JP6645527B2 - 透過型液晶表示装置、および電子機器 - Google Patents
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Description
まず、本発明の透過型液晶表示装置として、薄膜トランジスター(Thin Film Transistor:TFT)をスイッチング素子として備えたアクティブマトリックス方式の液晶表示装置を例に説明する。かかる液晶表示装置は、後述する投写型表示装置の光変調装置、すなわちライトバルブとして好適に用いることができる。
1(a)、基本構成
図1は、第1実施形態の液晶表示装置の概略平面図である。図2は、図1に示す液晶表示装置の断面図であって、図1中のA1−A1線断面図である。図3は、素子基板の電気的な構成を示す等価回路図である。
図1に示すように、素子基板2は、平面視で対向基板3を包含する大きさである。図2に示すように、素子基板2は、基材21と、導光層20と、複数の画素電極28と、配向膜29とを有する。基材21、導光層20、複数の画素電極28および配向膜29は、この順に積層されている。配向膜29が最も液晶層5側に位置している。
図2に示すように、対向基板3は、基材31と、絶縁層32と、共通電極33と、配向膜34と、を有する。基材31、絶縁層32、共通電極33および配向膜34は、この順に積層されている。配向膜34が最も液晶層5側に位置している。
シール部材4は、例えばエポキシ樹脂等の各種硬化性樹脂を含む接着剤等を用いて形成されている。シール部材4は、素子基板2および対向基板3のそれぞれに対して固着されている。シール部材4、素子基板2および対向基板3によって囲まれた領域内には、液晶層5が設けられている。シール部材4の図1中の下側の部分には、液晶分子を含む液晶材を注入するための注入口41が形成されている。注入口41は、各種樹脂材料を用いて形成された封止材40により封止されている。
液晶層5は、正または負の誘電異方性を有する液晶分子を含む。液晶層5は、液晶分子が配向膜29および配向膜34の双方に接するように素子基板2および対向基板3によって挟持されている。液晶層5は、印加される電圧レベルにより液晶分子の配向が変化することによって光LLを変調することで階調表示を可能とする。
次に、液晶表示装置100の電気的な構成について簡単に説明する。図3は、図1に示す液晶表示装置が有する素子基板の電気的な構成を示す等価回路図である。図3では、説明の便宜上、互いに直交するx軸およびy軸を図示している。
次に、素子基板2の詳細な構成について説明する。図4は図1に示す液晶表示装置が有する素子基板の拡大断面図であって、図2中の領域A2の拡大図である。図5は、図4に示す素子基板の平面図である。なお、図5では、配向膜29の図示を省略している。また、図4および図5では、それぞれ、説明の便宜上、互いに直交するx軸、y軸およびz軸を図示している。x軸方向は、素子基板2の厚さ方向と平行であり、光LLの光軸方向と平行である。また、図5では、遮光体265の平面的な配置を理解しやすいよう、便宜上、遮光体265を一点鎖線で示している。
複数の開口領域A12には、それぞれ、透光性を有する第2の絶縁体25が配置されている。第2の絶縁体25は、第1の絶縁体24の開口249内および遮光体265の開口部2650内に充填されている。第2の絶縁体25は、第1の絶縁体24および遮光体265に接している。第2の絶縁体25の基材21側の面2501は、遮光体265によって囲まれている。第2の絶縁体25の画素電極28側の面2502は、第1の絶縁体24によって囲まれている。
図4に示すように、第2の絶縁体25上には、複数の画素電極28が配置されている。具体的には、図5に示すように、複数の画素電極28は、平面視で行列状をなし、1つの第2の絶縁体25に対して1つの画素電極28が配置されている。また、各画素電極28は、平面視で、第2の絶縁体25に重なり、第2の絶縁体25を包含している。なお、図4に示すように、複数の画素電極28上には、配向膜29が配置されている。
次に、素子基板2における光路について説明する。図6は、図4に示す素子基板に透過する光を説明するための模式図である。
次に、液晶表示装置100が有する素子基板2の製造方法を説明する。図7は、図4に示す素子基板の製造方法のフロー図である。
まず、詳細な図示はしないが、例えばガラス板または石英板等で構成された基材21を準備する。
図8は、遮光膜形成工程を説明するための断面図である。次に、図8に示すように、基材21上に遮光膜265aを形成する。遮光膜265aは、後のステップS15を経て遮光体265となる層である。遮光膜265aの形成は、例えば、プラズマ化学気相堆積(CVD)法等の蒸着法により基材21上に遮光膜形成用組成物を堆積した後、化学機械研磨(CMP)法等により上面を平坦化する。なお、遮光膜形成用組成物としては、前述した遮光体265の構成材料を用いることができる。
図9は、絶縁体およびTFT等工程を説明するための断面図である。
図10は、第1の絶遠体形成工程を説明するための断面図である。
図11は、遮光体形成工程を説明するための断面図である。図12は、遮光体形成工程を説明するための平面図である。
図13は、第2の絶縁体形成工程を説明するための断面図である。
次に、図示はしないが、第2の絶縁体25上に画素電極28を形成する。画素電極28の形成は、例えば透明電極材料からなる層をCVD法等の蒸着法により形成した後、マスクを用いてパターニングすることにより行う。
次に、図示はしないが、配向膜29を形成する。配向膜29の形成は、例えばポリイミドからなる層をCVD法等の蒸着法により形成した後、ラビング処理を施すことにより行う。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図14は、第2実施形態の液晶表示装置が有する素子基板の拡大断面図である。図15は、図14に示す素子基板の平面図である。図16は、図14に示す素子基板に透過する光を説明するための模式図である。なお、図15では、遮光体265Aの平面的な配置を理解しやすいよう、便宜上、遮光体265Aを一点鎖線で示している。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。
図17は、第3実施形態の液晶表示装置が有する素子基板の拡大断面図である。
次に、本発明の第4実施形態について説明する。
図18は、第4実施形態の液晶表示装置が有する素子基板の拡大断面図である。
次に、本発明の電子機器の一例である投射型表示装置について説明する。図19は、液晶表示装置を備えた投射型表示装置の一例を示す模式図である。
Claims (6)
- 第1基板と、前記第1基板に対して離間して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、液晶分子を含む液晶層とを備え、
前記第1基板は、透光性の基材と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記第1基板の厚さ方向から見た平面視において格子状をなす配線領域に配置された配線と、
前記配線領域に配置されたスイッチング素子と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記平面視において前記配線領域に囲まれた開口領域に配置された画素電極と、
前記平面視において前記配線と重なり、前記基材と前記画素電極との間に配置される透光性を有する第1の絶縁体と、
前記平面視において前記画素電極と重なり、前記基材と前記画素電極との間で前記第1の絶縁体に接して配置され、屈折率が前記第1の絶縁体の屈折率よりも高い透光性を有する第2の絶縁体と、
前記第2の絶縁体の前記基材側の面の外周に沿って設けられた枠状をなし、前記第2の絶縁体に接して配置された遮光体と、を備え、
前記第2の絶縁体は、複数存在し、
前記遮光体は、複数存在し、
前記遮光体は、前記第2の絶縁体ごとに設けられることを特徴とする透過型液晶表示装置。 - 第1基板と、前記第1基板に対して離間して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、液晶分子を含む液晶層とを備え、
前記第1基板は、透光性の基材と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記第1基板の厚さ方向から見た平面視において格子状をなす配線領域に配置された配線と、
前記配線領域に配置されたスイッチング素子と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記平面視において前記配線領域に囲まれた開口領域に配置された画素電極と、
前記平面視において前記配線と重なり、前記基材と前記画素電極との間に配置された透光性を有する第1の絶縁体と、
前記平面視において前記画素電極と重なり、前記基材と前記画素電極との間で前記第1の絶縁体に接して配置され、屈折率が前記第1の絶縁体の屈折率よりも高い透光性を有する第2の絶縁体と、
前記第2の絶縁体の前記基材側の面の外周に沿って設けられ、前記第2の絶縁体に接して配置された遮光体と、を備え、
前記遮光体の前記第2の絶縁体と接する面と、前記第1の絶縁体の前記第2の絶縁体と接する面とは、面一であることを特徴とする透過型液晶表示装置。 - 第1基板と、前記第1基板に対して離間して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、液晶分子を含む液晶層とを備え、
前記第1基板は、透光性の基材と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記第1基板の厚さ方向から見た平面視において格子状をなす配線領域に配置された配線と、
前記配線領域に配置されたスイッチング素子と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記平面視において前記配線領域に囲まれた開口領域に配置された画素電極と、
前記平面視において前記配線と重なり、前記基材と前記画素電極との間に配置された透光性を有する第1の絶縁体と、
前記平面視において前記画素電極と重なり、前記基材と前記画素電極との間で前記第1の絶縁体に接して配置され、屈折率が前記第1の絶縁体の屈折率よりも高い透光性を有する第2の絶縁体と、
前記第2の絶縁体の前記基材側の面の外周に沿って設けられ、前記第2の絶縁体に接して配置された遮光体と、を備え、
前記遮光体は、シリコンを含むことを特徴とする透過型液晶表示装置。 - 第1基板と、前記第1基板に対して離間して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、液晶分子を含む液晶層とを備え、
前記第1基板は、透光性の基材と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記第1基板の厚さ方向から見た平面視において格子状をなす配線領域に配置された配線と、
前記配線領域に配置されたスイッチング素子と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記平面視において前記配線領域に囲まれた開口領域に配置された画素電極と、
前記平面視において前記配線と重なり、前記基材と前記画素電極との間に配置された透光性を有する第1の絶縁体と、
前記平面視において前記画素電極と重なり、前記基材と前記画素電極との間で前記第1の絶縁体に接して配置され、屈折率が前記第1の絶縁体の屈折率よりも高い透光性を有する第2の絶縁体と、
前記第2の絶縁体の前記基材側の面の外周に沿って設けられ、前記第2の絶縁体に接して配置された遮光体と、を備え、
前記配線と前記第2の絶縁体は、互いに離間していることを特徴とする透過型液晶表示装置。 - 第1基板と、前記第1基板に対して離間して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置され、液晶分子を含む液晶層とを備え、
前記第1基板は、透光性の基材と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記第1基板の厚さ方向から見た平面視において格子状をなす配線領域に配置された配線と、
前記配線領域に配置されたスイッチング素子と、
前記基材よりも前記液晶層側に位置し、前記平面視において前記配線領域に囲まれた開口領域に配置された画素電極と、
前記平面視において前記配線と重なり、前記基材と前記画素電極との間に配置された透光性を有する第1の絶縁体と、
前記平面視において前記画素電極と重なり、前記基材と前記画素電極との間で前記第1の絶縁体に接して配置され、屈折率が前記第1の絶縁体の屈折率よりも高い透光性を有する第2の絶縁体と、
前記第2の絶縁体の前記基材側の面の外周に沿って設けられ、前記第2の絶縁体に接して配置された遮光体と、を備え、
前記遮光体は、前記配線に対して絶縁されていることを特徴とする透過型液晶表示装置。 - 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の透過型液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
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