JP6618459B2 - 薄膜製造装置及び薄膜製造方法 - Google Patents
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Description
図1はこの発明の実施の形態1であるの薄膜製造装置50の構成を示す説明図である。同図に示すように、薄膜製造装置50は、霧化容器1及びミスト発生部3からなる霧化装置とリード線保持部である製造用ヒーター機構10とにより構成される。
図2はこの発明の実施の形態2である薄膜製造方法を実行するための薄膜製造システムの構成を示す説明図である。具体的には、薄膜製造システムを、各々が図1で示した薄膜製造装置50と等価な構成を有する4つの薄膜製造装置50A〜50Dにより構成して、実施の形態2の薄膜製造方法を実行している。
上述した実施の形態2の薄膜製造方法において、原料溶液2A〜2Dの基本態様以外に、以下に示す他の態様の混合溶液が考えられる。
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。
2,2A〜2D 原料溶液
3,3A〜3D ミスト発生部
4 ヒーター
5 ヒートシンク
6,6A〜6D 液面センサー
7,7A〜7D 冷却機構
9 リード線付球状半導体素子
10 製造用ヒーター機構
11,12 被覆リード線
11m,12m リード線導電部
20〜24 薄膜
26 薄膜積層構造体
50,50A〜50D 薄膜製造装置
Claims (7)
- 原料溶液を収容する霧化容器と、
前記霧化容器の外部に設けられ、前記霧化容器に収容された原料溶液を霧化して液滴状の原料ミストを得るミスト発生部と、
前記霧化容器の上部に設置され、周囲が絶縁物で被覆された被覆リード線の一方端を固定して保持するリード線保持部とを備え、前記被覆リード線の他方端は導電部が露出され、前記原料溶液に浸かることなく前記霧化容器内に配置され、
前記リード線保持部は、
加熱機能を有するヒーターと、
前記ヒーターに連結して設けられ、底面に前記被覆リード線の一方端が取り付けられ、前記ヒーターからの熱を前記被覆リード線に伝導する熱伝導部とを有し、
前記被覆リード線が前記リード線保持部に保持された状態で、前記ヒーターから熱を発生させるとともに、前記ミスト発生部によって前記霧化容器内に原料ミストを生成させる薄膜形成処理を行うことを特徴とする、
薄膜製造装置。 - 請求項1記載の薄膜製造装置であって、
前記熱伝導部は前記被覆リード線を垂直方向に垂らした状態で前記被覆リード線の他方端が最下方になるように、前記被覆リード線を保持する、
薄膜製造装置。 - 請求項1または請求項2記載の薄膜製造装置であって、
前記霧化容器は原料溶液が収容される高さの下部領域に冷却機構を設けたことを特徴とする、
薄膜製造装置。 - 請求項1から請求項3のうち、いずれか1項に記載の薄膜製造装置であって、
前記ミスト発生部は超音波振動子であることを特徴とする、
薄膜製造装置。 - 複数の薄膜製造装置を有する薄膜製造システムを用いて行う薄膜製造方法であって、
前記複数の薄膜製造装置はそれぞれ、請求項1から請求項4のうちいずれか1項に記載の薄膜製造装置であり、
前記霧化容器は前記複数の薄膜製造装置に対応した複数の霧化容器を含み、
前記原料溶液は前記複数の薄膜製造装置に対応した複数の原料溶液を含み、
前記ミスト発生部は前記複数の薄膜製造装置に対応した複数のミスト発生部を含み、
前記リード線保持部は、前記複数の薄膜製造装置間で共用され、前記複数の霧化容器それぞれに対し着脱可能であり、
前記複数の製造装置間において、
所定の順序に沿って前記リード線保持部を前記霧化容器に設置し、前記リード線保持部が設置された状態で前記薄膜形成処理を各1回実行することを特徴とする、
薄膜製造方法。 - 請求項5記載の薄膜製造方法であって、
前記複数の薄膜製造装置は前記所定の順序に沿って最後の前記薄膜形成処理を実行する最終薄膜製造装置を含み、前記複数の原料溶液は前記最終薄膜製造装置に対応する最終原料溶液を含み、
前記最終原料溶液は透明導電膜用の原料溶液である、
薄膜製造方法。 - 請求項6記載の薄膜製造方法であって、
前記最終薄膜製造装置による最後の前記薄膜形成処理に先がけて、
前記熱伝導部の底面に他方端の導電部が露出した第2の被覆リード線の一方端を取り付け、前記被覆リード線の他方端に近接して前記第2の被覆リード線の他方端が位置するように配置する事前準備処理を実行することを特徴とする、
薄膜製造方法。
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