが前記基板に洗浄流体を噴射している間、前記リリースノズルに向かって流体を噴射するリリースノズル洗浄ノズルと、を備えたことを特徴とする研磨装置。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄する研磨ヘッド洗浄ノズルをさらに備えたことを特徴とする請求項21に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッド洗浄ノズルが前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射している間、前記リリースノズル洗浄ノズルは前記リリースノズルに向かって流体を噴射することを特徴とする請求項22に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記リリースノズル洗浄ノズルからの流体の噴射を開始することを特徴とする請求項21に記載の研磨装置。
- 研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドに押圧して該基板を研磨する研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドに前記基板を渡し、該基板を前記研磨ヘッドから受け取る基板受け渡し装置と、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、前記基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させる研磨ヘッド移動機構と、
前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄する基板洗浄ノズルと、
前記基板受け渡し装置に設けられ、前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間にリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させるリリースノズルと、
前記リリースノズルの上方の隔離位置と、前記リリースノズルの横の待機位置との間を移動可能に構成されたシャッタと、を備え、
前記基板洗浄ノズルが前記基板に洗浄流体を噴射している間、前記シャッタは前記隔離位置で前記リリースノズルを覆うように構成されていることを特徴とする研磨装置。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄する研磨ヘッド洗浄ノズルをさらに備えたことを特徴とする請求項25に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッド洗浄ノズルが前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射している間、前記シャッタは前記隔離位置で前記リリースノズルを覆うように構成されていることを特徴とする請求項26に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記シャッタは前記待機位置から前記隔離位置に移動することを特徴とする請求項25に記載の研磨装置。
- 研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドに押圧して該基板を研磨する研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドに前記基板を渡し、該基板を前記研磨ヘッドから受け取る基板受け渡し装置と、
前記基板を保持した前記研磨ヘッドを、前記基板受け渡し装置の上方の所定位置に移動させる研磨ヘッド移動機構と、
前記所定位置にある前記研磨ヘッドに保持された前記基板に洗浄流体を噴射して前記基板を洗浄する基板洗浄ノズルと、
前記基板受け渡し装置に設けられ、前記研磨ヘッドと前記基板との間の隙間にリリースシャワーを噴射することにより、前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させるリリースノズルと、
前記リリースノズルを、前記リリースシャワーを噴射するシャワー位置と、前記基板受け渡し装置から離れた待避位置との間を移動させるアクチュエータと、を備え、
前記アクチュエータは、前記基板洗浄ノズルが前記基板に洗浄流体を噴射する前に、前記リリースノズルを前記シャワー位置から前記待避位置に移動させることを特徴とする研磨装置。 - 前記基板を前記研磨ヘッドから離脱させた後、前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射することにより前記研磨ヘッドを洗浄する研磨ヘッド洗浄ノズルをさらに備えたことを特徴とする請求項29に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッド洗浄ノズルが前記研磨ヘッドに洗浄流体を噴射する前に、前記アクチュエータは、前記リリースノズルを前記シャワー位置から前記待避位置に移動させることを特徴とする請求項30に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッドが前記所定位置に到達する前、または到達したときに、前記アクチュエータは、前記リリースノズルを前記シャワー位置から前記待避位置に移動させることを特徴とする請求項29に記載の研磨装置。
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