JP2021135319A - 光学基板、電気光学装置、電子機器、及び光学基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1及び図2に示すように、本実施形態の液晶装置100は、対向配置された素子基板10及び対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された電気光学層としての液晶層15とを有する。素子基板10を構成する基材としての第1基材10a、及び対向基板20を構成する第2基材20aは、例えば、ガラス又は石英などである。
第2実施形態の液晶装置200は、図24に示すように、絶縁層56と画素電極27との間に第2レンズ体240を備えている部分が、第1実施形態の液晶装置100と異なっている。その他の構成については概ね同様である。このため第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
第3実施形態の液晶装置300は、図25に示すように、絶縁層56と画素電極27との間に第3レンズ体340を備えている部分が、第1実施形態の液晶装置100と異なっている。その他の構成については概ね同様である。このため第3実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
Claims (8)
- 透光性の基材と、
レンズを有するレンズ層と、
を備え、
前記基材と前記レンズ層とは、空気層を介して配置されており、
前記レンズは、前記空気層に面した第1レンズと、前記第1レンズに積層され、前記第1レンズの屈折率と異なる屈折率を有する第2レンズと、を備えることを特徴とする光学基板。 - 請求項1に記載の光学基板であって、
前記レンズ層における前記基材と反対側に透光性を有する透光層が配置され、
前記レンズ層は、厚さ方向に貫通する貫通孔を有し、
前記透光層は、前記貫通孔を塞いで配置されていることを特徴とする光学基板。 - 請求項2に記載の光学基板であって、
前記透光層は、前記貫通孔を通じて前記基材に接続される接続部を備えることを特徴とする光学基板。 - 請求項2又は請求項3に記載の光学基板であって、
画素電極と、
前記画素電極と前記透光層との間に配置されたトランジスターと、
前記画素電極と前記トランジスターとの間に配置された第2レンズ層と、
を備えることを特徴とする光学基板。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の光学基板と、
前記光学基板と対向配置された対向基板と、
前記光学基板と前記対向基板との間に配置された電気光学層と、
を備えることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項5に記載の電気光学装置であって、
前記対向基板は、表示領域に遮光膜が無いことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項5又は請求項6に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
- 透光性を有する基材を形成する工程と、
前記基材上に、第1レンズと、前記第1レンズの屈折率と異なる屈折率を有する第2レンズと、を積層し、前記第1レンズ及び前記第2レンズを含むレンズ層を形成する工程と、
前記レンズ層上に、透光性を有する透光層を形成する工程と、
を有し、
前記レンズ層を形成する工程は、前記レンズ層を厚さ方向に貫通する貫通孔を形成し、
前記レンズ層を形成する工程と前記透光層を形成する工程との間に、前記貫通孔を用いてエッチングすることにより、前記レンズ層と前記基材との間に空気層を形成し、
前記透光層を形成する工程は、前記透光層により前記貫通孔を塞ぐことを特徴とする光学基板の製造方法。
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