JP7484222B2 - 光学基板、電気光学装置、電子機器、及び光学基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1及び図2に示すように、本実施形態の液晶装置100は、対向配置された素子基板10及び対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された電気光学層としての液晶層15とを有する。素子基板10を構成する基材としての第1基材10a、及び対向基板20を構成する第2基材20aは、例えば、ガラス又は石英などである。
第2実施形態の液晶装置200は、図25に示すように、配線層50と画素電極27との間に第2レンズ体240を備えている部分が、第1実施形態の液晶装置100と異なっている。その他の構成については概ね同様である。このため第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
第3実施形態の液晶装置300は、図26に示すように、配線層50と画素電極27との間に第3レンズ体340を備えている部分が、第1実施形態の液晶装置100と異なっている。その他の構成については概ね同様である。このため第3実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
Claims (5)
- 基材と、
前記基材側から順に配置された第1透光層及び第2透光層と、
前記基材と前記第1透光層との間に配置されたレンズを含むレンズ層と、
前記基材と前記レンズ層との間に配置された第1空気層と、
前記レンズ層と前記第1透光層との間に配置された第2空気層と、を備え、
前記レンズ層は、第1貫通孔を有し、
前記第1透光層は、前記第1貫通孔と平面視で重なる第2貫通孔と、前記第2貫通孔と平面視で重ならない第3貫通孔と、を有し、
前記第2透光層は、前記第1貫通孔と、前記第2貫通孔と、前記第3貫通孔と、を塞いで配置されていることを特徴とする光学基板。 - 請求項1に記載の光学基板であって、
前記第2透光層は、前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔を通じて前記基材に接続される第1接続部と、前記第3貫通孔を通じて前記レンズ層に接続される第2接続部と、を備えることを特徴とする光学基板。 - 基材と、
透光層と、
前記基材と前記透光層との間に配置されたレンズを含む第1レンズ層と、
前記基材と前記第1レンズ層との間に配置された第1空気層と、
前記第1レンズ層と前記透光層との間に配置された第2空気層と、
画素電極と、
前記画素電極と前記透光層との間に配置されたトランジスターと、
前記画素電極と前記トランジスターとの間に配置された第2レンズ層と、を備えることを特徴とする光学基板。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の光学基板と、
前記光学基板と対向配置された対向基板と、
前記光学基板と前記対向基板との間に配置された電気光学層と、
を備えることを特徴とする電気光学装置。 - 透光性を有する基材を形成する工程と、
前記基材上に、第1空気層と、レンズ層と、第2空気層と、第1透光層と、第2透光層と、を順に形成する工程と、を有し、
前記レンズ層を形成する工程は、前記レンズ層を厚さ方向に貫通する第1貫通孔を形成し、
前記第1透光層を形成する工程は、前記第1透光層を厚さ方向に貫通する、前記第1貫通孔と平面視で重なる第2貫通孔を形成するとともに、前記第2貫通孔と平面視で重ならない第3貫通孔を形成し、
前記第1透光層を形成する工程と前記第2透光層を形成する工程との間に、前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔を用いてエッチングすることにより前記レンズ層と前記基材との間に前記第1空気層を形成し、前記第3貫通孔を用いてエッチングすることにより前記レンズ層と前記第1透光層との間に前記第2空気層を形成し、
前記第2透光層を形成する工程は、前記第2透光層により前記第1貫通孔と、前記第2貫通孔と、前記第3貫通孔と、を塞ぐことを特徴とする光学基板の製造方法。
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