JP6658213B2 - 視野角補償フィルム、視野角補償フィルムの製造方法、偏光板、液晶表示素子及び有機ｅｌ素子 - Google Patents

Description

本発明は、視野角補償フィルム、視野角補償フィルムの製造方法、偏光板、液晶表示素子及び有機ＥＬ素子に関する。

従来、液晶表示素子としては、電極構造や使用する液晶分子の物性、製造工程等が異なる種々の駆動方式のものが開発されており、例えばＴＮ（Twisted Nematic）型やＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型、ＩＰＳ型（In-Plane Switching）、ＦＦＳ（fringe field switching）型等の各種液晶表示素子が知られている。

液晶ディスプレイなどの表示装置には、種々の光学材料が用いられている。例えば、視野角補償フィルム（位相差フィルム）は、表示の着色を解消したり、視覚方向によって表示色及びコントラスト比が変化するといった視野角依存性を解消したりする目的で用いられている。近年では、液晶ディスプレイなどにおける表示品位の更なる改善を図るべく、種々の視野角補償フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１には、第１の光学異方性層と、第１の光学異方性層の表面に形成された第２の光学異方性層とを備える視野角補償フィルムが開示されている。当該フィルムにおける第１の光学異方性層は、液晶化合物をホモジニアス配向状態で固定してなり、第２の光学異方性層は、液晶化合物をホメオトロピック配向状態で固定してなる構成を有している。また、特許文献１には、支持体上に形成された配向膜の表面に第１の光学異方性層が形成されてもよいことが記載されている。配向膜の材料としては、変性又は未変性のポリビニルアルコールを使用することが好ましい旨、特許文献１には記載されている。

国際公開第２０１５／００８７７３号

ポリビニルアルコールを材料とする液晶配向膜を用いて液晶分子の配向を制御し、これにより光学異方性を発現させる場合、液晶分子の配向制御性が低く、液晶ディスプレイの視野角拡大の効果や表示色の改良効果を十分に得ることができないことが懸念される。

本発明は、液晶表示素子の表示品位の改良効果が高い視野角補償フィルムを提供することを一つの目的とする。

本発明者らは上記のような従来技術の課題を達成するべく鋭意検討し、視野角補償フィルムが備える液晶配向膜を、特定の重合体を用いて形成することにより上記課題を解決可能であることを見出した。具体的には、以下の手段が提供される。

［１］ 光学異方性層として第１の光学異方性層と、該第１の光学異方性層とは異なる第２の光学異方性層とを備え、前記第１の光学異方性層が液晶配向膜と液晶層とを有する視野角補償フィルムにおける、前記液晶配向膜を形成するための視野角補償フィルム用重合体組成物であって、重合体成分としてポリオルガノシロキサンを含有する、視野角補償フィルム用重合体組成物。
［２］ 光学異方性層として第１の光学異方性層と、該第１の光学異方性層とは異なる第２の光学異方性層とを備える視野角補償フィルムであって、前記第１の光学異方性層は、液晶配向膜と液晶層とを有し、前記液晶配向膜は、ポリオルガノシロキサンを含む、視野角補償フィルム。
［３］ 光学異方性層として第１の光学異方性層と、該第１の光学異方性層とは異なる第２の光学異方性層とを備える視野角補償フィルムの製造方法であって、上記［１］の視野角補償フィルム用重合体組成物を用いて塗膜を形成し、該塗膜に光照射することにより、前記第１の光学異方性層の液晶配向膜を形成する工程と、前記液晶配向膜の表面に重合性液晶を塗布して硬化させることより、前記第１の光学異方性層の液晶層を形成する工程と、を含む視野角補償フィルムの製造方法。
［４］上記［２］の視野角補償フィルムと、偏光子と、を備える偏光板。
［５］上記［２］の視野角補償フィルムを備える液晶表示素子。
［６］上記［２］の視野角補償フィルムを備える有機ＥＬ素子。

第１の光学異方性層及び第２の光学異方性層を備える視野角補償フィルム用の液晶配向膜を形成するための重合体組成物に、重合体成分としてポリオルガノシロキサンを含有させることにより、光学異方性層の液晶配向性が良好であって、かつコントラストに優れた視野角補償フィルムを得ることができる。そのため、本発明の視野角補償フィルムは、液晶表示素子及び有機ＥＬ素子の表示品位の改良効果が高く、よって、画像表示分野等において好適に用いることができる。

視野角補償フィルムの一例を示す概略構成図。 視野角補償フィルムの他の一例を示す概略構成図。 偏光板の一例を示す概略構成図。 偏光板の他の一例を示す概略構成図。 液晶表示素子の一例を示す概略構成図。 視野角補償フィルムの他の一例を示す概略構成図。 視野角補償フィルムの他の一例を示す概略構成図。 視野角補償フィルムの他の一例を示す概略構成図。

≪視野角補償フィルム≫
（第１実施形態）
以下、本開示の視野角補償フィルムについて、図面を適宜参照しつつ説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付しており、同一符号の部分についてはその説明を援用する。本開示の視野角補償フィルムは、図１に示すように、光学異方性層として、第１の光学異方性層１２と、第１の光学異方性層１２とは異なる第２の光学異方性層１３とを備えている。第１実施形態において、図１の視野角補償フィルム１０は、基材１１の一面に第１の光学異方性層１２及び第２の光学異方性層１３が積層されている。

基材１１は、透明で、かつ光学異方性が小さい材料からなるフィルムを好ましく使用することができる。具体的には、例えば、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィンなどの合成樹脂からなるフィルムが挙げられる。これらの材料のうち、セルロースアシレートが好ましく、セルロースアセテートがより好ましい。また、基材１１が偏光子を兼ねる態様では、ポリビニルアルコールを用いてもよい。使用する基材１１に対しては、基材面と光学異方性層（図１では第１の光学異方性層１２）との密着性を良好にするために、光学異方性層を形成する面に、鹸化処理などの従来公知の前処理が施されていてもよい。

第１の光学異方性層１２は、基材１１の一面に設けられており、液晶配向膜１４と液晶層１５とを備えている。液晶配向膜１４は、基材１１上に、視野角補償フィルム用重合体組成物を用いて形成されている。なお、視野角補償フィルム用重合体組成物については後述する。基材１１上に形成される液晶配向膜１４の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍであり、より好ましくは０．０５〜０．５μｍである。

液晶層１５は、液晶分子を含む塗膜であり、液晶配向膜１４に隣接して設けられている。この液晶層１５は、重合性液晶を含む液晶組成物を用いて形成されている。重合性液晶としては、従来公知のものを使用することができる。具体的には、例えば非特許文献１（「ＵＶキュアラブル液晶とその応用」、液晶、第３巻第１号（１９９９年）、ｐｐ３４〜４２）に記載されているネマチック液晶化合物を挙げることができる。また、コレステリック液晶；ディスコティック液晶；カイラル剤を添加されたツイストネマティック配向型液晶などであってもよい。重合性液晶は、複数の液晶化合物の混合物であってもよく、さらに、公知の重合開始剤、適当な溶媒などを含有する組成物であってもよい。液晶層１５の厚さは、所望の光学特性や、使用する重合性液晶の光学特性などによって適宜に設定されるが、例えば０．１〜１．５μｍの範囲に設定される。

第２の光学異方性層１３は、第１の光学異方性層１２の上に積層されており、図１では、第１の光学異方性層１２を挟んで基材１１と反対側において液晶層１５に隣接して設けられている。第２の光学異方性層１３は、光学異方性を有していればその態様は特に限定されない。具体的には、液晶化合物を含む組成物を用いて形成されていてもよく、重合体を含む組成物を用いて形成されていてもよく、あるいは、延伸フィルムを貼り付けることにより形成されていてもよい。また、偏光子であってもよく、液晶配向膜と液晶層とからなる構成であってもよい。

第２の光学異方性層１３が、液晶化合物を含む組成物を用いて形成されている態様において、当該組成物に含まれる液晶化合物は、棒状液晶化合物であってもよく、円盤状液晶化合物であってもよい。また、液晶化合物の液晶相としては、スメクチック相、ネマチック相などが挙げられる。第２の光学異方性層形成用の液晶化合物は、第１の光学異方性層１２の形成に用いる液晶化合物に応じて適宜選択してもよい。具体的には、例えば、第２の光学異方性層１３の形成に用いる液晶化合物を、第１の光学異方性層１２の形成に用いる液晶化合物と同じ液晶相としてもよく、あるいは、第１の光学異方性層１２の形成に用いる液晶化合物と異なる液晶相としてもよい。また、液晶化合物として、重合性液晶を用いてもよい。液晶化合物としては、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。第２の光学異方性層形成用の組成物は、さらに必要に応じて、重合開始剤、重合性化合物、溶剤、垂直配向剤等を含んでいてもよい。

第２の光学異方性層１３が延伸フィルムからなる態様において、延伸フィルムの材料としては、延伸により複屈折性を示す重合体を用いることができ、例えば、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、セルロース系誘導体、ポリウレタン等が挙げられる。これらの材料は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。第２の光学異方性層１３を形成する重合体の重量平均分子量は、例えば、１，０００〜３００，０００が好ましく、５，０００〜２５０，０００がより好ましく、１０，０００〜２００，０００が更に好ましい。延伸処理は、一軸延伸でもよく、二軸延伸でもよい。延伸方法は、任意の適切な方法を採用することができる。延伸倍率は、所望の位相差値、膜の厚さに応じて適宜設定すればよいが、例えば、１．１〜３．０倍とすることができる。第２の光学異方性層１３の厚さは、目的の位相差に応じて適宜設定すればよいが、０．３〜３．０μｍであることが好ましく、０．５〜２．８μｍであることがより好ましい。

第２の光学異方性層１３が偏光子である態様において、偏光子としては従来公知のものを使用することができ、例えば、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた偏光フィルム、該偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光膜等が挙げられる。なお、第２の光学異方性層１３を偏光子とした場合、偏光子の一面に第１の光学異方性層１２を形成することによって、視野角補償フィルム１０が基材１１を備えていない構成としてもよい（図６参照）。
第２の光学異方性層１３が液晶配向膜と液晶層とからなる態様において、液晶配向膜については第１の光学異方性層の説明が適用され、液晶層については、第２の光学異方性層１３を液晶化合物を含む組成物を用いて形成する場合の説明が適用される。

第２の光学異方性層１３は、光学異方性に加え、さらに下記のＡ），Ｂ）又はＣ）の物性を有するものとしてもよい。
Ａ）正の複屈折性を有する。
Ｂ）ＪＩＳ Ｚ−０２０８に基づく４０℃、相対湿度９０％における透湿度が２００ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。
Ｃ）弾性率が４．２ＧＰａ以上である。

第２の光学異方性層１３に上記Ａ）の物性を発現させるには、例えば、（Ａ１）液晶化合物を含む組成物を用い、液晶化合物が所定のチルト角を有するように層を形成する方法、（Ａ２）正の固有複屈折性を示す重合体を用いて形成した膜に延伸処理を施し、これを貼り合わせる方法、などにより行うことができる。

具体的には、（Ａ１）としては、液晶化合物を含む組成物中にチルト角制御剤を配合することにより液晶化合物の配向状態を制御する方法；第１の光学異方性層１２との界面の影響により液晶化合物の配向状態を制御する方法、などが挙げられる。チルト角制御剤としては、例えば、フルオロ脂肪族基を有する重合体などが挙げられる。このようなチルト角制御剤の具体例としては、例えば、特開２００８−２５７２０５号公報、特開２００６−９１７３２号公報に記載の化合物などが挙げられる。チルト角制御剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
（Ａ２）における「正の固有複屈折性を示す重合体」としては、例えば、シクロオレフィン系重合体、セルロース誘導体、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体などが挙げられる。
なお、第２の光学異方性層１３が正の複屈折性を有する場合、第１の光学異方性層１２は、第２の光学異方性層１３との組み合わせにより所望の光学特性が得られればよく、正の複屈折性を有していてもよく、あるいは負の複屈折性を有していてもよい。

第２の光学異方性層１３が上記Ｂ）の物性を有する場合、液晶セル内への水分の浸入が抑制され、表示ムラを少なくできる点で好適である。また、液晶セルの信頼性及び耐久性を向上できる点、並びに液晶セルの反りを抑制することができる点においても好ましい。第２の光学異方性層１３の透湿度は、好ましくは１００ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、より好ましくは９０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは５０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。
第２の光学異方性層１２に上記Ｂ）の物性を発現させるための一態様としては、（Ｂ１）第２の光学異方性層１３を、脂環式炭化水素基を有する重合性化合物を含む組成物を用いて形成する方法、又は（Ｂ２）環状オレフィン系樹脂を含む組成物を用いて形成する方法、などが挙げられる。なお、第２の光学異方性層１３の形成に用いる組成物は、さらに必要に応じて、重合開始剤、透光性粒子、含フッ素又はシリコーン化合物、溶剤などを含有していてもよい。

ここで、上記（Ｂ１）の場合、重合性化合物が有する脂環式炭化水素基としては、例えば、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、ペンタシクロペンタデカニル基、アダマンチル基、ジアダマンタニル基等が挙げられる。重合性化合物における重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられ、中でも（メタ）アクリロイル基が好ましい。
上記（Ｂ２）の場合の環状オレフィン系樹脂としては、例えば特開２００８−５８４７３号公報に記載の重合体等を使用することができる。
上記（Ｂ１）及び（Ｂ２）では、重合性化合物又は環状オレフィン系重合体を含む組成物を第１の光学異方性層１２の表面に塗布し、好ましくは乾燥させた後、光や熱などを利用して硬化させることにより、目的とする第２の光学異方性層１３を形成することが好ましい。

第２の光学異方性層１３が上記Ｃ）の物性を有する場合、得られる視野角補償フィルム１０は、フィルムの弾性率が高く、剛性に優れている。したがって、視野角補償フィルムをロール状で保管した場合に、ロール表面が凹凸状に変形することを抑制できる点で好適である。また、得られる視野角補償フィルム１０は低複屈折を示すことから、光学性能に優れている。
第２の光学異方性層１３の弾性率は、上記効果を十分に得る観点から、４．３ＧＰａ以上であることが好ましく、４．５ＧＰａ以上であることがより好ましい。なお、弾性率は、引っ張り試験機（ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰ、東洋ボールドウィン（株）製）を用い、２３℃、相対湿度６０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、ＭＤ及びＴＤの引っ張り弾性率の平均値として測定した値である。

第２の光学異方性層１３に上記Ｃ）の物性を発現させるための一態様は、脂環式骨格を含み、水酸基が有する水素原子がモノカルボン酸由来のアシル基で置換されたポリエステルを含む組成物を用いて、第２の光学異方性層１３を形成する。こうしたアシル基置換ポリエステルとしては、例えば、特開２０１５−１８１６２号公報に記載の重合体などを使用することができる。

（第２実施形態）
次に、第２実施形態の視野角補償フィルムについて、第１実施形態との相違点を中心に説明する。第２実施形態の視野角補償フィルム１０は、図２に示すように、第２の光学異方性層１３が、第１の光学異方性層１２との接触面に配置された中間層１６と、液晶分子の配向によって光学異方性を示す機能層１３Ａとを有しており、これにより第２の光学異方性層１３が逆波長分散性を有するものとなっている。こうした構成により、液晶表示素子又は有機ＥＬ素子に適用した場合に、より高いコントラストを実現することが可能になる。

図２の視野角補償フィルム１０は、基材１１の一面に、第１の光学異方性層１２、中間層１６及び機能層１３Ａが、この順に互いに隣接して配置されている。中間層１６は、典型的には、重合体を含む層である。当該重合体としては、特に限定されないが、機能層１３Ａとの密着性を高くするとともに、機能層１３Ａの均質な配向を実現可能な薄くて平滑な膜とする観点から、（メタ）アクリル系重合体、臭素含有ポリマー、スチレン−アクリロニトリル−（Ｎ−フェニルマレイミド）三次元共重合体、ｐ−ヒドロスチレン等からなる変性スチレン系ポリマーなどが好ましく、（メタ）アクリル系ポリマーであることが特に好ましい。これら好ましい重合体の含有割合は、層に含まれる成分の全量に対して、３０重量％以上とすることが好ましく、４０重量％以上とすることがより好ましい。なお、中間層１６は、配向処理が施されていないことが好ましい。

中間層１６は、極性基及び重合性基の少なくとも一方を有する成分を含んでいることが好ましく、極性基及び重合性基を同一又は異なる成分中に含んでいることがより好ましく、中間層１６を構成する重合体が極性基及び重合性基を有していることが特に好ましい。光学異方性層との密着性が高い点で、極性基は水酸基が好ましく、重合性基は（メタ）アクリロイル基が好ましい。中間層１６の厚さは、視野角補償フィルムに逆波長分散性を発現させる観点から、０．３〜３．０μｍであることが好ましく、０．５〜２．８μｍであることがより好ましい。

第２の光学異方性層１３が逆波長分散性を示す場合、第２の光学異方性層１３は下記数式（１）を満たしていることが好ましい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）＜１ …（１）
（数式（１）中、Ｒｅ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを示し、Ｒｅ（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションを示す。）
なお、波長λにおける面内レターデーションは、特開２０１５−４３０７３号公報に記載の方法に従って算出される値である。

（他の実施形態）
・図１には、基材１１上に第１の光学異方性層１２を配置し、第１の光学異方性層１２の基材１１とは反対側の表面上に第２の光学異方性層１３を配置する構成を示したが、第１の光学異方性層１２及び第２の光学異方性層１３の積層順序はこれに限定されない。例えば、基材１１上に第２の光学異方性層１３を配置し、第２の光学異方性層１３の基材１１とは反対側の表面上に第１の光学異方性層１２を配置する構成としてもよい（図８参照）。

≪視野角補償フィルム用重合体組成物≫
次に、本開示の視野角補償フィルム用の液晶配向膜を形成するための視野角補償フィルム用重合体組成物（以下、単に「重合体組成物」ともいう。）に配合される成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。

＜重合体成分＞
（ポリオルガノシロキサン）
本開示の重合体組成物は、重合体成分としてポリオルガノシロキサンを含有する。当該ポリオルガノシロキサンは、例えば、加水分解性のシラン化合物を加水分解・縮合することにより得ることができる。

シラン化合物の具体例としては、加水分解性を示す限り特に制限されないが、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のアルコキシシラン；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−シクロヘキシルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等の窒素・硫黄含有のアルコキシシラン；
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有のアルコキシシラン；
３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン等の不飽和結合含有のアルコキシシラン；のほか、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物などを挙げることができる。シラン化合物は、これらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。

シラン化合物の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物の１種又は２種以上と水とを、好ましくは適当な触媒及び有機溶媒の存在下で反応させることにより行う。加水分解・縮合反応に際し、水の使用割合は、シラン化合物（合計量）１モルに対して、好ましくは０．５〜１００モルであり、より好ましくは１〜３０モルである。触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを挙げることができる。触媒の使用量は、触媒の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えばシラン化合物の合計量に対して、好ましくは０．０１〜３倍モルであり、より好ましくは０．０５〜１倍モルである。

上記有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコールなどを挙げることができる。これらのうち、非水溶性又は難水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒の使用割合は、反応に使用するシラン化合物の合計１００重量部に対して、好ましくは１０〜１０，０００重量部であり、より好ましくは５０〜１，０００重量部である。

上記の加水分解・縮合反応は、例えば油浴などにより加熱して実施することが好ましい。加水分解・縮合反応時には、加熱温度を１３０℃以下とすることが好ましく、４０〜１００℃とすることがより好ましい。加熱時間は、０．５〜１２時間とすることが好ましく、１〜８時間とすることがより好ましい。加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。また、反応終了後において、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。この洗浄に際しては、少量の塩を含む水（例えば、０．２重量％程度の硝酸アンモニウム水溶液など）を用いて洗浄することにより、洗浄操作が容易になる点で好ましい。洗浄は、洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後、有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブなどの乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、ポリオルガノシロキサンの合成方法は、上記の加水分解・縮合反応に限らず、例えば加水分解性シラン化合物をシュウ酸及びアルコールの存在下で反応させる方法などにより行ってもよい。

本開示の重合体組成物に含有させるポリオルガノシロキサンは、光配向性基を有する重合体であることが好ましい。こうした光配向性基含有のポリオルガノシロキサンを、視野角補償フィルム用の重合体組成物における重合体成分の少なくとも一部として用いることにより、第１の光学異方性層１２における液晶分子の配向を精密に制御することができる。

ポリオルガノシロキサンが有する光配向性基は、光照射による光異性化反応、光二量化反応又は光分解反応によって膜に異方性を付与する官能基である。光配向性基の具体例としては、例えばアゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基、ポリイミド又はその誘導体を基本骨格として含むポリイミド含有構造等が挙げられる。これらの中でも、ポリオルガノシロキサンが有する光配向性基は、高い配向能を有する点及び重合体への導入が容易である点で、桂皮酸又はその誘導体からなる桂皮酸構造を含む基であることが好ましい。

桂皮酸構造を含む基としては、例えば、桂皮酸が有するカルボキシル基の水素原子を除去して得られる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「順シンナメート基」ともいう。）や、桂皮酸が有するカルボキシル基がエステル化され、かつベンゼン環に２価の有機基が結合してなる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「逆シンナメート基」ともいう。）などが挙げられる。順シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−１）で表すことができ、逆シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−２）で表すことができる。

（式（ｃｎ−１）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ｒ^２は、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基若しくはシクロヘキシレン基、又はこれらの基が有する水素原子の少なくとも一部が、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、当該アルコキシ基の水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置換された１価の基によって置換された基又はシアノ基である。Ａ^１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、炭素数１〜３のアルカンジイル基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、＊^１−ＣＯＯ−、＊^１−ＯＣＯ−、＊^１−ＮＨ−ＣＯ−、＊^１−ＣＯ−ＮＨ−、＊^１−ＣＨ_２−Ｏ−又は＊^１−Ｏ−ＣＨ_２−（「＊^１」はＲ^２との結合手を示す。）である。Ｒ^３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。ａは０または１であり、ｂは０〜４の整数である。但し、ｂが２以上の場合、複数のＲ^３は同じでも異なっていてもよい。「＊」は結合手であることを示す。
式（ｃｎ−２）中、Ｒ^４は、炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ^５は、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ａ^２は、酸素原子、＊^１−ＣＯＯ−、＊^１−ＯＣＯ−、＊^１−ＮＨ−ＣＯ−又は＊^１−ＣＯ−ＮＨ−（「＊^１」はＲ^６との結合手を示す。）である。Ｒ^６は、炭素数１〜６のアルカンジイル基である。ｃは０又は１であり、ｄは０〜４の整数である。但し、ｄが２以上の場合、複数のＲ^５は同一であっても異なっていてもよい。「＊」は結合手であることを示す。）

上記式（ｃｎ−１）で表される基の具体例としては、例えば下記式

（上記式中、「＊」は結合手であることを示す。）
のそれぞれで表される基などを；
上記式（ｃｎ−２）で表される基の具体例としては、例えば下記式

（上記式中、「＊」は結合手であることを示す。）
のそれぞれで表される基などを；挙げることができる。

光配向性基を有するポリオルガノシロキサンを合成する方法は、特に限定されない。例えば、下記［１ａ］又は［２ａ］による方法などが挙げられる。
［１ａ］エポキシ基含有のアルコキシシラン、又はエポキシ基含有のアルコキシシランとその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合してエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを合成し、次いで、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと、光配向性基を有するカルボン酸（以下「特定カルボン酸」ともいう。）と、を反応させる方法。
［２ａ］光配向性基を有する加水分解性のシラン化合物、又は当該シラン化合物とその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合させる方法。
これらのうち、［１ａ］の方法は簡便であって、しかもポリオルガノシロキサンにおける光配向性基の導入率を高くすることができる点で好ましい。

上記［１ａ］の方法について、光配向性基を重合体に十分に導入することを可能にしつつ、エポキシ基が過剰量であることに起因する副反応を抑制する観点から、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンのエポキシ当量は、１００〜１０，０００ｇ／モルであることが好ましく、１５０〜１，０００ｇ／モルであることがより好ましい。したがって、エポキシ基含有ポリシロキサンを合成するにあたっては、エポキシ基含有のアルコキシシランの使用割合を、得られる重合体のエポキシ当量が上記範囲となるように調整することが好ましい。

上記［１ａ］の方法では、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを、次いで特定カルボン酸と反応させる。これにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基とカルボン酸とが反応して、光配向性基を有するポリオルガノシロキサンを得ることができる。

特定カルボン酸は、光反応性基を有していれば特に限定されないが、光配向性基として桂皮酸構造を含む基を有するカルボン酸であることが好ましい。このような特定カルボン酸としては、例えば上記式（ｃｎ−１）及び上記式（ｃｎ−２）のそれぞれで表される基における結合手の部分に水素原子が結合したカルボン酸などを挙げることができる。より具体的には、例えば上記式（ｃｎ−１）で表される基の具体例として挙げたそれぞれの基、及び上記式（ｃｎ−２）で表される基の具体例として挙げたそれぞれの基における結合手に水素原子が結合したカルボン酸などを挙げることができる。特定カルボン酸は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

なお、上記式（ｃｎ−１）及び上記式（ｃｎ−２）のそれぞれで表される基の結合手に水素原子が結合した化合物について、その合成方法は特に限定されず、従来公知の方法を組み合わせて合成することができる。代表的な合成方法としては、例えば塩基性条件下、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物と、（メタ）アクリル酸又はその誘導体とを遷移金属触媒の存在下で反応させる方法；塩基性条件下、ベンゼン環の水素原子がハロゲン原子で置換された桂皮酸と、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物とを遷移金属触媒の存在下で反応させる方法；等が挙げられる。

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際しては、光配向性基を有さないカルボン酸（その他のカルボン酸）を使用してもよい。使用するその他のカルボン酸は、特に制限されないが、例えば、重合性基を有するカルボン酸（以下、「重合性基含有カルボン酸」ともいう。）などが挙げられる。エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際し、重合性基含有カルボン酸とを併用することにより、重合性基と光配向性基とを有するポリオルガノシロキサンが得られる。また、こうしたポリオルガノシロキサンを、上記重合体組成物の重合体成分の少なくとも一部に用いることにより、得られる視野角補償フィルムの光学性能（特に、コントラスト特性）を高くできる点で好適である。

重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニル基、ビニリデン基、ビニルオキシ基（ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｏ−）、マレイミド基、アリル基、エチニル基などが挙げられる。これらの中でも、光に対する反応性が高い点で、（メタ）アクリロイル基が好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基及びメタクリロイル基を含む意味である。
重合性含有カルボン酸の具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸；無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物などの不飽和多価カルボン酸無水物などが挙げられる。重合性基含有カルボン酸としては、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

その他のカルボン酸としては、不飽和結合含有カルボン酸以外の化合物についても、必要に応じて使用することができる。このようなその他のカルボン酸としては、例えば、プロピオン酸、安息香酸、メチル安息香酸、光によらずに塗膜に液晶配向能を付与可能な基（以下、「プレチルト角付与基」ともいう。）を有するカルボン酸等が挙げられる。ここで、プレチルト角付与基としては、例えば、炭素数４〜２０のアルキル基、炭素数４〜２０のフルオロアルキル基、炭素数４〜２０のアルコキシ基、炭素数１７〜５１のステロイド骨格を有する基、２個以上の環が直接又は連結基を介して連結した構造を有する基などが挙げられる。なお、その他のカルボン酸は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応に際し、カルボン酸の使用割合は、反応を十分に行わせつつ、未反応のカルボン酸の量を少なくする観点から、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．５モルとすることが好ましく、０．０１モル以上１．０モル未満とすることがより好ましく、０．１〜０．８モルとすることが更に好ましい。
なお、重合体組成物に含有させるポリオルガノシロキサンは、側鎖にエポキシ基を有する重合体とすることが好ましい。例えば、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとの反応に使用する特定カルボン酸及びその他のカルボン酸の合計の使用割合を、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して１．０モル未満とすることにより、エポキシ基と光配向性基とを有するポリオルガノシロキサンを得ることができる。

特定カルボン酸の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、得られる視野角補償フィルムの液晶配向性及びコントラスト比を良好にする観点から、反応に使用するカルボン酸の全量に対して、１０モル％以上とすることが好ましく、２０モル％以上とすることがより好ましく、３０モル％以上とすることが更に好ましい。
また、重合性基含有カルボン酸を使用する場合、その使用割合は、反応に使用するカルボン酸の全量に対して、１モル％以上とすることが好ましく、３〜５０モル％とすることがより好ましく、５〜３０モル％とすることが更に好ましい。

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行うことができる。上記触媒としては、例えば有機塩基、エポキシ化合物の反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物などを用いることができる。中でも、３級有機アミン又は４級有機アミンが好ましい。触媒の使用割合は、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン１００重量部に対して、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは０．０１〜１００重量部、更に好ましくは０．１〜２０重量部である。

上記反応で使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、エーテル、エステル、ケトン、アミド、アルコール等を挙げることができる。これらのうち、原料及び生成物の溶解性、並びに生成物の精製のしやすさの観点から、エーテル、エステル及びケトンよりなる群から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましく、特に好ましい溶媒の具体例として、２−ブタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び酢酸ブチル等を挙げることができる。当該有機溶媒は、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が、溶液の全重量に対して占める割合）が、０．１重量％以上となる割合で使用することが好ましく、５〜５０重量％となる割合で使用することがより好ましい。反応温度は、好ましくは０〜２００℃であり、より好ましくは５０〜１５０℃である。また、反応時間は、好ましくは０．１〜５０時間であり、より好ましくは０．５〜２０時間である。反応終了後は、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。

ポリオルガノシロキサンを含有する反応溶液は、そのまま重合体組成物の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリオルガノシロキサンを単離したうえで重合体組成物の調製に供してもよく、又は単離したポリオルガノシロキサンを精製した上で重合体組成物の調製に供してもよい。ポリオルガノシロキサンの単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。

重合体組成物に含有させるポリオルガノシロキサンにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００〜５０，０００の範囲にあることが好ましく、２００〜１０，０００の範囲にあることがより好ましい。ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量が上記範囲にあると、視野角補償フィルムを製造する際に取り扱いやすく、また得られたフィルムは、十分な材料強度及び特性を有するものとなる。視野角補償フィルムの重合体成分としてポリオルガノシロキサンを用いることにより、膜形成時の加熱温度を比較的低温（例えば１５０℃以下）に設定することができる。したがって、使用できる基材の制限が少なく、またエネルギー節減の観点からも好適である。

（その他の重合体）
本開示の重合体組成物は、重合体成分としてポリオルガノシロキサンのみを含有していてもよいが、ポリオルガノシロキサン以外のその他の重合体を含有していてもよい。かかるその他の重合体としては、特に制限されないが、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体、ポリ（メタ）アクリレートなどを主骨格とする重合体が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを含むことを意味する。
その他の重合体を配合する場合、その使用割合は、ポリオルガノシロキサンの種類に応じて適宜選択されるが、ポリオルガノシロキサンとその他の重合体との合計１００重量部に対して、９０重量部以下とすることが好ましく、８０重量部以下とすることがより好ましい。

本開示の重合体組成物は、同一又は異なる分子中に光配向性基及び重合性基を有する成分を含有していることが好ましい。これらの基を有する成分を重合体組成物が含むことにより、放射線照射によって塗膜に液晶配向能を付与することができる。また、高い光学性能を有する視野角補償フィルムを得ることができる。
光配向性基及び重合性基を有する成分は、重合体成分であることが好ましい。本開示の重合体組成物における好ましい具体例としては、下記（１）及び（２）が挙げられる。
（１）重合体成分として、一分子内に光配向性基及び重合性基を有する重合体（以下、「重合体（Ｐ１）」ともいう。）を含む。
（２）重合体成分として、光配向性基を有する重合体（以下、「重合体（Ｐ２）」ともいう。）と、重合性基を有する重合体（以下、「重合体（Ｐ３）」ともいう。）とを含む。

上記（１）において、重合体（Ｐ１）は、ポリオルガノシロキサンであってもよいし、ポリオルガノシロキサン以外のその他の重合体であってもよい。好ましくは、ポリオルガノシロキサンである。なお、光配向性基及び重合性基を有するポリオルガノシロキサンとしては、上記で説明した例示のものを適用することができる。
重合体（Ｐ１）がポリオルガノシロキサンである場合、当該重合体（Ｐ１）の配合割合は、重合体組成物中に含まれる重合体成分の合計１００重量部に対して、１０重量部以上とすることが好ましく、２０〜９９重量部とすることがより好ましく、３０〜９０重量部とすることが更に好ましい。

重合体（Ｐ１）がポリオルガノシロキサンである場合、本開示の重合体組成物は、その他の重合体として、重合性基を有する重合体（Ｐ３）をさらに含んでいることが好ましい。この場合、ポリオルガノシロキサンの使用量を少なくしても、得られる視野角補償フィルムのコントラスト特性の改善効果が高く好適である。
重合体（Ｐ３）の主骨格は、特に限定されないが、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合により得られる重合体（以下、「重合体［Ｐａｃ］」ともいう。）であることが特に好ましい。ポリオルガノシロキサンと共に、重合体［Ｐａｃ］を併用することで、ポリオルガノシロキサンの使用量を少なくしても光学特性が良好であり、かつ基材に対する密着性が十分に高いフィルムを得ることができ生産性に優れている。また、重合体［Ｐａｃ］を併用することにより、製造時における焼成温度の低温化、焼成時間の短縮が可能となり、プロセス負荷の低減が可能となる。
上記（１）における重合体［Ｐａｃ］の配合割合は、光学性能を良好にする観点から、重合体組成物中に含まれる重合体成分の合計１００重量部に対して、５〜９０重量部とすることが好ましく、１０〜８５重量部とすることがより好ましく、２０〜８０重量部とすることが更に好ましい。

上記（２）の場合、重合体（Ｐ２）は、ポリオルガノシロキサンであることが好ましい。光配向性基を有するポリオルガノシロキサンについては、上記の説明を適用することができる。重合体（Ｐ３）は、ポリオルガノシロキサンであってもよく、ポリオルガノシロキサン以外のその他の重合体であってもよいが、好ましくはその他の重合体である。中でも、重合体（Ｐ３）は重合体［Ｐａｃ］であり、重合体［Ｐａｃ］が側鎖に重合性基を有していることが好ましい。
上記（２）において、重合体（Ｐ２）の含有割合は、重合体組成物中に含まれる重合体成分の合計１００重量部に対して、１０〜９９重量部とすることが好ましく、２０〜９０重量部とすることがより好ましい。また、重合体（Ｐ３）の含有割合は、重合体組成物中に含まれる重合体成分の合計１００重量部に対して、１〜８０重量部とすることが好ましく、５〜６０重量部とすることがより好ましい。

（重合体［Ｐａｃ］）
次に、重合体［Ｐａｃ］について詳しく説明する。重合体［Ｐａｃ］の合成に使用する単量体は、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物であれば特に制限されず、例えば、（メタ）アクリル系化合物、芳香族ビニル化合物、共役ジエン化合物、マレイミド基含有化合物等が挙げられる。これらの中でも、重合体［Ｐａｃ］は、透明性や材料強度などの観点から、（メタ）アクリル系化合物を用いて得られる重合体、すなわちポリ（メタ）アクリレートであることが好ましい。

重合性基を有するポリ（メタ）アクリレートは、例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物（ｍａ−１）、又は当該（メタ）アクリル系化合物（ｍａ−１）と、エポキシ基を有さないその他の単量体（ｍａ−２）との混合物を重合開始剤の存在下で重合し、次いで、得られた重合体（以下、「エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレート」ともいう。）と、重合性基含有カルボン酸とを反応させる方法によって得ることができる。

（メタ）アクリル系単量体（ｍａ−１）としては、例えばエポキシ基を有する不飽和カルボン酸エステルを挙げることができる。その具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、α−エチルアクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル等が挙げられる。なお、（メタ）アクリル系単量体（ｍａ−１）は、上記のうちの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

その他の単量体としては、重合性炭素−炭素不飽和結合を有していれば特に制限されない。それらの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸、α−エチルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ビニル安息香酸等の不飽和カルボン酸：（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸メトキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル系化合物；
スチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物；
１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン等の共役ジエン化合物；
Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド基含有化合物、などが挙げられる。その他の単量体は、これらの１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートの合成に際し、重合体１ｇあたりのエポキシ基の合計量（モル数）は、カルボン酸との反応を十分に行わせる観点から、５．０×１０^−５以上であることが好ましく、１．０×１０^−４〜１．０×１０^−２モル／ｇであることがより好ましく、５．０×１０^−４〜５．０×１０^−３モル／ｇであることが更に好ましい。したがって、（メタ）アクリル系単量体（ｍａ−１）の使用割合は、エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートの１ｇあたりのエポキシ基の合計のモル数が、上記範囲となるように調整することが好ましい。
上記合成に際し、（メタ）アクリル系化合物以外の単量体（芳香族ビニル化合物等）の使用割合は、エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートの合成に使用する単量体の合計に対して、３０モル％以下とすることが好ましく、２０モル％以下とすることがより好ましい。

上記重合反応は、ラジカル重合により行うことが好ましい。該反応に使用する重合開始剤としては、ラジカル重合に際して通常使用する開始剤を挙げることができ、例えば２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；過酸化水素；これらの過酸化物と還元剤とからなるレドックス型開始剤等が挙げられる。これらの中でも、アゾ化合物を好ましく使用することができる。重合開始剤としては、これらのものを１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。重合開始剤の使用割合は、反応に使用する単量体の合計１００重量部に対して、０．０１〜５０重量部とすることが好ましく、０．１〜４０重量部とすることがより好ましい。

上記重合反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。反応に使用する有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素化合物などが挙げられる。これらの中でも、アルコール及びエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも一種を使用することが好ましく、多価アルコールの部分エーテルを使用することがより好ましい。その好ましい具体例としては、例えばジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。なお、有機溶媒としてはこれらの１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

上記重合反応における反応温度は、３０〜１２０℃とすることが好ましく、６０〜１１０℃とすることがより好ましい。反応時間は、１〜３６時間とすることが好ましく、２〜２４時間とすることがより好ましい。また、有機溶媒の使用量（ａ）は、反応に使用する単量体の合計量（ｙ）が、反応溶液の全体量（ｘ＋ｙ）に対して、０．１〜５０重量％になるような量にすることが好ましい。

上記反応により得られたエポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートに対し、次いで、重合性基含有カルボン酸を反応させる。使用する重合性基含有カルボン酸は、ポリオルガノシロキサンの合成において説明した重合性基含有カルボン酸の例示を適用することができる。また、反応に際しては、重合性基含有カルボン酸を単独で使用してもよいし、あるいは重合性基含有カルボン酸以外のその他のカルボン酸を併用してもよい。使用してもよいその他のカルボン酸の具体例については、ポリオルガノシロキサンの説明を適用することができる。

エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートと、重合性基含有カルボン酸との反応に際し、重合性基含有カルボン酸の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、得られる視野角補償フィルムのコントラスト特性を良好にする観点から、エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートが有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．０モルとすることが好ましく、０．０１〜０．８モルとすることがより好ましく、０．１〜０．５モルとすることが更に好ましい。
なお、上記（２）において、重合性基を有する重合体は、光配向性基を実質的に有していないことが好ましい。具体的には、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応における特定カルボン酸の使用割合は、反応に使用するカルボン酸の全量に対して、１モル％以下とすることが好ましく、０．５モル％以下とすることがより好ましい。

エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートとカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行うことができる。ここで、反応に使用する触媒としては、ポリオルガノシロキサンの合成の説明で例示した触媒などが挙げられる。中でも、４級アンモニウム塩を好ましく使用することができる。触媒の使用量は、エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレート１００重量部に対して、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは０．０１〜８０重量部以下、更に好ましくは０．１〜２０重量部である。

反応に使用する有機溶媒としては、（メタ）アクリル系単量体の重合に際して使用できる有機溶媒の例示を適用することができ、中でもエステルであることが好ましい。当該有機溶媒は、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が、溶液の全重量に対して占める割合）が、０．１重量％以上となる割合で使用することが好ましく、５〜５０重量％となる割合で使用することがより好ましい。反応温度は、０〜２００℃とすることが好ましく、５０〜１５０℃とすることがより好ましい。反応時間は、０．１〜５０時間とすることが好ましく、０．５〜２０時間とすることがより好ましい。

こうして、重合性基を有するポリ（メタ）アクリレートを含有する溶液を得ることができる。この反応溶液は、そのまま重合体組成物の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれる重合体を単離したうえで重合体組成物の調製に供してもよく、又は単離した重合体を精製した上で重合体組成物の調製に供してもよい。ポリ（メタ）アクリレートの単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。

重合性基を有するポリ（メタ）アクリレートにつき、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、形成される膜の液晶配向性を良好にするとともに、その液晶配向性の経時的安定性を確保するといった観点から、２５０〜５００，０００であることが好ましく、５００〜１００，０００であることがより好ましく、１，０００〜５０，０００であることが更に好ましい。

＜その他の成分＞
本開示の重合体組成物は、必要に応じて、重合体成分以外のその他の成分を含有していてもよい。当該その他の成分としては、例えば、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤等が挙げられる。

［金属キレート化合物］
金属キレート化合物は、エポキシ構造間の架橋反応に対する触媒作用を有する成分であり、当該架橋反応を促進し、低温かつ短時間の熱処理で高い硬度のフィルムを形成可能にすることを目的として重合体組成物中に含有される。
金属キレート化合物としては、アルミニウム、チタニウム及びジルコニウムから選択される金属のアセチルアセトン錯体又はアセト酢酸錯体が好ましい。具体的には、アルミニウムのキレート化合物として、例えばジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトネートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトネート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、モノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどを；チタニウムのキレート化合物として、例えばジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）チタニウムなどを；ジルコニウムのキレート化合物として、例えばトリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトネート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどを、それぞれ挙げることができる。金属キレート化合物としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

金属キレート化合物としては、これらのうち、アルミニウムのキレート化合物を使用することが好ましく、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム及びトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムよりなる群から選択される１種以上を使用することがより好ましい。
金属キレート化合物の使用割合は、重合体組成物中の重合体成分の合計１００重量に対して、好ましくは０．１〜５０重量部であり、より好ましくは０．５〜３０重量部であり、更に好ましくは１〜１５重量部である。

［硬化促進剤］
硬化促進剤は、硬化触媒の触媒作用を強化し、エポキシ構造間の架橋反応を促進することを目的として重合体組成物中に含有される成分である。
硬化促進剤としては、例えばフェノール基、シラノール基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基等を有する化合物といった水素供与体を使用することができる。これらのうち、フェノール基、シラノール基又はカルボキシル基を有する化合物が好ましく、フェノール基又はシラノール基を有する化合物がより好ましい。

これらの具体例としては、フェノール基を有する硬化促進剤として、例えばシアノフェノール、ニトロフェノール、メトキシフェノキシフェノール、チオフェノキシフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシナフチル）スルホン、（３−ヒドロキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、フェニル（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、（メトキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４−ベンジルフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどを；
シラノール基を有する硬化促進剤として、例えばトリメチルシラノール、トリエチルシラノール、１，１，３，３−テトラフェニル−１，３−ジシロキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン、トリフェニルシラノール、トリ（ｐ−トリル）シラノール、トリ（ｍ−トリフルオロメチルフェニル）シラノール、トリ（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）シラノール、トリ（ｍ−フルオロフェニル）シラノール、トリ（ｏ−フルオロフェニル）シラノール、ジフェニルシランジオール、ジ（ｏ−トリル）シランジオールなどを、それぞれ挙げることができる。なお、硬化促進剤としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
硬化促進剤の使用割合は、重合体組成物中の重合体成分の合計１００重量に対して、好ましくは４０重量部以下であり、より好ましくは３０重量部以下であり、更に好ましくは２０重量部以下である。

特に、本開示の重合体組成物は、シラノール基を有する水素供与体の配合割合が、液晶配向剤に含有される重合体成分の合計１００重量部に対して、１重量部以下であることが好ましい。当該重合体組成物を、シラノール基を有する水素供与体を含有しないものとするか、又は含有する場合であってもその配合割合を所定範囲内とすることにより、第１の光学異方性層１２の液晶配向性及び視野角補償フィルム１０のコントラストをより良好にすることができる。シラノール基を有する水素供与体の配合割合は、より好ましくは、液晶配向剤に含有される重合体成分の合計１００重量部に対して、０．５重量部以下であり、更に好ましくは０．１重量部以下である。なお、シラノール基を有する水素供与体の具体例としては、シラノール基を有する硬化促進剤として例示した化合物等が挙げられる。

［界面活性剤］
界面活性剤は、重合体組成物の基材に対する塗布性を向上させることを目的として重合体組成物中に含有させることができる。このような界面活性剤としては、例えばノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、含フッ素界面活性剤などを挙げることができる。なお、界面活性剤としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
界面活性剤の使用割合は、重合体組成物中の重合体成分の合計１００重量部に対して、１０重量部以下とすることが好ましく、５重量部以下とすることがより好ましい。

なお、重合体組成物は、本発明の目的及び効果を妨げない範囲内において、上記以外の成分を含有していてもよい。かかる成分としては、例えば、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物、官能性シラン化合物、シリカ粒子、充填剤、消泡剤、光増感剤、分散剤、酸化防止剤、密着助剤、帯電防止剤、抗菌剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。なお、これらの配合割合は、配合する各化合物に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で適宜設定することができる。

［溶剤］
本開示の重合体組成物は、ポリオルガノシロキサン及び任意に使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
使用する溶媒は有機溶媒とすることが好ましく、例えば、アルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素などを好適に使用することができる。中でも、多価アルコールの部分エステル、エーテル、ケトン及びエステルから選択される１種以上を使用することが好ましい。具体的には、多価アルコールの部分エステルとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルを；エーテルとしては、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルを；ケトンとしては、メチルエチルケトン、シクロペンタノン及びシクロヘキサノンから選択される１種以上を；エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔ−ブチル、アセト酢酸エチル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される１種以上を、それぞれ好ましく使用することができる。

溶剤の使用割合は、重合体組成物の塗布性、及び形成される塗膜の膜厚を適度にする観点から、重合体組成物の固形分濃度（重合体組成物中の溶媒以外の全成分の合計重量が、重合体組成物の全重量に占める割合）が０．２〜１０重量％となる割合とすることが好ましく、３〜１０重量％となる割合とすることがより好ましい。

＜視野角補償フィルムの製造方法＞
本開示の視野角補償フィルム１０は、例えば以下の工程１及び工程２を含む方法により製造することができる。
工程１：視野角補償フィルム用重合体組成物を用いて塗膜を形成し、該塗膜に光照射して液晶配向膜１４を形成する工程。
工程２：液晶配向膜１４の一面に重合性液晶を塗布して硬化させることより液晶層１５を形成する工程。

（工程１；液晶配向膜の形成）
上記の重合体組成物を、例えば基材１１の一面に塗布して、液晶配向膜１４となる塗膜を形成する。重合体組成物の塗布は、適宜の塗布方法によることができる。例えば、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法、バーコーター法、エクストリューションダイ法、ダイレクトグラビアコーター法、チャンバードクターコーター法、オフセットグラビアコーター法、一本ロールキスコーター法、小径のグラビアロールを使ったリバースキスコーター法、３本リバースロールコーター法、４本リバースロールコーター法、スロットダイ法、エアードクターコーター法、正回転ロールコーター法、ブレードコーター法、ナイフコーター法、含浸コーター法、ＭＢコーター法、ＭＢリバースコーター法などを採用することができる。

塗布後、塗布面を加熱（ベーク）して塗膜を形成する。この時の加熱温度は、４０〜１５０℃とすることが好ましく、８０〜１４０℃とすることがより好ましい。加熱時間は、０．１〜１５分とすることが好ましく、１〜１０分とすることがより好ましい。重合体組成物により形成される塗膜の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍであり、より好ましくは０．０５〜０．５μｍである。

次いで、上記のようにして形成された塗膜に対して、偏光の放射線を照射する。照射する放射線としては、例えば１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線又は可視光線などを挙げることができる。これらのうち、３００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。偏光としては、直線偏光を含む光を使用することが好ましい。光の照射は、基材面に垂直の方向から行っても斜め方向から行ってもよく、あるいはこれらを組み合わせて行ってもよい。

使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、水銀−キセノンランプ（Ｈｇ−Ｘｅランプ）などを挙げることができる。偏光は、これらの光源を、例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。光の照射量は、０．１〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることが好ましく、１〜５００ｍＪ／ｃｍ^２とすることがより好ましく、２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２とすることがさらに好ましい。なお、塗膜に対する偏光放射線の照射は、所定の偏光方向から１回のみ行ってもよいが、偏光方向（入射方向）が異なる放射線を塗膜に対して複数回照射してもよい。

（工程２；液晶層１５の形成）
本工程では、工程１で得られた液晶配向膜１４の一面に重合性液晶を塗布する。これにより、液晶配向膜１４に隣接するようにして、重合性液晶を含む塗膜を形成する。形成された液晶配向膜１４の一面に重合性液晶を塗布するには、例えばバーコーター法、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法を採用することができる。

次いで、上記のように形成された重合性液晶の塗膜に対して、加熱及び光照射から選択される１種以上の処理を施すことにより、該塗膜を硬化し、液晶層１５を形成する。これらの処理を重畳的に行うことが、良好な配向が得られることから好ましい。塗膜の加熱温度は、使用する重合性液晶の種類によって適宜に選択されるべきである。例えばメルク社製のＲＭＳ０３−０１３Ｃを使用する場合、４０〜８０℃の範囲の温度で加熱することが好ましい。加熱時間は、好ましくは０．５〜５分である。

照射光としては、２００〜５００ｎｍの範囲の波長を有する非偏光の紫外線を好ましく使用することができる。光の照射量としては、５０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることが好ましく、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることがより好ましい。形成される液晶層１５の厚さは、所望の光学特性や、使用する重合性液晶の光学特性などによって適宜に設定されるが、例えば０．１〜１．５μｍの範囲に設定される。

（工程３；第２の光学異方性層１３の形成）
本製造方法は、工程３として、液晶層１５の上に第２の光学異方性層１３を形成する工程を含んでいてもよい。
工程３では、液晶層１５の上に第２の光学異方性層１３を形成する。ここで、「液晶層１５の上」とは、液晶層１５の上に直接第２の光学異方性層１３を積層する構成、及び液晶層１５の上に、第２の光学異方性層１３とは異なる層を介在させて第２の光学異方性層１３を積層する構成を含む概念である。具体的には、第１の光学異方性層１２と第２の光学異方性層１３とを隣接させる場合には、液晶層１５の一面に、第２の光学異方性層１３を形成するための組成物を塗布し、必要に応じて乾燥、硬化等の処理を行う方法；延伸フィルムを接着剤や粘着剤等を用いて貼り合わせる方法、などにより第２の光学異方性層１３を形成する。また、第１の光学異方性層１２と第２の光学異方性層１３との間に、第２の光学異方性層１３とは異なる層を設ける場合には、例えば、まず液晶層１５の一面に、第２の光学異方性層１３とは異なる層を形成するための組成物を塗布し、次いで、得られた第２の光学異方性層１３とは異なる層の一面に、第２の光学異方性層１３を形成するための組成物を塗布し、必要に応じて乾燥、硬化等の処理を行う。なお、塗布や乾燥、硬化等といった、層形成のための各種条件については、使用する組成物に応じて適宜選択すればよく、例えば第１の光学異方性層１２と同様の方法により行うことができる。

≪偏光板≫
本開示の偏光板は、上記の視野角補償フィルムと、偏光子とを備える。図３に、本開示の偏光板の一態様を示す。図３において、偏光板２０は、基材１１と第１の光学異方性層１２と第２の光学異方性層１３とを備える視野角補償フィルム１０を具備している。基材１１において、第１の光学異方性層１２が設けられている面の反対側の面には、偏光子１７及び保護フィルム１８が、この順に積層されている。

偏光子１７としては、例えば、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光膜、ポリエン系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜などが挙げられる。偏光子１７は、基材１１の基材面に対して、例えばポリビニルアルコールを水に溶解させた水系接着剤、極性基を有する接着剤等を用いて貼り合わせられている。偏光子１７は、偏光子１７における偏光軸の方向が、液晶配向膜１４の光配向方向に直交するようにして設けられることが好ましい。保護フィルム１８としては、例えば酢酸セルロース膜などが挙げられる。

なお、本開示の偏光板は、中間層１６を有する視野角補償フィルム（図２参照）を具備する構成であってもよい。また別の態様としては、図４に示すように、偏光子１７を基材とし、偏光子１７の一面に、液晶配向膜１４及び液晶層１５からなる第１の光学異方性層１２、並びに第２の光学異方性層１３が、液晶配向膜１４、液晶層１５及び第２の光学異方性層１３の順に積層された構成としてもよい。この場合、第２の光学異方性層１３としては、液晶分子の配向を利用した光学異方性層とすることが好ましい。図４の偏光板２０は、偏光子１７における第１の光学異方性層１２と反対側の面に、保護フィルム１８が設けられている。この場合、液晶配向膜１４、液晶層１５及び第２の光学異方性層１３により視野角補償フィルム１０が構成されている。偏光板２０には、保護フィルム１８の表面にハードコート層がさらに設けられていてもよい。

≪液晶表示素子及び有機ＥＬ素子≫
本開示の液晶表示素子及び有機ＥＬ素子は、上記の視野角補償フィルムを備えている。液晶表示素子の動作モードは特に限定せず、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型（ＶＡ−ＭＶＡ型、ＶＡ−ＰＶＡ型などを含む。）、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型、ＯＣＢ型など、種々の動作モードに適用することができる。

図５に、本開示の液晶表示素子４０の一態様を示す。図５の液晶表示素子４０は、液晶セル２１と、フロント側の偏光板２０と、リア側の偏光板３０と、を備えている。液晶セル２１は、図示は省略するが、一対の基板と、一対の基板における少なくとも一方の基板面に形成された液晶配向膜とを備えている。一対の基板間には液晶が充填されており、一対の基板間における電圧の印加／解除を切り替えることにより、液晶の配向が制御される。フロント側の偏光板２０は、第１の光学異方性層１２及び第２の光学異方性層１３からなる視野角補償フィルム１０が偏光子１７上に形成されており、第２の光学異方性層１３が液晶セル２１に隣接するように配置されている。なお、偏光板２０については、図１〜３の説明を適用することができる。図５の液晶表示素子４０には、フロント側の偏光板２０の表面にハードコート層２２が設けられている。

リア側の偏光板３０は、光学異方性層３１、液晶配向膜３２、偏光子３３及び保護フィルム３４がこの順で積層された積層体であり、光学異方性層３１が液晶セル２１に隣接した状態で配置されている。リア側の偏光子３３は、吸収軸が、フロント側の偏光子１７の吸収軸に直交するように配置されている。リア側の光学異方性層３１は、偏光子３３の表面に液晶配向膜を設け、液晶配向膜の表面に液晶化合物を塗布して硬化することによって形成されていてもよく、あるいは延伸フィルムにより形成されていてもよい。

本開示の液晶表示素子及び有機ＥＬ素子は、種々の装置に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、ＰＤＡ、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイ、液晶プロジェクターなどの各種表示装置に用いることができる。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。

以下の例において、重合体の重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ及びエポキシ当量、並びに重合体溶液の溶液粘度は、以下の方法により測定した。以下の例で用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。

［重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎ］
Ｍｗ及びＭｎは、以下の条件におけるＧＰＣにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム：東ソー（株）製、ＴＳＫｇｅｌＧＲＣＸＬＩＩ
溶剤：テトラヒドロフラン
温度：４０℃
圧力：６８ｋｇｆ／ｃｍ^２
［エポキシ当量］
エポキシ当量は、JIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した。
［重合体溶液の溶液粘度］
重合体溶液の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃で測定した。
なお、以下では、「式（Ｘ）で表される化合物」を単に「化合物（Ｘ）」と略すことがある。

＜エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例１］
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン７０．５ｇ、テトラエトキシシラン１４．９ｇ、エタノール８５．４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｇを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水７０．５ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で攪拌しつつ、８０℃で２時間反応させた。反応溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２ 回繰り返すことにより、トリエチルアミン及び水を留去し、ポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）を含む重合体溶液を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）のＭｗは１１，０００、エポキシ当量は１８２ｇ／モルであった。

＜桂皮酸誘導体の合成＞
桂皮酸誘導体の合成反応は不活性雰囲気中で行った。
［合成例２］
冷却管を備えた５００ｍＬの三口フラスコに、１−ブロモ−４−シクロヘキシルベンゼン１９．２ｇ、酢酸パラジウム０．１８ｇ、トリス（２−トリル）ホスフィン０．９８ｇ、トリエチルアミン３２．４ｇ、ジメチルアセトアミド１３５ｍＬを混合した。この混合溶液に、シリンジでアクリル酸を７ｇ加えて撹拌した。さらに、混合溶液を１２０℃で３時間、加熱しながら撹拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）で反応の終了を確認した後、反応溶液を室温まで冷却した。沈殿物をろ別した後、ろ液を１Ｎ塩酸水溶液３００ｍＬに注ぎ、沈殿物を回収した。回収した沈殿物を、酢酸エチルとヘキサンの１：１（重量比）溶液で再結晶することにより、下記式（Ｍ−１）で表される化合物（桂皮酸誘導体（Ｍ−１））を１０．２ｇ得た。

＜光配向性ポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例３］
１００ｍＬの三口フラスコに、合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）１１．３ｇ、酢酸ｎ−ブチル１３．３ｇ、合成例２で得た桂皮酸誘導体（Ｍ−１）１．７ｇ、アクリロイル基含有カルボン酸（アロニックスＭ−５３００、東亜合成（株）製）０．５４ｇ及びテトラブチルアンモニウムブロミド０．９ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、この溶液を３回水洗した後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、固形分濃度１０重量％となるように溶媒を留去した。これにより、光配向性ポリオルガノシロキサンである重合体（Ｓ−１）を含有する固形分濃度１０重量％の酢酸ｎ−ブチル溶液を得た。重合体（Ｓ−１）の重量平均分子量Ｍｗは１８，０００であった。

［合成例４］
１００ｍＬの三口フラスコに、合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）１１．３ｇ、酢酸ｎ−ブチル１３．３ｇ、合成例２で得た桂皮酸誘導体（Ｍ−１）１．７ｇ及び４級アミン塩（サンアプロ社、ＵＣＡＴ１８Ｘ）０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、この溶液を３回水洗した後、酢酸ｎ−ブチルをさらに２０ｇ追加し、固形分濃度１０重量％となるように溶媒を留去した。これにより、光配向性ポリオルガノシロキサンである重合体（Ｓ−２）を含有する固形分濃度１０重量％の酢酸ｎ−ブチル溶液を得た。重合体（Ｓ−２）の重量平均分子量Ｍｗは１７，０００であった。

［合成例５］
特開平９−２７８８９０号公報に記載の処方に従い、桂皮酸構造を有するポリシロキサンを得た。具体的には、４−アリルオキシケイ皮酸の相当するエステル０.０５ｍｌ、メチルポリシロキサン０.１ｍｌ、および触媒量の塩化白金のベンゼン１００ｍｌ溶液の混合物を１０時間煮沸し、冷却し、そしてメタノールで希釈した。反応生成物を濾過し、メタノールを用いて洗浄した。その後、ポリシロキサンシンナメートを、一定量が得られるまで、真空下、５０〜６０℃の温度で乾燥させ、続いて振動ミル内で粉砕することで重合体（Ｓ−３）を得た。なお、^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、得られた化合物中にはアリルオキシ分子の二重結合は存在しないことが判明した。

［合成例９］
特開２０１２−１５５３０８号公報の段落０２２８に記載の処方に従い、桂皮酸構造を有するポリシロキサンを得た。具体的には、モノマーとして２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０ｇ、メチルイソブチルケトン５００ｇ及びトリエチルアミン１０．０ｇを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機層を取り出し、０．２重量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、エポキシ基含有ポリシロキサンを粘稠な透明液体として得た。次いで、１００ｍＬの三口フラスコに、得られたエポキシ基含有ポリシロキサン４．６ｇ、メチルイソブチルケトン３１ｇ、下記式（Ｋ−１）で表される桂皮酸誘導体３ｇ及び４級アミン塩（サンアプロ社製、ＵＣＡＴ １８Ｘ）０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、メタノールを加えて反応生成物を沈殿させた後、ろ取した。沈殿物を酢酸エチルに溶解して、この溶液を３回水洗した後、溶媒を留去することにより、光配向性ポリオルガノシロキサンである重合体（Ｓ−３）を白色粉末として得た。重合体（Ｓ−３）の重量平均分子量Ｍｗは３，９００であった。

＜ポリ（メタ）アクリレートの合成＞
［合成例６］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）１重量部、及び溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテル１８０重量部を仕込んだ。続いて、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート７０重量部及び３−メチル−３−オキセタニルメチルメタクリレート３０重量部を加え、窒素置換した後、緩やかに攪拌を始めた。溶液温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し、エポキシ基含有ポリメタクリレートである重合体（Ｐａｃ−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３２．８重量％であった。得られた重合体のＭｎは１６，０００であった。

［合成例７］
合成例６で得られたエポキシ基含有ポリメタクリレート（Ｐａｃ−１）１００重量部、アクリロイル基含有カルボン酸（アロニックスＭ−５３００、東亜合成（株）製）２０重量部、触媒としてテトラブチルアンモニウムブロマイド１０重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０重量部を仕込み、窒素雰囲気下９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００重量部で希釈し、３回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、アクリロイル基含有ポリメタクリレートである重合体（Ｐａｃ−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体（Ｐａｃ−２）のＭｎは２０，０００であった。なお、得られた重合体溶液のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート含有量は２０重量％であった。

［合成例１０］
４，４’−ビフェニルジオールと１，６−ジブロモヘキサンをアルカリ条件下で加熱することにより、４’−（６−ブロモヘキシルオキシ）ビフェニル−４−オールを合成した。この生成物にメタクリル酸リチウムを反応させ、２−（４’−ヒドロキシビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシルオキシメタクリレートを得た。次いで、塩基性条件下において４−メトキシシンナモイルクロリドを加え、下記式（Ｍ−１）で表される化合物を合成した。この化合物（Ｍ−１）をテトラヒドロフラン中に溶解し、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを添加して重合することにより、重合体（Ｐａｃ−３）を得た。この重合体（Ｐａｃ−３）は、１１６〜３１５℃の温度範囲で液晶性を示した。

＜その他の重合体の合成＞
［合成例８］
特許第３９０７７３５号公報の段落［００７３］に記載のポリマーＮｏ．４（変性ポリビニルアルコール）を段落［０１０１］に記載に従って重合することで、重合体（Ｐｖａ−１）を得た。

［実施例１］
１．視野角補償フィルム用重合体組成物の調製
重合体成分として、合成例３で得た重合体（Ｓ−１）を含有する酢酸ｎ−ブチル溶液を、重合体（Ｓ−１）に換算して３０重量部に相当する量、及び合成例７で得た重合体（Ｐａｃ−２）を含有する溶液を、重合体（Ｐａｃ−２）に換算して７０重量部に相当する量、触媒としてトリス（アセチルアセトネート）アルミニウム（アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル社製）３重量部、並びに硬化促進剤としてトリ（ｐ−トリル）シラノール１重量部を混合し、これに溶媒として、酢酸ｎ−ブチル（ＢＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）及びアセト酢酸エチルを加え、固形分濃度が５重量％、各溶媒の重量比がＢＡ：ＭＥＫ：ＰＧＭＥＡ：ＥＡＡ＝４０：４０：１５：５となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、重合体組成物（Ａ−１）を調製した。

２．視野角補償フィルムの作製
（１）基材の表面処理
国際公開第２０１５／００８７７３号に記載の方法に従い、セルロースフィルム（富士フィルム（株）製、ゼロレターデーションタック、ＺＲＦ２５、厚さ：２５μｍ）の片面にアルカリ鹸化処理を行った。具体的には、以下のようにして行った。
フィルム（ＺＲＦ２５）を、温度６０℃の誘電式加熱ロール上を通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、アルカリ溶液（ＡＬ１）を、ロッドコーターを用いて塗布量１７ｍＬ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーターの下に１０秒間滞留させた。アルカリ溶液（ＡＬ１）の組成は、水酸化カリウム８．６重量部、水２４．１重量部、イソプロパノール５６．３重量部、界面活性剤（Ｃ_１６Ｈ_３３Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_１０Ｈ） １．０重量部、及びプロピレングリコール１０．０重量部とした。
続いて、同じくロッドコーターを用いて蒸留水を２．８ｍＬ／ｍ^２塗布し、次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返し、７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥し、片面鹸化処理フィルムを作製した。
（２）第１の光学異方性層の作製
上記（１）で得た鹸化処理フィルムの鹸化処理面に、上記で調製した重合体組成物（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線１０ｍＪ／ｃｍ^２を基材面の法線から垂直に照射し、液晶配向膜を作製した。
次いで、重合性液晶（ＲＭＳ０３−０１３Ｃ、メルク製）を孔径０．２μｍのフィルターでろ過し、バーコーターを用いて液晶配向膜の表面に塗布した。続いて、５０℃に設定したオーブンで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線１，０００ｍＪ／ｃｍ^２を重合性液晶に照射し、硬化させた。得られた膜の膜厚は１．０μｍであった。
（３）第２の光学異方性層の作製
国際公開第２０１５／００８７７３号に記載の方法に従い、第２の光学異方性層を作製した。具体的には、まず、以下の組成物をメチルエチルケトン：シクロヘキサノン＝８６：１４（重量比）の溶液に溶解し、３０重量％に調製した。
＜第２の光学異方性層用組成物＞
・液晶化合物
液晶化合物（Ｂ１）と液晶化合物（Ｂ２）との混合物 １００重量部
（Ｂ１：Ｂ２＝８０：２０（重量比））
・重合開始剤 化合物（Ｊ１） ３重量部
化合物（Ｊ２） １重量部
・レベリング剤 化合物（Ｒ１） ０．４重量部
化合物（Ｒ２） ０．０５重量部
・モノマー 化合物（Ａ１） ５重量部
・垂直配向成分 化合物（Ｓ１） １重量部
化合物（Ｓ２） ０．５重量部

次いで、第１の光学異方性層の上に、上記で調製した組成物をワイヤーバーコーターで塗布し、１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、液晶化合物を配向させた。次に、４０℃に冷却した後に、窒素パージ下、酸素濃度約０．１％で、１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度１９０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。その後、室温まで放冷して第２の光学異方性層（膜厚０．９μｍ）を作製し、視野角補償フィルムを得た。

３．偏光フィルムの作製
上記で得られた第１の光学異方性層及び第２の光学異方性層を備える積層体である視野角補償フィルムを用い、該視野角補償フィルムの基材の外側の面に、ポリビニルアルコール糊を用いて、ポリビニルアルコール偏光膜（厚み１７μｍ）を貼り合わせた。このとき、偏光膜の長手方向に対して、液晶配向膜の配向方向が直交するようにフィルムを貼り合わせた。
さらに、偏光膜における基材の反対側の面に、セルロースアシレートフィルム（保護フィルム、膜厚２５μｍ）を、ポリビニルアルコール（（株）クラレ製、ポリビニルアルコール−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて貼り合わせた。なお、セルロースアシレートフィルムは、国際公開第２０１５／００８７７３号に記載の方法に従って作製したものを用いた。

４．液晶配向性の評価
上記で作製した偏光フィルムにつき、クロスニコル下での目視及び偏光顕微鏡により配向性を観察した。目視にて配向性が良好と観察され、かつ偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察されなかった場合を「良好（Ａ）」、目視では配向性良好と観察されたが、偏光顕微鏡にて異常ドメインが観察された場合を「可（Ｂ）」、目視にて配向性の異常が観察された場合を「不良（Ｃ）」と評価した。その結果、この実施例では、液晶配向性「可（Ｂ）」の評価であった。

５．コントラストの評価
上記で得られた偏光フィルムにつき、観察側と逆方向から透過光を照射したときの輝度を測定し、偏光フィルムをクロスニコル下に配置したときの輝度（黒表示）と、クロスニコル下に配置しなかったときの輝度（白表示）との比で表されるコントラスト比（＝白表示輝度／黒表示輝度）により、視野角補償フィルムの光学性能を評価した。なお、光学性能が良好であるほど、コントラスト比は大きな値となる。評価は、コントラスト比が１，０００以上であった場合を「良好（Ａ）」、５００以上１，０００未満で合った場合を「可（Ｂ）」、５００未満であった場合を「不良（Ｃ）」とした。なお、輝度は、コニカ・ミノルタ社製の分光放射輝度計「ＣＳ−２０００Ａ」を用いて測定した。その結果、この実施例では、「良好（Ａ）」の評価であった。

［実施例２〜４］
下記表１に示す種類及び配合量の各成分を用いた以外は、重合体組成物（Ａ−１）と同様にして、各重合体組成物（Ａ−２）〜（Ａ−４）を調製した。また、得られた重合体組成物を用いて、実施例１と同様にして偏光フィルムを作製し、各種評価を行った。それらの結果を下記表２に示した。

［比較例１］
下記表１に示す種類及び配合量の各成分を用いた以外は、重合体組成物（Ａ−１）と同様にして重合体組成物（Ａ−５）を調製した。また、重合体組成物（Ａ−１）に代えて重合体組成物（Ａ−５）を用いた点、及び、光配向処理に代えて、フィルムの長手方向と直交する方向にラビング処理を行った点、以外は、実施例１と同様にして偏光フィルムを作製し、各種評価を行った。その結果を下記表２に示した。

表１中の配合量の数値は、重合体組成物の調製に使用した重合体成分の合計１００重量部に対する各化合物の配合割合（重量部）を示す。表１中、化合物の略号は以下の通りである。
Ｂ−１：トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム（アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル製）
Ｋ−１：トリ（ｐ−トリル）シラノール
ＢＡ：酢酸ｎ−ブチル
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＥＡＡ：アセト酢酸エチル
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
ＣＨＮ：シクロヘキサノン
ＣＰＮ：シクロペンタノン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＷＴ：蒸留水
ＭＥＯＨ：メタノール

表２から明らかなように、実施例１〜４では、液晶配向性及びコントラストの評価が、いずれも「Ａ」又は「Ｂ」の評価であった。これに対し、比較例１では液晶配向性及びコントラストの評価がそれぞれ「Ｃ」であり、実施例のものよりも劣っていた。

［実施例５］
１．視野角補償フィルムの作製
実施例１において、重合体組成物（Ａ−２）を用いて液晶配向膜を作製した点、及び第２の光学異方性層が中間層を備える構成とした点以外は、実施例１と同様にして視野角補償フィルムを作製した。具体的には、まず、アルカリ鹸化処理したセルロースフィルムの一面に、重合体組成物（Ａ−２）を用いて、実施例１の２．（２）と同様の方法により、液晶配向膜及び液晶層からなる第１の光学異方性層（膜厚１．１μｍ）を形成した。次いで、第１の光学異方性層の上に中間層を形成した。中間層は、以下のようにして形成した。
まず、２，３−ジヒドロキシメタクリレート３３重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート／ペンタエリスリトールテトラアクリレートの５０／５０（重量比）の混合物６７重量部、光重合開始剤（イルガキュア１２７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）４重量部、及び溶剤（酢酸メチル／シクロヘキサノン＝５０／５０（重量部））を混合し、固形分濃度が３０重量％となるように調整して中間層形成用組成物を調製した。得られた中間層形成用組成物を、第１の光学異方性層の表面にワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃、３０秒間乾燥した後、１２０Ｗ／ｃｍ^２高圧水銀灯を用いて、３０℃、３０秒間ＵＶ照射して架橋し、膜厚２．０μｍの中間層を得た。
次いで、中間層の上に、実施例１の２．（３）と同様にして光学異方性層（膜厚０．９μｍ）を形成し、これにより中間層を有する第２の光学異方性層を作製した。こうして得られた第１の光学異方性層及び第２の光学異方性層を備える積層体につき、実施例１と同様にして偏光膜及び保護フィルムを貼り合わせ、偏光フィルムとした。得られた視野角補償フィルムは逆波長分散性を示した。

２．液晶配向性及びコントラストの評価
上記１．で得られた偏光フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例５では、液晶配向性「可（Ｂ）」、コントラスト「可（Ｂ）」の評価であった。

［実施例６］
１．視野角補償フィルム及び偏光フィルムの作製
実施例１において、重合体組成物（Ａ−３）を用いて液晶配向膜を作製した点、及び第２の光学異方性層用組成物を下記に示すものに変更した点以外は、実施例１と同様にして視野角補償フィルム及び偏光フィルムを作製した。なお、第２の光学異方性層は正の複屈折性を示した。
＜第２の光学異方性層用組成物（実施例６）＞
・液晶化合物
液晶化合物（Ｂ３）と液晶化合物（Ｂ４）との混合物 １００重量部
（Ｂ３：Ｂ４＝９０：１０（重量比））
・光重合開始剤 ３重量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １重量部
・フッ素含有化合物（Ｒ３） ０．５重量部
・メチルエチルケトン ４００重量部

２．液晶配向性及びコントラストの評価
上記１．で得られた偏光フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例６では、液晶配向性「良好（Ａ）」、コントラスト「良好（Ａ）」の評価であった。

［実施例７］
１．視野角補償フィルム及び偏光フィルムの作製
実施例１において、重合体組成物（Ａ−４）を用いて液晶配向膜を作製した点、及び第２の光学異方性層用組成物を下記に示すものに変更した点、及び紫外線の照射条件を照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２に変更した点以外は、実施例１と同様にして視野角補償フィルム及び偏光フィルムを作製した。なお、第２の光学異方性層の透湿度は、６０ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。なお、透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に基づき、４０℃、相対湿度９０％で測定した値である。
＜第２の光学異方性層用組成物（実施例７）＞
・トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート ９７重量部
（Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）
・光重合開始剤 ３重量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・フッ素含有化合物（Ｒ４） ０．０４重量部
（Ｍｗ＝１４，０００）
・メチルエチルケトン ８１．８重量部

２．液晶配向性及びコントラストの評価
上記１．で得られた偏光フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例７では、液晶配向性「可（Ｂ）」、コントラスト「可（Ｂ）」の評価であった。

［実施例８］
１．視野角補償フィルム及び偏光フィルムの作製
実施例１において、第２の光学異方性層の作製方法を変更した点以外は、実施例１と同様にして視野角補償フィルム及び偏光フィルムを作製した。第２の光学異方性層は、次のようにして作製した。まず、下記に示す組成Ａで各成分をミキシングタンクに投入して撹拌し、各成分を溶解して、コア層セルロースアシレートドープを調製した。
＜組成Ａ＞
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００重量部
・エステルオリゴマー １３重量部
（モノマー；１，４−シクロヘキシルジカルボン酸及びエチレングリコール（反応モル比１：１）、アセチル基で末端封止されたもの、Ｍｎ＝１，０００）
・メチレンクロライド ４３０重量部
・メタノール ６４重量部

次いで、シリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製、平均粒子径２０ｎｍ）を２重量部、メチレンクロライドを７６重量部、メタノールを１１重量部、コア層セルロースアシレートドープを１重量部、を混合し、マット剤溶液を調製した。続いて、コア層セルロースアシレートドープ９０重量部に、マット剤溶液を１０重量部加え、外層セルロースアセテート溶液を調製した。
得られたコア層セルロースアシレートドープと、その両側に外層セルロースアセテート溶液とを、３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率が約２０重量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が３〜１５重量％の状態で、横方向に１．２倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した。得られたフィルムの弾性率は、４．７ＧＰａであった。なお、弾性率は、引っ張り試験機（ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰ、東洋ボールドウィン（株）製）を用い、２３℃、相対湿度６０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、ＭＤ及びＴＤの引っ張り弾性率の平均値として測定した値である。また、得られたフィルムを、ポリビニルアルコール（（株）クラレ製、ポリビニルアルコール−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、第１の光学異方性層の表面に貼り合わせ、第２の光学異方性層を作製した。

２．液晶配向性及びコントラストの評価
上記１．で得られた偏光フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例８では、液晶配向性「可（Ｂ）」、コントラスト「良好（Ａ）」の評価であった。
実施例５〜実施例８の結果を下記表３にまとめて示した。

［実施例９］
１．視野角補償フィルムの作製
図６に示す、第２の光学異方性層１３が偏光子１３Ｂである視野角補償フィルム１０を作製した。まず、第２の光学異方性層として、特開２０１５−４３０７３号公報の段階０１６３に記載の片面保護フィルム付き偏光膜を作製した。その保護フィルムが形成されていない面に、上記で調製した重合体組成物（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線１０ｍＪ／ｃｍ^２を基材面の法線から垂直に照射し、液晶配向膜を作製した。
次いで、重合性液晶（ＲＭＳ０３−０１３Ｃ、メルク製）を孔径０．２μｍのフィルターでろ過し、バーコーターを用いて液晶配向膜の表面に塗布した。続いて、５０℃に設定したオーブンで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線１，０００ｍＪ／ｃｍ^２を重合性液晶に照射し、硬化させた。得られた膜の膜厚は１．０μｍであった。
２．液晶配向性及びコントラストの評価
上記１．で得られた視野角補償フィルムを用い、実施例１と同様にして偏光フィルムを作製するとともに、得られた偏光フィルムについて液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例９では、液晶配向性「可（Ｂ）」、コントラスト「可（Ｂ）」の評価であった。

［実施例１０］
１．視野角補償フィルムの作製
図７に示す、第２の光学異方性層１３が第２の液晶配向膜１３Ｂと第２の液晶層１３Ｃとから構成された視野角補償フィルム１０を作製した。まず、実施例１で重合体（Ｓ−１）の代わりに、上記合成例９で得られた重合体（Ｓ−３）を用いた以外は実施例１と同様の操作を行い、重合体組成物（Ａ−６）を調製した。次いで、実施例１と同様にして、重合体組成物（Ａ−１）を用いて片面鹸化処理フィルム上に第１の光学異方性層１２を形成した。次いで、第１の光学異方性層１２の上に重合体組成物（Ａ−６）を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線１０ｍＪ／ｃｍ^２を基材面の法線から垂直に照射し、第２の液晶配向膜１３Ｃを作製した。得られた第２の液晶配向膜１３Ｃの上に、特開２０１５−４３０７３号公報の段落０１８６〜０１９１に記載の組成物を用いて第２の液晶層１３Ｄを形成した。
具体的には、まず、以下の組成物をメチルエチルケトン：シクロヘキサノン＝８６：１４（重量比）の溶液に溶解し、３０重量％に調製した。
＜第２の光学異方性層用組成物（実施例１０）＞
・液晶化合物
液晶化合物（Ｂ５）と液晶化合物（Ｂ６）との混合物 １００重量部
（Ｂ５：Ｂ６＝８０：２０（重量比））
・重合開始剤 化合物（Ｊ１） ３重量部
化合物（Ｊ２） １重量部
・レベリング剤 化合物（Ｒ１） ０．４重量部
化合物（Ｒ２） ０．０５重量部
・モノマー 化合物（Ａ１） ５重量部
・垂直配向成分 化合物（Ｓ１） １重量部
化合物（Ｓ２） ０．５重量部

次いで、第２の液晶配向膜１３Ｂの上に、上記で調製した組成物をワイヤーバーコーターで塗布し、１００℃の恒温槽中で２分間加熱した。次に、４０℃に冷却した後に、窒素パージ下、酸素濃度約０．１％で、１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度１９０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、その後、室温まで放冷した。

２．液晶配向性及びコントラストの評価
上記１．で得られた視野角補償フィルムを用い、実施例１と同様にして偏光フィルムを作製するとともに、得られた偏光フィルムについて液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例１０では、液晶配向性「可（Ｂ）」、コントラスト「良好（Ａ）」の評価であった。

［実施例１１］
実施例１において片面鹸化処理フィルムの鹸化処理面に、第２の光学異方性層１３を作製し、続いて、第２の光学異方性層１３の上に、第１の光学異方性層１２として液晶配向膜１４及び液晶層１５をこの順で作製した以外は、実施例１と同様にして視野角補償フィルム１０を作製した。図８に、実施例１１の視野角補償フィルム１０の概略構成を示す。また、得られた視野角補償フィルムを用い、実施例１と同様にして偏光フィルムを作製するとともに、得られた偏光フィルムについて液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例１１では、液晶配向性「可（Ｂ）」、コントラスト「良好（Ａ）」の評価であった。

［実施例１２］
実施例５で重合体組成物（Ａ−２）に替えて重合体（Ａ−３）を用いた以外は、実施例５と同様にして視野角補償フィルムを作製した。また、得られた視野角補償フィルムを用い、実施例１と同様にして偏光フィルムを作製するとともに、得られた偏光フィルムについて液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、実施例１２では、液晶配向性「良好（Ａ）」、コントラスト「良好（Ａ）」の評価であった。

［比較例２］
重合体組成物（Ａ−３）の重合体（Ｓ−１）に替えて、上記合成例１０で得られた重合体（Ｐａｃ−３）を用いた以外は、重合体組成物（Ａ−３）と同様に調整し、重合体組成物（Ａ−７）を得た。また、実施例１において、重合体組成物（Ａ−１）に替えて、重合体組成物（Ａ−７）を用いた以外は実施例１と同様にして視野角補償フィルムを作製するとともに、偏光フィルムを作製し、得られた偏光フィルムについて液晶配向性及びコントラストの評価を行った。その結果、比較例２では、液晶配向性「不良（Ｃ）」、コントラスト「不良（Ｃ）」の評価であった。

以上の通り、複数の光学異方性層を備える視野角補償フィルムにおける液晶配向膜を、ポリオルガノシロキサンを用いて形成することにより、配向性及びコントラストに優れ、光学特性に優れた視野角補償フィルムを得ることができることが分かった。

１０…視野角補償フィルム、１１…基材、１２…第１の光学異方性層、１３…第２の光学異方性層、１４…液晶配向膜、１５…液晶層、１６…中間層、１７…偏光子、１８…保護フィルム、２０…偏光板、２１…液晶セル、３０…偏光板、４０…液晶表示素子

Claims (13)

1. 光学異方性層として第１の光学異方性層と、該第１の光学異方性層とは異なる第２の光学異方性層とを備える視野角補償フィルムであって、
   前記第１の光学異方性層は、液晶配向膜と液晶層とを有し、
   前記第２の光学異方性層は、前記第１の光学異方性層との接触面に配置され且つ（メタ）アクリル系重合体、臭素含有ポリマー、スチレン−アクリロニトリル−（Ｎ−フェニルマレイミド）三次元共重合体、又は変性スチレン系ポリマーを用いて形成された中間層を有し、
   前記液晶配向膜は、ポリオルガノシロキサンを含有する重合体組成物を用いて形成されている、視野角補償フィルム。
2. 前記第２の光学異方性層は、下記のＡ），Ｂ）、Ｃ）又はＤ）の物性を有する、請求項１に記載の視野角補償フィルム。
   Ａ）正の複屈折性を有する。
   Ｂ）ＪＩＳ Ｚ−０２０８に基づく４０℃、相対湿度９０％における透湿度が２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である。
   Ｃ）弾性率が４．２ＧＰａ以上である。
   Ｄ）逆波長分散性を有する。
3. 前記重合体組成物は、光配向性基と重合性基とを、同一又は異なる分子内に有する、請求項１又は２に記載の視野角補償フィルム。
4. 前記ポリオルガノシロキサンは光配向性基を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野角補償フィルム。
5. 前記ポリオルガノシロキサンはエポキシ基を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の視野角補償フィルム。
6. 前記ポリオルガノシロキサンは側鎖に重合性基を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の視野角補償フィルム。
7. 前記重合体組成物は、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体をさらに含有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の視野角補償フィルム。
8. 前記重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体は、側鎖に重合性基を有する、請求項７に記載の視野角補償フィルム。
9. 前記重合体組成物は、シラノール基を有する水素供与体の配合割合が、前記重合体組成物に含有される重合体成分の全量１００重量部に対して１重量部以下である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の視野角補償フィルム。
10. 光学異方性層として第１の光学異方性層と、該第１の光学異方性層とは異なる第２の光学異方性層とを備える視野角補償フィルムの製造方法であって、
    前記第２の光学異方性層は、前記第１の光学異方性層との接触面に配置され且つ（メタ）アクリル系重合体、臭素含有ポリマー、スチレン−アクリロニトリル−（Ｎ−フェニルマレイミド）三次元共重合体、又は変性スチレン系ポリマーを用いて形成された中間層を有し、
    ポリオルガノシロキサンを含有する重合体組成物を用いて塗膜を形成し、該塗膜に光照射することにより、前記第１の光学異方性層の液晶配向膜を形成する工程と、
    前記液晶配向膜の表面に重合性液晶を塗布して硬化させることより、前記第１の光学異方性層の液晶層を形成する工程と、
    を含む視野角補償フィルムの製造方法。
11. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の視野角補償フィルムと、偏光子と、を備える偏光板。
12. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の視野角補償フィルムを備える液晶表示素子。
13. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の視野角補償フィルムを備える有機ＥＬ素子。

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