JP6634668B2 - Manufacturing method of mounting board and mounting board - Google Patents

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本発明は、発光部品が実装された実装基板の製造方法および実装基板に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a mounting board on which a light emitting component is mounted, and a mounting board.

近年、発光ダイオードなどの、点光源として機能する発光素子を備えた発光部品を利用して、照明装置などの発光装置を構成することが提案されている。例えば特許文献1においては、発光部品を駆動するための端子や配線が形成された配線基板を準備し、この配線基板の上に発光部品を実装することにより、発光装置が構成されている。   In recent years, it has been proposed to configure a light emitting device such as a lighting device using a light emitting component having a light emitting element functioning as a point light source, such as a light emitting diode. For example, in Patent Document 1, a light emitting device is configured by preparing a wiring board on which terminals and wirings for driving a light emitting component are formed, and mounting the light emitting component on the wiring board.

ところで、発光ダイオードなどの発光素子から放射される光の指向性は、一般に、従来の蛍光灯から放射される光の指向性に比べて高い。このため、例えば発光ダイオードを照明装置において利用する場合、発光ダイオードの形状や配置が利用者によって視認されることを抑制し、かつ発光ダイオードからの直進光を低減するため、一般に、光拡散剤として機能する照明カバーが発光ダイオードを覆うように設けられる。また、発光部品が実装された配線基板の表面には、光の利用効率を高めるため、高い反射率で光を反射することができる反射層が形成されている。   Incidentally, the directivity of light emitted from a light emitting element such as a light emitting diode is generally higher than the directivity of light emitted from a conventional fluorescent lamp. Therefore, for example, when a light emitting diode is used in a lighting device, in order to suppress the shape and arrangement of the light emitting diode from being visually recognized by a user, and to reduce straight traveling light from the light emitting diode, the light emitting diode is generally used as a light diffusing agent. A functional lighting cover is provided to cover the light emitting diode. Further, on the surface of the wiring board on which the light emitting components are mounted, a reflection layer capable of reflecting light at a high reflectance is formed in order to increase the light use efficiency.

例えば特許文献1においては、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化亜鉛などの、高い反射率を実現することができる白色顔料を用いて、配線基板に反射層を形成することが提案されている。このような反射層を備えた配線基板は、例えば、はじめに、配線基板を構成するための基板上に白色顔料を含むペーストを塗布する塗布工程を実施し、次に、ペーストを焼き固める焼成工程を実施することによって、形成される。   For example, Patent Literature 1 proposes forming a reflective layer on a wiring board using a white pigment that can realize high reflectance, such as titanium oxide, calcium oxide, and zinc oxide. The wiring board provided with such a reflective layer, for example, first performs a coating step of applying a paste containing a white pigment on a substrate for forming a wiring board, and then a firing step of baking and solidifying the paste It is formed by performing.

特開2006−147999号公報JP 2006-147999 A

近年、配線基板として、ガラスエポキシ基板などのリジッド基板に代えて、可撓性を有する樹脂基板を備えたもの、いわゆるフレキシブル基板が用いられる傾向がある。フレキシブル基板は、軽量である点、円筒形や山形などの三次元的な形状に対応できる点など、様々な利点を有している。一般的なフレキシブル基板は、ポリエチレンテレフタラートなどの可撓性を有する樹脂材料から構成された樹脂基板と、樹脂基板の表面に形成された、金属製の実装用電極部と、を有している。   In recent years, as a wiring substrate, a substrate provided with a flexible resin substrate instead of a rigid substrate such as a glass epoxy substrate, that is, a so-called flexible substrate tends to be used. The flexible substrate has various advantages such as being lightweight and being able to cope with a three-dimensional shape such as a cylindrical shape or a mountain shape. A general flexible substrate has a resin substrate made of a resin material having flexibility such as polyethylene terephthalate, and a metal mounting electrode portion formed on the surface of the resin substrate. .

フレキシブル基板においては、可撓性を確保するため、上述の反射層の厚みや、添加される白色顔料の量が制限されることになる。この場合、反射層における光の反射率を100%に近づけることは困難であり、このため、フレキシブル基板に入射した光は、ある程度の比率で、反射層を透過してフレキシブル基板の樹脂基板に到達することになる。このため、照明装置における光の利用効率を高めるためには、反射層だけでなく樹脂基板にも、光を適切に反射する特性がある程度求められる。   In a flexible substrate, in order to ensure flexibility, the thickness of the above-mentioned reflective layer and the amount of a white pigment to be added are limited. In this case, it is difficult to make the reflectivity of the light in the reflective layer close to 100%, so that the light incident on the flexible substrate passes through the reflective layer at a certain ratio and reaches the resin substrate of the flexible substrate. Will do. For this reason, in order to increase the light use efficiency in the lighting device, not only the reflective layer but also the resin substrate needs to have a characteristic of appropriately reflecting light to some extent.

ところでフレキシブル基板の厚みは、可撓性を確保するために従来のリジッド基板の厚みよりも小さくなっている。このため、リフロー方式などを用いて発光部品を実装するためにフレキシブル基板を加熱すると、樹脂基板に含まれるオリゴマーが樹脂基板の表面に析出することがある。この場合、フレキシブル基板に入射した光が、樹脂基板の表面に析出したオリゴマーに到達すると、オリゴマーによって光が乱反射され、このため光の利用効率が低下してしまうことが考えられる。このようなオリゴマーの析出は、加熱温度が高いほど生じやすいと考えられる。   Incidentally, the thickness of the flexible substrate is smaller than the thickness of the conventional rigid substrate in order to ensure flexibility. For this reason, when the flexible substrate is heated to mount the light emitting component using a reflow method or the like, oligomers contained in the resin substrate may be deposited on the surface of the resin substrate. In this case, when the light incident on the flexible substrate reaches the oligomer precipitated on the surface of the resin substrate, the light is irregularly reflected by the oligomer, and thus the light use efficiency may be reduced. It is considered that such oligomer precipitation is more likely to occur as the heating temperature is higher.

また、発光部品を実装するためにフレキシブル基板を高温に加熱することは、白色顔料などを含む反射層に、黄変などの変色を生じさせ、これによって反射層の白色度が低下するということをも生じさせ得る。反射層の白色度の低下は、反射層の反射率を低下させること、ひいては照明装置における光の利用効率を低下させることを導く。また、反射層によって反射された光が不適切な色味を帯びてしまうということも考えられる。   In addition, heating the flexible substrate to a high temperature to mount the light-emitting components causes discoloration such as yellowing of the reflective layer containing a white pigment or the like, thereby reducing the whiteness of the reflective layer. Can also occur. A decrease in the whiteness of the reflective layer leads to a decrease in the reflectivity of the reflective layer and, consequently, a reduction in the light use efficiency of the lighting device. It is also conceivable that the light reflected by the reflective layer has an inappropriate color.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、発光部品を実装する際に配線基板の反射率が低下することを抑制することができる、実装基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a point, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a mounting board, which can suppress a decrease in reflectance of a wiring board when mounting a light emitting component. With the goal.

本発明は、発光部品が実装された実装基板の製造方法であって、可撓性を有する樹脂基板と、前記樹脂基板上に設けられた実装用電極部と、を備えた配線基板を準備する工程と、前記配線基板の前記実装用電極部上に発光部品を実装する実装工程と、を備え、前記配線基板には、配線基板に入射した光を反射するための白色顔料または気泡が包含されており、前記実装工程は、前記実装用電極部上に接合層を設ける工程と、前記接合層が設けられた前記実装用電極部上に前記発光部品を載置する工程と、前記配線基板を加熱して前記接合層を溶融させる工程と、を含み、前記接合層は、180℃以下の温度で融解する低融点半田を含む、実装基板の製造方法である。   The present invention is a method for manufacturing a mounting board on which a light emitting component is mounted, and prepares a wiring board including a resin substrate having flexibility and a mounting electrode portion provided on the resin substrate. And a mounting step of mounting a light emitting component on the mounting electrode portion of the wiring board, wherein the wiring board includes a white pigment or bubbles for reflecting light incident on the wiring board. The mounting step includes a step of providing a bonding layer on the mounting electrode section, a step of mounting the light emitting component on the mounting electrode section provided with the bonding layer, and a step of mounting the wiring board. Heating to melt the bonding layer, wherein the bonding layer includes a low melting point solder that melts at a temperature of 180 ° C. or less.

本発明による実装基板の製造方法において、前記樹脂基板は、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、または、ポリイミド樹脂を含み、前記樹脂基板の厚みは、10μm〜300μmの範囲内、より好ましくは10μm〜200μmの範囲内であってもよい。   In the method for manufacturing a mounting substrate according to the present invention, the resin substrate includes a polyester resin, an epoxy resin, or a polyimide resin, and the thickness of the resin substrate is in a range of 10 μm to 300 μm, more preferably in a range of 10 μm to 200 μm. May be inside.

本発明による実装基板の製造方法において、前記配線基板において、前記実装用電極部と前記樹脂基板との間には粘着層が介在されており、前記粘着層は、少なくとも部分的に、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部と重ならない領域にまで広がっていてもよい。   In the method for manufacturing a mounting board according to the present invention, in the wiring board, an adhesive layer is interposed between the mounting electrode portion and the resin substrate, and the adhesive layer is at least partially provided on the resin substrate. May extend to a region that does not overlap with the mounting electrode portion when viewed along the normal direction.

本発明による実装基板の製造方法において、前記配線基板は、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部および前記発光部品と重ならない領域に設けられ、前記白色顔料が分散された反射層を含んでいてもよい。   In the method for manufacturing a mounting board according to the present invention, the wiring board is provided in a region not overlapping with the mounting electrode portion and the light emitting component when viewed along a normal direction of the resin substrate, and the white pigment is provided. It may include a dispersed reflective layer.

本発明による実装基板の製造方法において、前記配線基板の前記樹脂基板には、白色顔料または気泡が分散されていてもよい。   In the method for manufacturing a mounting board according to the present invention, a white pigment or bubbles may be dispersed in the resin substrate of the wiring board.

本発明は、発光部品が実装された実装基板であって、可撓性を有する樹脂基板と、前記樹脂基板上に設けられた実装用電極部と、を備えた配線基板と、前記配線基板の前記実装用電極部上に実装された発光部品と、を備え、前記配線基板には、配線基板に入射した光を反射するための白色顔料または気泡が包含されており、前記配線基板の前記実装用電極部と前記発光部品との間には、接合層が介在されており、前記接合層は、180℃以下の温度で融解する低融点半田を含む、実装基板である。   The present invention is a mounting board on which a light emitting component is mounted, a resin board having flexibility, and a mounting electrode portion provided on the resin board, a wiring board including: A light-emitting component mounted on the mounting electrode portion, wherein the wiring board contains a white pigment or bubbles for reflecting light incident on the wiring board, and the mounting of the wiring board is performed. A bonding layer is interposed between the electrode unit for use and the light emitting component, and the bonding layer is a mounting board including a low melting point solder that melts at a temperature of 180 ° C. or less.

本発明による実装基板において、前記樹脂基板は、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、または、ポリイミド樹脂を含み、前記樹脂基板の厚みは、10μm〜300μmの範囲内、より好ましくは10μm〜200μmの範囲内であってもよい。   In the mounting board according to the present invention, the resin substrate includes a polyester resin, an epoxy resin, or a polyimide resin, and the thickness of the resin substrate is in a range of 10 μm to 300 μm, more preferably, in a range of 10 μm to 200 μm. You may.

本発明による実装基板の前記配線基板において、前記実装用電極部と前記樹脂基板との間には粘着層が介在されており、前記粘着層は、少なくとも部分的に、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部と重ならない領域にまで広がっていてもよい。   In the wiring board of the mounting board according to the present invention, an adhesive layer is interposed between the mounting electrode portion and the resin substrate, and the adhesive layer is at least partially provided in a direction normal to the resin substrate. May extend to a region that does not overlap with the mounting electrode portion when viewed along.

本発明による実装基板において、前記配線基板は、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部および前記発光部品と重ならない領域に設けられ、前記白色顔料が分散された反射層を含んでいてもよい。   In the mounting board according to the present invention, the wiring board is provided in a region not overlapping with the mounting electrode portion and the light emitting component when viewed along a normal direction of the resin substrate, and the white pigment is dispersed. A reflective layer may be included.

本発明による実装基板において、前記配線基板の前記樹脂基板には、白色顔料または気泡が分散されていてもよい。   In the mounting board according to the present invention, a white pigment or air bubbles may be dispersed in the resin substrate of the wiring board.

本発明によれば、発光部品を実装する際に配線基板の反射率が低下することを抑制することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when mounting a light emitting component, it can suppress that the reflectance of a wiring board falls.

図1は、本発明の実施の形態による実装基板を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a mounting board according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1の実装基板をII−II方向から見た断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the mounting board of FIG. 1 as viewed from the II-II direction. 図3は、発光部品が実装される配線基板を作製するための積層体を製造する方法を示す図。FIG. 3 is a diagram illustrating a method of manufacturing a laminate for manufacturing a wiring board on which a light emitting component is mounted. 図4は、図3に示す製造方法によって得られた積層体を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a laminate obtained by the manufacturing method shown in FIG. 図5は、図4に示す積層体の導電層をパターニングすることによって得られた配線基板を示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a wiring board obtained by patterning the conductive layer of the laminate shown in FIG. 図6は、反射層をさらに有する配線基板を示す断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a wiring board further including a reflective layer. 図7は、発光部品を実装して実装基板を製造する方法を示す図。FIG. 7 is a diagram illustrating a method of manufacturing a mounting board by mounting a light emitting component. 図8は、実装基板を備えた照明装置の一例を示す断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating an example of a lighting device including a mounting substrate. 図9は、実施例におけるリフロー工程の温度プロファイルを示す図。FIG. 9 is a diagram showing a temperature profile of a reflow step in the example. 図10は、実施例の例1〜例4における不点灯率の評価結果を示す図。FIG. 10 is a diagram illustrating evaluation results of a non-lighting rate in Examples 1 to 4 of the embodiment.

以下、図1乃至図8を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。また本明細書において、「基板」や「シート」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawings attached to this specification, the scale and the vertical and horizontal dimensional ratios and the like are appropriately changed and exaggerated for convenience of illustration and understanding. Further, in this specification, the terms “substrate” and “sheet” are not distinguished from each other based only on the difference in names. For example, the “substrate” is a concept including members that can be called sheets and films. Further, as used herein, the shapes and geometric conditions and the degree thereof are specified. For example, terms such as "parallel" and "orthogonal" and values of length and angle are strictly limited. Without any limitation, it should be interpreted to include a range in which similar functions can be expected.

まず図1および図2により、配線基板に発光部品61を実装することによって得られる実装基板について説明する。発光部品61を備える実装基板60は、後述するように、拡散板として構成された照明カバーや、ベースやハウジングなどの支持部材と組み合わされることによって、照明装置を構成することができる。   First, a mounting board obtained by mounting the light emitting component 61 on a wiring board will be described with reference to FIGS. As will be described later, the mounting board 60 provided with the light emitting component 61 can constitute a lighting device by being combined with a lighting cover configured as a diffusion plate and a support member such as a base and a housing.

実装基板
図1に示すように、実装基板60は、可撓性を有し、いわゆるフレキシブル基板として機能する配線基板40と、配線基板40上に実装された複数の発光部品61と、を備えている。点光源として機能することができる発光素子を備える限りにおいて、発光部品61の構成が特に限られることはない。例えば発光素子としては、発光ダイオードを用いることができ、また発光部品61としては、表面実装型パッケージに収納された発光ダイオードを備えた表面実装型の部品を用いることができる。
Mounting Board As shown in FIG. 1, the mounting board 60 includes a wiring board 40 having flexibility and functioning as a so-called flexible board, and a plurality of light emitting components 61 mounted on the wiring board 40. I have. The configuration of the light emitting component 61 is not particularly limited as long as a light emitting element that can function as a point light source is provided. For example, a light emitting diode can be used as the light emitting element, and a surface mount type component having a light emitting diode housed in a surface mount type package can be used as the light emitting component 61.

なお後述するように、実装基板60は、ロール状に巻かれた状態で供給される長尺状の積層体を加工して配線基板40を作製し、この配線基板40上に発光部品61を実装し、また発光部品61を実装する前または後に配線基板40を切断することによって得られるものである。図1において、積層体および配線基板40の長尺方向が符号D1で表されており、長尺方向D1に直交する方向が符号D2で表されている。方向D2は、配線基板40を切断する方向に相当する。「長尺方向」とは、長尺状の積層体および配線基板40が延びる方向のことである。なお以下の説明において、長尺方向D1のことを第1方向D1と称し、第1方向D1に直交する方向D2のことを第2方向D2と称することもある。   As described later, the mounting substrate 60 is manufactured by processing a long laminate that is supplied in a state of being wound in a roll shape to produce the wiring substrate 40, and the light emitting component 61 is mounted on the wiring substrate 40. In addition, it is obtained by cutting the wiring board 40 before or after mounting the light emitting component 61. In FIG. 1, the long direction of the laminate and the wiring board 40 is represented by reference numeral D1, and the direction orthogonal to the long direction D1 is represented by reference numeral D2. The direction D2 corresponds to a direction in which the wiring board 40 is cut. The “long direction” is a direction in which the long laminate and the wiring board 40 extend. In the following description, the long direction D1 may be referred to as a first direction D1, and the direction D2 orthogonal to the first direction D1 may be referred to as a second direction D2.

図1に示すように、配線基板40は、後述する配線42を介して発光部品61に電気的に接続された取り出し用電極部43を含んでいてもよい。取り出し用電極部43は、図1に示すように、配線基板40の面のうち発光部品61が実装された面と同一面に形成されていてもよく、若しくは、図示はしないが、発光部品61が実装された面とは反対側の面に形成されていてもよい。   As shown in FIG. 1, the wiring board 40 may include an extraction electrode unit 43 electrically connected to the light emitting component 61 via a wiring 42 described later. The extraction electrode portion 43 may be formed on the same surface of the surface of the wiring board 40 as the surface on which the light emitting component 61 is mounted, as shown in FIG. May be formed on the surface opposite to the surface on which the is mounted.

図1および図2に示すように、配線基板40のうち後述する樹脂基板21の法線方向に沿って見た場合に発光部品61、実装用電極部41および取り出し用電極部43と重ならない領域には、光を反射する反射層44が設けられていてもよい。このような反射層44を設けることにより、発光部品61から放射された後に後述する拡散板などによって反射されて実装基板60に戻ってきた光を、反射層44によって反射し、そして照明装置の外部へ出射させることができる。これによって、照明装置における光の利用効率を高めることができる。反射層44の具体的な構成については後述する。   As shown in FIGS. 1 and 2, a region of the wiring board 40 which does not overlap with the light emitting component 61, the mounting electrode portion 41, and the extraction electrode portion 43 when viewed along the normal direction of the resin substrate 21 described later. May be provided with a reflective layer 44 for reflecting light. By providing such a reflective layer 44, the light radiated from the light emitting component 61 and reflected by a diffuser or the like described later and returned to the mounting substrate 60 is reflected by the reflective layer 44, and the external light of the lighting device Can be emitted. Thus, the light use efficiency of the lighting device can be improved. The specific configuration of the reflection layer 44 will be described later.

配線基板
次に図2を参照して、実装基板60の構成、特に実装基板60の配線基板40の構成について詳細に説明する。配線基板40は、可撓性を有する樹脂基板21と、樹脂基板21上に設けられた実装用電極部41と、実装用電極部41に接続された配線42とを備えている。実装用電極部41は、発光部品61を実装するための部分であり、パッドやランドとも称されるものである。以下の説明において、樹脂基板21の面のうち、実装用電極部41が設けられる側の面を第1面21aと称し、第1面21aの反対側にある面を第2面21bと称する。上述の配線42は、実装用電極部41と取り出し用電極部43とを電気的に接続するよう、樹脂基板21の第1面21aに設けられている。
Wiring Board Next, the configuration of the mounting board 60, particularly the configuration of the wiring board 40 of the mounting board 60, will be described in detail with reference to FIG. The wiring board 40 includes a flexible resin substrate 21, a mounting electrode portion 41 provided on the resin substrate 21, and a wiring 42 connected to the mounting electrode portion 41. The mounting electrode portion 41 is a portion on which the light emitting component 61 is mounted, and is also called a pad or a land. In the following description, of the surfaces of the resin substrate 21, the surface on the side where the mounting electrode portion 41 is provided is referred to as a first surface 21a, and the surface opposite to the first surface 21a is referred to as a second surface 21b. The wiring 42 described above is provided on the first surface 21 a of the resin substrate 21 so as to electrically connect the mounting electrode portion 41 and the extraction electrode portion 43.

なお図2においては、配線42が樹脂基板21の第1面21a側にのみ設けられる例が示されているが、これに限られることはない。例えば、取り出し用電極部43が、上述のように発光部品61が実装された側とは反対側に設けられる場合、すなわち樹脂基板21の第2面21b側に設けられる場合、配線42が樹脂基板21の第2面21b側に設けられることもある。この場合、実装用電極部41と配線42とは、例えば、樹脂基板21に形成された貫通孔などを介して電気的に接続される。   Although FIG. 2 shows an example in which the wiring 42 is provided only on the first surface 21a side of the resin substrate 21, the invention is not limited to this. For example, when the extraction electrode unit 43 is provided on the side opposite to the side on which the light emitting component 61 is mounted as described above, that is, when the extraction electrode unit 43 is provided on the second surface 21b side of the resin substrate 21, the wiring 42 is 21 may be provided on the second surface 21b side. In this case, the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 are electrically connected, for example, via a through hole formed in the resin substrate 21.

本実施の形態において、「可撓性」とは、室温例えば25℃の環境下で配線基板40を直径30cmのロール状の形態に巻き取った場合に、配線基板40に折れ目が生じない程度の柔軟性を意味している。「折れ目」とは、配線基板40を巻き取る方向に交差する方向において配線基板40に現れる変形であって、変形を元に戻すように配線基板40を逆向きに巻き取ったとしても元には戻らない程度の変形を意味している。なお、配線基板40が全体として可撓性を有する限りにおいて、樹脂基板21並びに実装用電極部41や配線42の各々における可撓性の程度は特には限られない。   In the present embodiment, “flexibility” means that the wiring board 40 is not broken when the wiring board 40 is wound into a roll shape having a diameter of 30 cm at room temperature, for example, at 25 ° C. It means flexibility. The “fold” is a deformation that appears on the wiring board 40 in a direction that intersects the direction in which the wiring board 40 is wound. Even if the wiring board 40 is wound in the reverse direction so as to restore the deformation, Means deformation that does not return. Note that the degree of flexibility of the resin substrate 21 and each of the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 is not particularly limited as long as the wiring substrate 40 has flexibility as a whole.

(樹脂基板)
樹脂基板21は、絶縁性を有する樹脂材料によって構成された、可撓性を有する基板である。樹脂基板21を構成する材料や、樹脂基板21の厚みは、配線基板40に求められる可撓性や強度などの特性に応じて適宜定められる。例えば、樹脂基板21は、ポリエチレンテレフタラートやポリエチレンナフタラートなどのポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、または、ポリイミド樹脂を含んでいてもよい。また樹脂基板21の厚みは、例えば10μm〜300μmの範囲内、より好ましくは10μm〜200μmの範囲内に設定される。
(Resin substrate)
The resin substrate 21 is a flexible substrate made of an insulating resin material. The material constituting the resin substrate 21 and the thickness of the resin substrate 21 are appropriately determined according to characteristics such as flexibility and strength required for the wiring substrate 40. For example, the resin substrate 21 may include a polyester resin such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, an epoxy resin, or a polyimide resin. The thickness of the resin substrate 21 is set, for example, in the range of 10 μm to 300 μm, and more preferably, in the range of 10 μm to 200 μm.

(実装用電極部、配線および取り出し用電極部)
実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43を構成する材料としては、導電性を有する材料が用いられ、例えば銅や銀などの金属材料が用いられる。なお、配線基板40の反射特性を高めることを考慮すると、銀が用いられることが好ましい。
(Mounting electrode part, wiring and extraction electrode part)
As a material forming the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43, a conductive material is used, and for example, a metal material such as copper or silver is used. Note that silver is preferably used in consideration of enhancing the reflection characteristics of the wiring substrate 40.

実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43を構成する材料は、いずれも同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43は、後述するように、同一の導電層22をパターニングすることによって同時にかつ連続的に形成されるものであってもよい。所望の方向において実装基板60が可撓性を有する限りにおいて、実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43の厚みや幅などの寸法が特に限られることはない。   The materials constituting the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43 may be the same or different. For example, the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43 may be formed simultaneously and continuously by patterning the same conductive layer 22, as described later. As long as the mounting substrate 60 has flexibility in a desired direction, dimensions such as the thickness and width of the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43 are not particularly limited.

図2に示すように、実装用電極部41や配線42と樹脂基板21の第1面21aとの間には、粘着層23が介在されていてもよい。このような粘着層23は、後述するように、粘着剤23aを用いて金属箔22aを樹脂基板21に張り合わせることによって導電層22が形成される場合に、存在することになる。また、エッチングなどによって導電層22をパターニングする際に粘着層23が除去されない場合、図2に示すように、粘着層23は、少なくとも部分的に、樹脂基板21の法線方向に沿って見た場合に実装用電極部41や配線42と重ならない領域にまで広がるようになる。粘着層23を構成する粘着剤23aとしては、樹脂を含む粘着剤等、公知の粘着剤を用いることができる。   As shown in FIG. 2, an adhesive layer 23 may be interposed between the mounting electrode portion 41 or the wiring 42 and the first surface 21 a of the resin substrate 21. Such an adhesive layer 23 is present when the conductive layer 22 is formed by bonding the metal foil 22a to the resin substrate 21 using the adhesive 23a as described later. When the adhesive layer 23 is not removed when patterning the conductive layer 22 by etching or the like, the adhesive layer 23 is viewed at least partially along the normal direction of the resin substrate 21 as shown in FIG. In this case, it spreads to a region that does not overlap with the mounting electrode portion 41 or the wiring 42. As the adhesive 23a constituting the adhesive layer 23, a known adhesive such as an adhesive containing a resin can be used.

(反射層)
実装基板60に戻ってきた光を反射し、これによって照明装置における光の利用効率を高めることができる限りにおいて、反射層44の構成が特に限られることはない。例えば反射層44は、白色のセラミックス材料や金属粉末などの反射性を有する白色顔料が包含された層として構成され得る。この場合、反射層44は、はじめに、白色のセラミックス材料や金属粉末など反射性を有する白色顔料を含むペーストを樹脂基板21の第1面21a上に設け、次に、ペーストを焼き固めることによって形成される。ペーストを樹脂基板21の第1面21aに設ける方法が特に限られることはなく、スクリーン印刷法などを適宜用いることができる。また反射層44は、白色顔料や気泡などが内部に分散された基材を含んでいてもよい。この場合、白色顔料や気泡などが内部に分散された基材を、図示しない接着層や粘着層を介して樹脂基板21の第1面21aに貼り付けることにより、反射層44が形成される。白色顔料としては、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛などの白色のセラミックス材料を用いることができる。
(Reflective layer)
The configuration of the reflective layer 44 is not particularly limited as long as the light returning to the mounting substrate 60 is reflected, and thereby the light use efficiency of the lighting device can be increased. For example, the reflective layer 44 may be configured as a layer containing a reflective white pigment such as a white ceramic material or metal powder. In this case, the reflective layer 44 is formed by first providing a paste containing a reflective white pigment such as a white ceramic material or metal powder on the first surface 21a of the resin substrate 21, and then baking and hardening the paste. Is done. The method for providing the paste on the first surface 21a of the resin substrate 21 is not particularly limited, and a screen printing method or the like can be used as appropriate. Further, the reflection layer 44 may include a base material in which a white pigment, bubbles, and the like are dispersed. In this case, the reflective layer 44 is formed by attaching a base material in which a white pigment, air bubbles, and the like are dispersed inside to the first surface 21a of the resin substrate 21 via an adhesive layer or an adhesive layer (not shown). As the white pigment, white ceramic materials such as titanium oxide, calcium oxide, aluminum oxide, and zinc oxide can be used.

好ましくは、反射層44は、光波長380nm〜780nmの範囲内における全光線反射率が60%〜99%の範囲内となるよう、構成される。ここで「全光線反射率」とは、正反射率と拡散反射率の合計である。全光線反射率は、JIS K7375の全光線反射率測定法に準拠して求められ得る。具体的には、全光線反射率は、角度をつけて光を反射層44に入射させた場合の反射率を、分光光度計と、積分球試験台とを用いて光波長380nm〜780nmにおいて10nm間隔で測定し、それらの平均値を算出することによって求められ得る。なお、全光線反射率は、硫酸バリウムを含む標準白色板の反射率を100%とした相対値として求められる。   Preferably, the reflection layer 44 is configured such that the total light reflectance in the light wavelength range of 380 nm to 780 nm is in the range of 60% to 99%. Here, the “total light reflectance” is the sum of the regular reflectance and the diffuse reflectance. The total light reflectance can be determined based on the total light reflectance measurement method of JIS K7375. Specifically, the total light reflectance is measured by using a spectrophotometer and an integrating sphere test table at a light wavelength of 380 nm to 780 nm using a spectrophotometer and an integrating sphere test table. It can be determined by measuring at intervals and calculating their average. The total light reflectance is determined as a relative value when the reflectance of a standard white plate containing barium sulfate is 100%.

(接合層)
図2において、符号62は、発光部品61を実装用電極部41に接合して発光部品61を実装用電極部41に電気的に接続するために発光部品61と実装用電極部41との間に介在される接合層を表している。接合層62を構成する材料としては、例えばリフロー工程において実装用電極部41上に塗布されるクリーム半田を挙げることができる。クリーム半田とは、フラックスなどのバインダー材と、バインダー材の中に分散され、リフロー工程の際に溶融する金属粉末と、を含むものである。なお図2においては、発光部品61と実装用電極部41との間に接合層62が明確に介在される例を示したが、これに限られることはない。発光部品61を実装用電極部41に結合して発光部品61を実装用電極部41に電気的にすることができる限りにおいて、接合層62の形状や配置が特に限られることはない。
(Joining layer)
In FIG. 2, reference numeral 62 denotes a portion between the light emitting component 61 and the mounting electrode portion 41 for joining the light emitting component 61 to the mounting electrode portion 41 and electrically connecting the light emitting component 61 to the mounting electrode portion 41. Represents a bonding layer interposed between the layers. As a material for forming the bonding layer 62, for example, cream solder applied on the mounting electrode portion 41 in a reflow process can be given. The cream solder includes a binder material such as a flux, and metal powder dispersed in the binder material and melted during the reflow process. Although FIG. 2 shows an example in which the bonding layer 62 is clearly interposed between the light emitting component 61 and the mounting electrode portion 41, the present invention is not limited to this. The shape and arrangement of the bonding layer 62 are not particularly limited as long as the light emitting component 61 can be electrically connected to the mounting electrode portion 41 by coupling the light emitting component 61 to the mounting electrode portion 41.

ところでリフロー工程においては、配線基板40の少なくとも実装用電極部41およびその周辺部分が、少なくとも接合層62に含まれる半田の融点以上の温度まで加熱される。以下の記載において、加熱された配線基板40が到達する温度の最大値を、到達温度とも称する。本実施の形態による配線基板40においては、到達温度が高くなると、上述のオリゴマーの析出や反射層44の変色が生じやすくなり、この結果、配線基板40の反射率が低下してしまうと考えられる。従って、リフロー工程を実施する際の温度を可能な限り低く設定し、これによって配線基板40の到達温度を低くすることが好ましい。   By the way, in the reflow step, at least the mounting electrode portion 41 of the wiring board 40 and its peripheral portion are heated to a temperature at least equal to or higher than the melting point of the solder included in the bonding layer 62. In the following description, the maximum value of the temperature reached by the heated wiring board 40 is also referred to as the reached temperature. In the wiring substrate 40 according to the present embodiment, when the attained temperature increases, the above-described precipitation of the oligomer and discoloration of the reflective layer 44 are likely to occur, and as a result, it is considered that the reflectance of the wiring substrate 40 decreases. . Therefore, it is preferable to set the temperature at the time of performing the reflow process as low as possible, thereby lowering the temperature reached by the wiring board 40.

このような点を考慮し、本件発明者らは、接合層62に含まれる半田として、180℃以下の温度で、より好ましくは150℃以下の温度で融解する低融点半田を用いることを提案する。この場合、配線基板40の到達温度を180℃以下に、より好ましくは150℃以下にすることができ、これによって、樹脂基板21の表面にオリゴマーが析出してしまうことや、反射層44が変色してしまうことを抑制することができる。   In view of such a point, the present inventors propose to use a low melting point solder that melts at a temperature of 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, as the solder included in the bonding layer 62. . In this case, the ultimate temperature of the wiring substrate 40 can be set to 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, whereby the oligomer is deposited on the surface of the resin substrate 21 and the reflection layer 44 is discolored. Can be suppressed.

180℃以下の温度で融解する限りにおいて、接合層62に含まれる低融点半田が特に限られることはない。例えば低融点半田として、42重量%〜43重量%の錫と、57重量%〜58重量%のビスマスと、を含む半田を用いることができる。その他にも、錫、ビスマスおよび銀を含む半田などを用いることもできる。   As long as the solder is melted at a temperature of 180 ° C. or less, the low-melting-point solder contained in the bonding layer 62 is not particularly limited. For example, as the low melting point solder, a solder containing 42% to 43% by weight of tin and 57% to 58% by weight of bismuth can be used. In addition, solder containing tin, bismuth and silver can be used.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用および効果について説明する。ここでは、長尺状の積層体を加工して上述の配線基板40を作製し、配線基板40上に発光部品61を実装して上述の実装基板60を作製する方法について説明する。   Next, the operation and effect of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, a method for manufacturing the above-described wiring board 40 by processing a long laminated body and mounting the light emitting component 61 on the wiring board 40 to manufacture the above-described mounting board 60 will be described.

(積層体の製造方法)
はじめに、配線基板40を作製するための積層体20を製造する方法について、図3および図4を参照して説明する。図3は、積層体20を製造するための積層体製造装置10を示す図である。
(Production method of laminate)
First, a method of manufacturing the laminate 20 for manufacturing the wiring board 40 will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a diagram illustrating a laminated body manufacturing apparatus 10 for manufacturing the laminated body 20.

はじめに図3に示すように、ロール状に巻かれた長尺状の樹脂基板21を保持する第1巻出部11と、ロール状に巻かれた長尺状の金属箔22aを保持する第2巻出部12と、を準備する。次に、第1巻出部11から樹脂基板21を巻き出し、また第2巻出部12から金属箔22aを巻き出す。また、樹脂基板21または金属箔22aの少なくともいずれか一方の面の上に粘着剤を塗布する。図3においては、金属箔22aの面のうち樹脂基板21と対向する面の上に、塗布部13から粘着剤23aが塗布される例が示されている。その後、積層部14において樹脂基板21と金属箔22aとが粘着剤23aを介して接着される。これによって、樹脂基板21と、導電層22と、樹脂基板21と導電層22との間に介在された粘着層23と、を含む積層体20が得られる。図4は、積層体20を示す断面図である。   First, as shown in FIG. 3, a first unwinding portion 11 for holding a long resin substrate 21 wound in a roll shape, and a second unwinding portion 11 for holding a long metal foil 22a wound in a roll shape. The unwinding unit 12 is prepared. Next, the resin substrate 21 is unwound from the first unwinding part 11, and the metal foil 22a is unwound from the second unwinding part 12. Further, an adhesive is applied on at least one surface of the resin substrate 21 or the metal foil 22a. FIG. 3 shows an example in which the adhesive 23a is applied from the application unit 13 on the surface of the metal foil 22a facing the resin substrate 21. After that, the resin substrate 21 and the metal foil 22a are adhered to each other via the adhesive 23a in the laminated portion 14. Thereby, a laminate 20 including the resin substrate 21, the conductive layer 22, and the adhesive layer 23 interposed between the resin substrate 21 and the conductive layer 22 is obtained. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating the stacked body 20.

積層部14は例えば、樹脂基板21に向けて金属箔22aを押圧する積層ロールとして構成されている。積層体20は、図3に示すように巻取部15によって巻き取られる。   The laminating unit 14 is configured as, for example, a laminating roll that presses the metal foil 22a toward the resin substrate 21. The laminate 20 is wound by the winding unit 15 as shown in FIG.

(配線基板の製造方法)
次に、上述の積層体20を加工することによって配線基板40を製造する。図5は、積層体20の導電層22をパターニングすることによって得られた実装用電極部41や配線42を含む配線基板40を示す断面図である。
(Wiring board manufacturing method)
Next, the wiring board 40 is manufactured by processing the above-described laminated body 20. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a wiring board 40 including a mounting electrode portion 41 and a wiring 42 obtained by patterning the conductive layer 22 of the laminate 20.

導電層22をパターニングする方法としては、実装用電極部41や配線42に対応したパターンで導電層22上に設けられた感光層をマスクとして導電層22をエッチングする方法や、実装用電極部41や配線42に対応したパターンで導電層22にレーザーを照射するレーザーアブレーション法など、公知の方法が適宜用いられ得る。   As a method of patterning the conductive layer 22, a method of etching the conductive layer 22 using a photosensitive layer provided on the conductive layer 22 in a pattern corresponding to the mounting electrode portion 41 or the wiring 42 as a mask, or a method of patterning the mounting electrode portion 41 A known method such as a laser ablation method of irradiating the conductive layer 22 with a laser in a pattern corresponding to the wiring 42 or the like can be used as appropriate.

なお導電層22をパターニングする方法としてエッチング法が採用される場合、用いられるエッチング液によっては、導電層22は除去されるが導電層22と樹脂基板21との間の粘着層23は除去されないことがある。この場合、粘着層23が、樹脂基板21の法線方向に沿って見た場合に実装用電極部41や配線42と重ならない領域にまで広がるようになる。例えば図5においては、配線基板40の全域にわたって粘着層23が残っている。   When an etching method is adopted as a method of patterning the conductive layer 22, the conductive layer 22 is removed but the adhesive layer 23 between the conductive layer 22 and the resin substrate 21 is not removed depending on an etchant used. There is. In this case, the adhesive layer 23 extends to a region that does not overlap with the mounting electrode portion 41 or the wiring 42 when viewed along the normal direction of the resin substrate 21. For example, in FIG. 5, the adhesive layer 23 remains over the entire area of the wiring board 40.

その後、図6に示すように、樹脂基板21の第1面21a側の領域のうち実装用電極部41および後に実装される発光部品61とは重ならない領域に、光を反射する反射層44を設けてもよい。反射層44を設ける方法としては、反射層44が形成されるべき領域に対応する位置に開口部が形成されたメタルマスクを利用して、白色顔料や金属粉末などを含む塗布液を塗布するスクリーン印刷法などを用いることができる。   Thereafter, as shown in FIG. 6, a reflection layer 44 for reflecting light is formed in a region on the first surface 21a side of the resin substrate 21 which does not overlap with the mounting electrode portion 41 and the light emitting component 61 to be mounted later. It may be provided. As a method of providing the reflection layer 44, a screen for applying a coating liquid containing a white pigment, a metal powder, or the like using a metal mask having an opening formed at a position corresponding to a region where the reflection layer 44 is to be formed. A printing method or the like can be used.

(実装基板の製造方法)
次に図7を参照して、実装基板製造装置50を用いて実装基板60を製造する方法について説明する。
(Method of manufacturing mounting board)
Next, a method of manufacturing the mounting board 60 using the mounting board manufacturing apparatus 50 will be described with reference to FIG.

はじめに図7に示すように、ロール状に巻かれた長尺状の配線基板40を保持する巻出部51を準備する。次に、巻出部51から配線基板40を巻き出す。次に図7に示すように、配線基板40の実装用電極部41上に接合層62を設ける。例えば、塗布部52を用いて、接合層62を構成するためのクリーム半田を実装用電極部41上に塗布する。その後、実装部53を用いて、接合層62が設けられた実装用電極部41上に発光部品61を実装する実装工程を実施する。具体的には、はじめに、接合層62が設けられた実装用電極部41上に発光部品61を載置し、次に、配線基板40のうち少なくとも発光部品61が載置された実装用電極部41の部分を加熱して接合層62を溶融させる。これによって、発光部品61が実装用電極部41に接合される。次に、切断部54を用いて、発光部品61が実装された配線基板40を、第1方向D1に直交する第2方向D2において切断する。これによって、上述の図2に示す実装基板60を得ることができる。   First, as shown in FIG. 7, an unwinding portion 51 for holding a long wiring substrate 40 wound in a roll is prepared. Next, the wiring board 40 is unwound from the unwinding part 51. Next, as shown in FIG. 7, a bonding layer 62 is provided on the mounting electrode portion 41 of the wiring board 40. For example, using the application unit 52, cream solder for forming the bonding layer 62 is applied on the mounting electrode unit 41. Thereafter, a mounting step of mounting the light emitting component 61 on the mounting electrode portion 41 provided with the bonding layer 62 is performed using the mounting portion 53. Specifically, first, the light emitting component 61 is mounted on the mounting electrode portion 41 provided with the bonding layer 62, and then the mounting electrode portion of the wiring board 40 on which at least the light emitting component 61 is mounted. The portion 41 is heated to melt the bonding layer 62. Thereby, the light emitting component 61 is joined to the mounting electrode portion 41. Next, using the cutting portion 54, the wiring board 40 on which the light emitting component 61 is mounted is cut in a second direction D2 orthogonal to the first direction D1. Thereby, the mounting board 60 shown in FIG. 2 described above can be obtained.

ここで本実施の形態によれば、上述のように、実装用電極部41上に塗布されるクリーム半田として、180℃以下の温度で融解する低融点半田を含むものが用いられる。このため、実装工程の際に配線基板40が到達する到達温度を180℃以下にすることができる。これによって、実装工程の際の加熱に起因して樹脂基板21の表面にオリゴマーが析出してしまうことや、反射層44が変色してしまうことを抑制することができる。このことにより、実装工程の際の加熱に起因して配線基板40の反射率が低下してしまうことを抑制することができる。   Here, according to the present embodiment, as described above, a solder containing a low-melting-point solder that melts at a temperature of 180 ° C. or less is used as the cream solder applied on mounting electrode portion 41. Therefore, the temperature reached by the wiring board 40 during the mounting process can be set to 180 ° C. or less. Thereby, it is possible to suppress the oligomer from being precipitated on the surface of the resin substrate 21 and the discoloration of the reflective layer 44 due to the heating during the mounting process. Thus, it is possible to suppress a decrease in the reflectance of the wiring board 40 due to heating during the mounting process.

また本実施の形態によれば、実装工程の際に配線基板40が到達する到達温度を180℃以下にすることができるので、配線基板40の樹脂基板21を構成する樹脂材料として、耐熱性の低いものを用いることが可能になる。すなわち、樹脂基板21を選択する際の自由度が高くなる。また、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、または、ポリイミド樹脂などの、比較的に低い耐熱性を有する樹脂材料を用いることが可能になる。このため、高い耐熱性を有する樹脂材料を用いて樹脂基板21を構成する場合に比べて、樹脂基板21に要するコストを削減することができる。   In addition, according to the present embodiment, the temperature reached by wiring substrate 40 during the mounting process can be set to 180 ° C. or less, so that the resin material forming resin substrate 21 of wiring substrate 40 has heat resistance. It is possible to use a lower one. That is, the degree of freedom in selecting the resin substrate 21 increases. Further, a resin material having relatively low heat resistance, such as a polyester resin, an epoxy resin, or a polyimide resin, can be used. Therefore, the cost required for the resin substrate 21 can be reduced as compared with the case where the resin substrate 21 is formed using a resin material having high heat resistance.

(照明装置の製造方法)
その後、発光部品61が実装された配線基板40を支持部材81に取り付ける工程を実施してもよい。これによって、図8に示すように、実装基板60と、樹脂基板21の第2面21b側で実装基板60に取り付けられた支持部材81と、を備える照明装置80を得ることができる。なお照明装置80は、図8に示すように、実装基板60のうち発光部品61が実装されている側で実装基板60との間に間隔を空けて設けられた拡散板82をさらに備えていてもよい。拡散板82としては、光拡散剤として機能する照明カバーなどが用いられ得る。
(Method of manufacturing lighting device)
Thereafter, a step of attaching the wiring board 40 on which the light emitting components 61 are mounted to the support member 81 may be performed. Thereby, as shown in FIG. 8, it is possible to obtain a lighting device 80 including the mounting board 60 and the support member 81 attached to the mounting board 60 on the second surface 21b side of the resin board 21. As shown in FIG. 8, the lighting device 80 further includes a diffusion plate 82 provided at a distance from the mounting board 60 on the side of the mounting board 60 on which the light emitting component 61 is mounted. Is also good. As the diffusion plate 82, a lighting cover or the like functioning as a light diffusing agent may be used.

図8において、符号L1が付された矢印は、発光部品61から出射された光を表している。発光部品61から出射された光L1のうち、拡散板82の法線方向にほぼ沿って拡散板82に入射した光の大部分は、拡散板82を透過して利用者側に至る。一方、発光部品61から出射された光L1のうち、拡散板82の法線方向から傾斜した方向に沿って拡散板82に入射する光は、図8に示すように、拡散板82によって反射されて実装基板60に戻ることがある。このような戻り光の大半は、図8において矢印L21で示すように、反射層44によって反射されて再び拡散板82へ向かい、そして拡散板82を透過して利用者側に至る。またその他の戻り光は、図8において矢印L22で示すように、反射層44を透過した後に樹脂基板21の第1面21aで反射されて再び拡散板82へ向かい、そして拡散板82を透過して利用者側に至る。ここで本実施の形態によれば、上述のように、反射層44が変色してしまうことや、樹脂基板21の表面にオリゴマーが析出してしまうことが抑制されている。このため、反射層44における戻り光L21の反射や、樹脂基板21の第1面21aにおける戻り光L22の反射を、高い反射率で生じさせることができる。このことにより、照明装置80における光の利用効率を高めることができる。   In FIG. 8, the arrow denoted by reference numeral L1 indicates light emitted from the light emitting component 61. Most of the light L1 emitted from the light emitting component 61 and incident on the diffusion plate 82 substantially along the normal direction of the diffusion plate 82 passes through the diffusion plate 82 and reaches the user side. On the other hand, of the light L1 emitted from the light emitting component 61, light incident on the diffusion plate 82 along a direction inclined from the normal direction of the diffusion plate 82 is reflected by the diffusion plate 82 as shown in FIG. May return to the mounting board 60. Most of such return light is reflected by the reflective layer 44 and travels again to the diffusion plate 82 as shown by an arrow L21 in FIG. 8, and then passes through the diffusion plate 82 to reach the user side. Further, as shown by an arrow L22 in FIG. 8, the other return light is reflected by the first surface 21a of the resin substrate 21 after passing through the reflective layer 44, travels to the diffusion plate 82 again, and passes through the diffusion plate 82. To the user side. Here, according to the present embodiment, as described above, the discoloration of the reflective layer 44 and the precipitation of the oligomer on the surface of the resin substrate 21 are suppressed. Therefore, the reflection of the return light L21 on the reflection layer 44 and the reflection of the return light L22 on the first surface 21a of the resin substrate 21 can be generated with high reflectance. Thus, the light use efficiency of the lighting device 80 can be improved.

ところで本実施の形態においては、図8に示すように、樹脂基板21の法線方向に沿って見た場合に実装用電極部41や配線42と重ならない領域にまで粘着層23が広がっていることがある。従って、仮に、実装工程の際に配線基板40が到達する到達温度が高く、このため実装工程の際の加熱に起因して粘着層23が変色したり粘着層23の表面にオリゴマーが析出したりしている場合、反射層44を透過した戻り光L22の反射が粘着層23によって阻害されてしまうことになる。ここで本実施の形態によれば、上述のように、実装工程の際に配線基板40が到達する到達温度を180℃以下にすることができる。このため、樹脂基板21や反射層44の光学特性が劣化することだけでなく、粘着層23の光学特性が劣化することをも抑制することができる。従って、実装用電極部41や配線42と重ならない領域にまで粘着層23が広がっている場合であっても、粘着層23に起因して配線基板40の反射特性が損なわれてしまうことを抑制することができる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 8, the adhesive layer 23 extends to a region that does not overlap with the mounting electrode portion 41 or the wiring 42 when viewed along the normal direction of the resin substrate 21. Sometimes. Therefore, if the temperature reached by the wiring board 40 during the mounting process is high, the adhesive layer 23 may be discolored or oligomers may be deposited on the surface of the adhesive layer 23 due to heating during the mounting process. In this case, the reflection of the return light L22 transmitted through the reflective layer 44 is impeded by the adhesive layer 23. Here, according to the present embodiment, as described above, the temperature reached by wiring substrate 40 during the mounting process can be set to 180 ° C. or lower. Therefore, it is possible to suppress not only deterioration of the optical characteristics of the resin substrate 21 and the reflection layer 44 but also deterioration of the optical characteristics of the adhesive layer 23. Therefore, even when the adhesive layer 23 extends to a region that does not overlap with the mounting electrode portion 41 or the wiring 42, it is possible to prevent the reflection characteristics of the wiring substrate 40 from being impaired due to the adhesive layer 23. can do.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。   Note that various changes can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, modified examples will be described with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, portions that can be configured in the same manner as in the above-described embodiment will use the same reference numerals as those used for corresponding portions in the above-described embodiment, A duplicate description will be omitted. Further, when it is clear that the operation and effect obtained in the above-described embodiment can be obtained also in the modification, the description thereof may be omitted.

(配線基板の変形例)
上述の本実施の形態においては、配線基板40に反射特性を付与するための白色顔料が、樹脂基板21の第1面21a側に設けられた反射層44に包含されている例を示した。すなわち、樹脂基板21の第1面21a側に設けられた反射層44によって、配線基板40に戻ってきた光を反射するための反射特性が実装基板60に付与される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、樹脂基板21自体にそのような反射特性を持たせるようにしてもよい。例えば、樹脂基板21として、白色顔料や気泡などが包含されて分散された樹脂基板を用いてもよい。このような反射特性を備えた樹脂基板21を製造する方法が特に限られることはなく、公知の方法が適宜用いられ得る。例えば、樹脂材料の原料となるペレットと、白色顔料とを混合して溶融させ、これらの混合材料を押出成形等によって成形し、必要に応じて焼成することによって、可撓性および反射特性を備えた樹脂基板21を得ることができる。この場合、樹脂基板21の第1面21a上に反射層44が設けられていなくても、配線基板40に戻ってきた光を十分に高い反射率で反射することができる。樹脂基板21に白色顔料や気泡などが包含される場合、好ましくは、樹脂基板21は、光波長380nm〜780nmの範囲内における全光線反射率が60%〜99%の範囲内となるよう、構成される。
(Modified example of wiring board)
In the above-described embodiment, an example has been described in which a white pigment for imparting reflection characteristics to the wiring substrate 40 is included in the reflection layer 44 provided on the first surface 21 a side of the resin substrate 21. That is, an example has been described in which the reflection characteristics for reflecting the light returning to the wiring substrate 40 are imparted to the mounting substrate 60 by the reflection layer 44 provided on the first surface 21a side of the resin substrate 21. However, the present invention is not limited to this, and the resin substrate 21 itself may have such reflection characteristics. For example, as the resin substrate 21, a resin substrate in which a white pigment, bubbles, and the like are included and dispersed may be used. The method for manufacturing the resin substrate 21 having such reflection characteristics is not particularly limited, and a known method can be used as appropriate. For example, pellets as a raw material of a resin material and a white pigment are mixed and melted, and these mixed materials are formed by extrusion molding or the like, and are fired as necessary to provide flexibility and reflection characteristics. The resin substrate 21 can be obtained. In this case, even if the reflection layer 44 is not provided on the first surface 21a of the resin substrate 21, the light returning to the wiring substrate 40 can be reflected with a sufficiently high reflectance. When the resin substrate 21 contains a white pigment, bubbles, or the like, the resin substrate 21 is preferably configured such that the total light reflectance within the light wavelength range of 380 nm to 780 nm is within the range of 60% to 99%. Is done.

なお本実施の形態において、「配線基板40に白色顔料または気泡が包含されている」という記載によって意図される形態は、樹脂基板21上の反射層44に白色顔料が包含されているという形態、および、樹脂基板21自体に白色顔料または気泡が包含されているという形態の両方を含んでいる。   Note that, in the present embodiment, the form intended by the description that “the wiring substrate 40 contains a white pigment or bubbles” includes the form in which the reflective layer 44 on the resin substrate 21 contains the white pigment. In addition, both forms in which the white pigment or bubbles are included in the resin substrate 21 itself are included.

(その他の変形例)
また上述の本実施の形態においては、長尺状の配線基板40の上に発光部品61が実装される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、配線基板40を切断した後、枚葉の配線基板40上に発光部品61を実装してもよい。
(Other modifications)
Further, in the above-described embodiment, an example in which the light emitting component 61 is mounted on the long wiring board 40 has been described. However, the present invention is not limited to this. After the wiring board 40 is cut, the light emitting components 61 may be mounted on the single wiring board 40.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   Although some modifications to the above-described embodiment have been described, it is needless to say that a plurality of modifications can be appropriately combined and applied.

可撓性を有する樹脂基板を備えた配線基板に、低融点半田を利用して発光部品を実装することの利点を評価した結果について、以下説明する。   The result of evaluating the advantage of mounting a light-emitting component using a low-melting-point solder on a wiring board having a flexible resin substrate will be described below.

(例1)
はじめに、ポリエチレンテレフタラート(以下、PETとも称する)からなる樹脂基板と、樹脂基板の第1面上に設けられ、銅(以下、Cuとも称する)からなる導電層と、樹脂基板の第2面上に設けられ、アルミニウム(以下、Alとも称する)からなる金属層と、を含む積層体を準備した。次に、Cuからなる導電層を、エッチング法を用いてパターニングして実装用電極部を形成することによって、PETからなる樹脂基板を備えた配線基板を作製した。PETからなる樹脂基板の厚みは25μmであり、Cuからなる導電層すなわち実装用電極部の厚みは35μmであり、Alからなる金属層の厚みは100μmであった。
(Example 1)
First, a resin substrate made of polyethylene terephthalate (hereinafter, also referred to as PET), a conductive layer provided on a first surface of the resin substrate and made of copper (hereinafter, also called Cu), and a second substrate of the resin substrate And a metal layer made of aluminum (hereinafter, also referred to as Al). Next, a wiring board provided with a resin substrate made of PET was manufactured by patterning the conductive layer made of Cu using an etching method to form a mounting electrode portion. The thickness of the resin substrate made of PET was 25 μm, the thickness of the conductive layer made of Cu, that is, the thickness of the mounting electrode portion was 35 μm, and the thickness of the metal layer made of Al was 100 μm.

その後、発光ダイオードを備えた発光部品を、配線基板の実装用電極部に実装した。具体的には、はじめに、錫およびビスマスを含む、融点が150℃以下である低融点半田(以下、SnBi半田とも称する)のペーストを、実装用電極部上に塗布した。その後、図9に示す温度プロファイルでリフロー工程を実施することにより、発光部品が実装された実装基板を得た。   After that, the light emitting component including the light emitting diode was mounted on the mounting electrode portion of the wiring board. Specifically, first, a paste of a low melting point solder (hereinafter, also referred to as SnBi solder) containing tin and bismuth and having a melting point of 150 ° C. or less was applied onto the mounting electrode portion. Thereafter, a reflow process was performed with the temperature profile shown in FIG. 9 to obtain a mounting board on which the light emitting components were mounted.

リフロー工程においては、図9に示すように、はじめに、配線基板の周囲の雰囲気温度を約100℃にまで上昇させ、その状態を約60秒間維持した。次に、配線基板の周囲の雰囲気温度を、約145℃にまで上昇させ、その状態を約40秒間維持した。その後、配線基板の周囲の雰囲気を冷却した。図9において、符号「CH_A」は、リフロー工程の際の搬送方向における配線基板の先頭の位置における温度を測定するよう設定されたチャンネルAの温度を表しており、符号「CH_B」は、配線基板の中央の位置における温度を測定するよう設定されたチャンネルBの温度を表しており、符号「CH_C」は、リフロー工程の際の搬送方向における配線基板の後尾の位置における温度を測定するよう設定されたチャンネルCの温度を表している。   In the reflow step, as shown in FIG. 9, first, the ambient temperature around the wiring board was raised to about 100 ° C., and the state was maintained for about 60 seconds. Next, the ambient temperature around the wiring substrate was raised to about 145 ° C., and the state was maintained for about 40 seconds. Thereafter, the atmosphere around the wiring board was cooled. In FIG. 9, the symbol “CH_A” represents the temperature of the channel A set to measure the temperature at the leading position of the wiring board in the transport direction during the reflow process, and the symbol “CH_B” represents the wiring board. Represents the temperature of the channel B set to measure the temperature at the center position of the wiring board, and the symbol “CH_C” is set to measure the temperature at the rear end position of the wiring board in the transport direction during the reflow process. The temperature of the channel C is shown.

上述のようにして得られた実装基板の信頼性試験を行った。具体的には、実装基板の温度を室温→+125℃→−40℃→室温の順に変化させる温度サイクル試験を、1000サイクル実施した。その後、発光部品が正常に点灯するかどうか、および、SnBi半田にクラックが生じているかどうかを確認した。結果、発光部品は正常に点灯し、またSnBi半田にクラックは生じていなかった。   A reliability test was performed on the mounting board obtained as described above. Specifically, 1000 cycles of a temperature cycle test in which the temperature of the mounting substrate was changed in the order of room temperature → + 125 ° C. → −40 ° C. → room temperature. Thereafter, it was checked whether the light emitting component was normally lit and whether the SnBi solder had cracks. As a result, the light emitting component was normally lit, and no crack was generated in the SnBi solder.

(例2)
はじめに、PETからなる樹脂基板を準備した。次に、銀(以下、Agとも称する)を含む導電性ペーストを、実装用電極部に対応したパターンで樹脂基板の第1面上に印刷した。このようにして、PETからなる樹脂基板を備えた配線基板を作製した。PETからなる樹脂基板の厚みは25μmであり、Agからなる実装用電極部の厚みは10μmであった。
(Example 2)
First, a resin substrate made of PET was prepared. Next, a conductive paste containing silver (hereinafter, also referred to as Ag) was printed on the first surface of the resin substrate in a pattern corresponding to the mounting electrode portion. Thus, a wiring board provided with the resin substrate made of PET was manufactured. The thickness of the resin substrate made of PET was 25 μm, and the thickness of the mounting electrode portion made of Ag was 10 μm.

その後、上述の例1の場合と同様に、低融点半田であるSnBi半田を用いて、発光ダイオードを備えた発光部品を、配線基板の実装用電極部に実装した。また、上述の例1の場合と同様にして、発光部品が実装された実装基板の信頼性試験を行った。結果、発光部品は正常に点灯し、また半田にクラックは生じていなかった。   Thereafter, similarly to the case of Example 1 described above, the light emitting component including the light emitting diode was mounted on the mounting electrode portion of the wiring board using SnBi solder which is a low melting point solder. Further, in the same manner as in Example 1 described above, a reliability test was performed on the mounting board on which the light emitting components were mounted. As a result, the light emitting component was normally lit, and no crack was generated in the solder.

(例3)
はじめに、ガラスエポキシ樹脂からなる樹脂基板(以下、ガラエポ基板とも称する)を備えた配線基板を準備した。次に、上述の例1の場合と同様に、低融点半田であるSnBi半田を用いて、発光ダイオードを備えた発光部品を、配線基板の実装用電極部に実装した。ガラエポ基板の厚みは1000μmであった。
(Example 3)
First, a wiring board provided with a resin substrate made of a glass epoxy resin (hereinafter, also referred to as a glass epoxy substrate) was prepared. Next, as in the case of Example 1 described above, the light emitting component including the light emitting diode was mounted on the mounting electrode portion of the wiring board using SnBi solder which is a low melting point solder. The thickness of the glass epoxy substrate was 1000 μm.

その後、上述の例1の場合と同様に、低融点半田であるSnBi半田を用いて、発光ダイオードを備えた発光部品を、配線基板の実装用電極部に実装した。また、上述の例1の場合と同様にして、発光部品が実装された実装基板の信頼性試験を行った。結果、1000サイクル終了時において、実装されている発光部品の約62%が正常に点灯しなかった。以下の説明において、実装されている発光部品のうち、正常に点灯しなかった発光部品の比率のことを、不点灯率とも称する。   Thereafter, similarly to the case of Example 1 described above, the light emitting component including the light emitting diode was mounted on the mounting electrode portion of the wiring board using SnBi solder which is a low melting point solder. Further, in the same manner as in Example 1 described above, a reliability test was performed on the mounting board on which the light emitting components were mounted. As a result, at the end of 1000 cycles, about 62% of the mounted light emitting components did not light up normally. In the following description, the ratio of the light emitting components that did not light up normally among the mounted light emitting components is also referred to as a non-lighting rate.

(例4)
錫、銀および銅を含み、融点が約260℃の一般的な半田(以下、SnAgCu半田とも称する)を用い、かつSnAgCu半田を融解させることができる温度プロファイルでリフロー工程を行ったこと以外は、例3の場合と同様にして、発光部品を配線基板の実装用電極部に実装した。その後、上述の例1の場合と同様にして、発光部品が実装された実装基板の信頼性試験を行った。結果、500サイクル終了時において、不点灯率は約18%であった。また、1000サイクル終了時において、不点灯率は約88%であった。
(Example 4)
Except for using a general solder containing tin, silver and copper and having a melting point of about 260 ° C. (hereinafter also referred to as SnAgCu solder), and performing a reflow process with a temperature profile capable of melting the SnAgCu solder, In the same manner as in Example 3, the light emitting component was mounted on the mounting electrode portion of the wiring board. Thereafter, in the same manner as in Example 1 described above, a reliability test was performed on the mounting board on which the light emitting components were mounted. As a result, at the end of 500 cycles, the non-lighting rate was about 18%. At the end of 1000 cycles, the non-lighting rate was about 88%.

図10に、例1〜例4における不点灯率の評価結果をまとめて示す。   FIG. 10 collectively shows the evaluation results of the non-lighting rates in Examples 1 to 4.

上述のように、PETからなる樹脂基板を用いて配線基板を構成し、かつ低融点半田であるSnBi半田を用いて実装基板を作製した例1および例2においては、実装基板が高い信頼性を有していた。一方、ガラエポ基板を用いて配線基板を構成し、かつ低融点半田であるSnBi半田を用いて実装基板を作製した例3においては、実装基板の信頼性が不十分であった。この理由としては様々なことが考えられるが、例えば理由の1つとして、実装基板を構成する要素の、厚みが影響していることが考えられる。
表1に、上述のSnBi半田、ガラエポ基板およびPETの、幅方向における熱膨張率および厚み方向における熱膨張率をそれぞれ示す。表1には、参考として、SnAgCu半田、Al、CuおよびAgに関するデータも併せて示されている。
As described above, in Examples 1 and 2 in which the wiring substrate was formed using the resin substrate made of PET and the mounting substrate was manufactured using SnBi solder which is a low melting point solder, the mounting substrate had high reliability. Had. On the other hand, in Example 3 in which the wiring substrate was formed using the glass epoxy substrate and the mounting substrate was manufactured using SnBi solder, which is a low melting point solder, the reliability of the mounting substrate was insufficient. There can be various reasons for this. One of the reasons is, for example, that the thickness of an element constituting the mounting board is influenced.
Table 1 shows the coefficient of thermal expansion in the width direction and the coefficient of thermal expansion in the thickness direction of the above-described SnBi solder, glass epoxy substrate, and PET, respectively. Table 1 also shows data on SnAgCu solder, Al, Cu and Ag for reference.

表1に示すように、ガラエポ基板の厚みは、PETの厚みに比べて著しく大きくなっている。このような要因が、例3による実装基板の信頼性の低下を招いたことが考えられる。   As shown in Table 1, the thickness of the glass epoxy substrate is significantly larger than the thickness of PET. It is considered that such a factor has caused a decrease in the reliability of the mounting board according to Example 3.

以上の事項を考慮すると、SnBi半田などの低融点半田を用いて実装基板を作製する場合、配線基板として、厚みが小さく、かつ幅方向における熱膨張率と厚み方向における熱膨張率との差が小さな樹脂基板を備えたものを用いることが好ましいと考えられる。例えば、厚みが300μm以下、より好ましくは200μm以下である樹脂基板を用いることが好適であると考えられる。   In consideration of the above matters, when a mounting board is manufactured using a low melting point solder such as SnBi solder, the thickness of the wiring board is small and the difference between the coefficient of thermal expansion in the width direction and the coefficient of thermal expansion in the thickness direction is small. It is considered preferable to use one provided with a small resin substrate. For example, it is considered suitable to use a resin substrate having a thickness of 300 μm or less, more preferably 200 μm or less.

20 積層体
21 樹脂基板
22 導電層
22a 金属箔
23 粘着層
23a 粘着剤
40 配線基板
41 実装用電極部
42 配線
44 反射層
60 実装基板
61 発光部品
62 接合層
80 照明装置
Reference Signs List 20 laminated body 21 resin substrate 22 conductive layer 22a metal foil 23 adhesive layer 23a adhesive 40 wiring board 41 mounting electrode section 42 wiring 44 reflection layer 60 mounting board 61 light emitting component 62 bonding layer 80 lighting device

Claims (4)

発光部品が実装された実装基板の製造方法であって、
可撓性を有し、白色顔料または気泡が分散されているポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、またはポリイミド樹脂からなる樹脂基板と、前記樹脂基板上に設けられた実装用電極部と、前記実装用電極部と前記樹脂基板との間に介在されている粘着層と、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部および前記発光部品と重ならない領域に設けられ、少なくとも部分的に前記粘着層に重なり、白色顔料が分散された反射層と、を備えた配線基板を準備する工程と、
前記配線基板の前記実装用電極部上に発光部品を実装する実装工程と、を備え、
前記実装工程は、前記実装用電極部上に接合層を設ける工程と、前記接合層が設けられた前記実装用電極部上に前記発光部品を載置する工程と、前記配線基板を加熱して前記接合層を溶融させる工程と、を含み、
前記接合層は、錫およびビスマスを含み、150℃以下の温度で融解する低融点半田を含み、
前記粘着層は、少なくとも部分的に、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部及び前記反射層と重ならない領域にまで広がっている、実装基板の製造方法。
A method of manufacturing a mounting board on which a light emitting component is mounted,
A resin substrate made of a polyester resin, an epoxy resin, or a polyimide resin having flexibility and having white pigments or bubbles dispersed therein, a mounting electrode portion provided on the resin substrate, and the mounting electrode portion wherein the adhesive layer is interposed between the resin substrate, provided in a region where the does not overlap with the mounting electrode part and the light emitting part when viewed along the normal direction of the resin substrate, at least in part and A step of preparing a wiring board comprising: a reflective layer that overlaps with the adhesive layer and has a white pigment dispersed therein;
Mounting a light emitting component on the mounting electrode portion of the wiring board,
The mounting step is a step of providing a bonding layer on the mounting electrode section, a step of mounting the light emitting component on the mounting electrode section provided with the bonding layer, and heating the wiring board. Melting the bonding layer,
The bonding layer may include tin and bismuth, viewed contains a low melting point solder melts at 0.99 ° C. below the temperature,
The method of manufacturing a mounting substrate, wherein the adhesive layer extends at least partially to a region that does not overlap with the mounting electrode portion and the reflective layer when viewed along a normal direction of the resin substrate .
前記樹脂基板の厚みは、10μm〜300μmの範囲内である、請求項1に記載の実装基板の製造方法。   The method according to claim 1, wherein a thickness of the resin substrate is in a range of 10 μm to 300 μm. 発光部品が実装された実装基板であって、
可撓性を有し、白色顔料または気泡が分散されているポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、またはポリイミド樹脂からなる樹脂基板と、前記樹脂基板上に設けられた実装用電極部と、前記実装用電極部と前記樹脂基板との間に介在されている粘着層と、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部および前記発光部品と重ならない領域に設けられ、少なくとも部分的に前記粘着層に重なり、白色顔料が分散された反射層と、を備えた配線基板と、
前記配線基板の前記実装用電極部上に実装された発光部品と、を備え、
前記配線基板の前記実装用電極部と前記発光部品との間には、接合層が介在されており、
前記接合層は、錫およびビスマスを含み、150℃以下の温度で融解する低融点半田を含み、
前記粘着層は、少なくとも部分的に、前記樹脂基板の法線方向に沿って見た場合に前記実装用電極部及び前記反射層と重ならない領域にまで広がっている、実装基板。
A mounting board on which a light emitting component is mounted,
A resin substrate made of a polyester resin, an epoxy resin, or a polyimide resin having flexibility and having white pigments or bubbles dispersed therein, a mounting electrode portion provided on the resin substrate, and the mounting electrode portion wherein the adhesive layer is interposed between the resin substrate, provided in a region where the does not overlap with the mounting electrode part and the light emitting part when viewed along the normal direction of the resin substrate, at least in part and A wiring board comprising a reflective layer, which is superimposed on the adhesive layer, and in which a white pigment is dispersed,
A light-emitting component mounted on the mounting electrode portion of the wiring board,
A bonding layer is interposed between the mounting electrode portion and the light emitting component of the wiring board,
The bonding layer may include tin and bismuth, viewed contains a low melting point solder melts at 0.99 ° C. below the temperature,
The mounting substrate, wherein the adhesive layer at least partially extends to a region that does not overlap the mounting electrode portion and the reflective layer when viewed along a normal direction of the resin substrate.
前記樹脂基板の厚みは、10μm〜300μmの範囲内である、請求項3に記載の実装基板。   The mounting board according to claim 3, wherein the thickness of the resin board is in a range of 10 μm to 300 μm.
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