JP6607074B2 - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は抵抗素子の構成例を示す図である。
ところで、各種抵抗素子は、その抵抗値が温度によって変化し得る。このような抵抗素子の温度依存性は、例えば、抵抗素子の幅等のサイズ、含まれる不純物種や不純物濃度によって調整される。
図2及び図3にはそれぞれ、幅Wが0.1μm,10μmのポリシリコンの温度[℃]と抵抗値比[%]との関係の一例を示している。ここで、抵抗値比は、温度25℃での抵抗値に対する、各温度での抵抗値の比率を表す。
ここで、図5は温度係数の説明図である。
RT=R25×{(T−25)×A+1}・・・(1)
この式(1)の係数Aを、温度係数TCR(Temperature Coefficient of Resistance)[ppm/℃]とする。図5の例では、n型の不純物を含むポリシリコン(n−poly)の温度係数TCRが−300ppm/℃、n型の不純物を含む拡散層(n−diff)の温度係数TCRが1600ppm/℃となる。
図6はポリシリコンの幅と温度係数との関係の一例を示す図である。
ポリシリコンのボロン濃度を2.7×1020cm-3、3.4×1020cm-3というように増加させていくと、温度係数TCRは、幅Wに関わらず低下していき、各ボロン濃度では、幅Wが大きいものの方が、比較的小さな温度係数TCRを示す。
比較的幅Wが大きいポリシリコンを用いた抵抗素子は、例えば、アナログ回路等、高い相対精度が要求される回路に使用される。比較的幅Wが小さいポリシリコンを用いた抵抗素子は、例えば、RTC(Real Time Clock)回路等、相対精度は多少犠牲にしても小面積で大抵抗を実現したい回路に使用される。いずれの場合でも、抵抗素子のポリシリコンの温度依存性、温度係数TCRは、小さいことが望ましい。
ここでは、上記図5で述べたようなn型の不純物を含むポリシリコン(n−poly)と拡散層(n−diff)との組合せを例にする。この例の場合、n型の不純物を含むポリシリコンに対する拡散層の構成比(n−diff/n−poly)と温度係数TCRの絶対値[ppm/℃]との関係は、図7のようになる。
まず、第1の実施の形態について説明する。
ここでは抵抗素子として、不純物を含む、幅Wが0.1μm,10μmのポリシリコンを用いる。ポリシリコンの不純物として、p型の不純物であるボロンを用いる。
図10〜図12は第2の実施の形態に係る抵抗素子の説明図である。
ここでは上記第1の実施の形態と同様に、抵抗素子として、不純物を含む、幅Wが0.1μm,10μmのポリシリコンを用いる。ポリシリコンの不純物として、p型の不純物であるボロンを用いる。
図13〜図15は第3の実施の形態に係る抵抗素子の説明図である。
ここでは上記第1及び第2の実施の形態と同様に、抵抗素子として、不純物を含む、幅Wが0.1μm,10μmのポリシリコンを用いる。ポリシリコンの不純物として、p型の不純物であるボロンを用いる。
ここでは、ポリシリコンを用いた抵抗素子を備える半導体装置の製造方法の一例を、第4の実施の形態として説明する。
次に、第5の実施の形態について説明する。
ここでは、ポリシリコンを用いた抵抗素子を備える半導体装置の構成例を、第5の実施の形態として説明する。
このように電気的に直列に接続された幅W1のポリシリコン11及び幅W2(>W1)のポリシリコン21を含む半導体装置1aでは、ポリシリコン11及びポリシリコン21の不純物濃度を適切に設定することで、その性能の低下が抑えられる。
図26は第5の実施の形態に係る半導体装置の第4構成例を示す図である。ここで、図26(A)は半導体装置の要部レイアウト模式図、図26(B)は図26(A)のL4−L4線に沿った断面模式図である。
同種の不純物を含むポリシリコン群では、図2〜図4及び図6に示したように、温度係数TCRがそれらの幅Wによって異なり、不純物濃度を変えると、幅Wに対する温度係数TCRの依存性が変わる。これに鑑み、図9に例示したような関係を基に、幅Wが異なるポリシリコン群に含有させる同種の不純物を、各々、温度係数TCRの正負転換点の濃度、即ち温度係数TCRの絶対値が最小になる時の濃度にする。或いは、図10及び図13に例示したような関係を基に、幅Wが異なるポリシリコン群に含有させる同種の不純物を、幅Wが小さい方はその温度係数TCRが負になる濃度、幅Wが大きい方はその温度係数TCRが正になる濃度にする。この時、幅Wが大きい方は、幅Wが小さい方と同一若しくは同等、又は低い濃度にする。
10,20,110,120,130,140,150,160 抵抗素子
10a,20a,30a 領域
11,21,31,80 ポリシリコン
11a,11b,21a,21b 端部
12,22,32 サイドウォール絶縁膜
16,26,90 シリサイドブロック膜
17,27,87 シリサイド層
30 トランジスタ
33 ゲート絶縁膜
34,35 不純物領域
40,100 基板
41,101 半導体基板
42,42a,42b,42c,42d,102 絶縁膜
50,51,52,53 レジスト
50a,51a,52a,53a 開口部
60 層間絶縁膜
71 コンタクト
72,72a,72b,72c,72d,72e 配線
100a 表面
W1,W2,W3,Wa,Wb,Wc 幅
T1,T2,T3 厚さ
CX,CY,CZ,CZ1 濃度
Claims (19)
- 第1濃度の第1不純物を含み、第1幅を有する第1ポリシリコンと、
前記第1濃度よりも低い第2濃度の前記第1不純物を含み、前記第1幅よりも大きい第2幅を有する第2ポリシリコンと
を含み、
前記第1ポリシリコンは、前記第1濃度で温度係数の正負が転換し、
前記第2ポリシリコンは、前記第2濃度で温度係数の正負が転換し、
前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に接続された抵抗素子であることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1濃度と前記第2濃度とはいずれも、1×1020cm−3以上1×1021cm−3以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1不純物は、p型の不純物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に直列に接続されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、連続した一体のポリシリコンであることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に並列に接続されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとが電気的に接続される部分にシリサイド層を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体装置。
- 第1濃度の第1不純物を含み、負の温度係数を有し、第1幅を有する第1ポリシリコンと、
前記第1濃度と同一の第2濃度の前記第1不純物を含み、正の温度係数を有し、前記第1幅よりも大きい第2幅を有する第2ポリシリコンと
を含み、
前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に接続された抵抗素子であることを特徴とする半導体装置。 - 第1濃度の第1不純物を含み、負の温度係数を有し、第1幅を有する第1ポリシリコンと、
前記第1濃度よりも低い第2濃度の前記第1不純物を含み、正の温度係数を有し、前記第1幅よりも大きい第2幅を有する第2ポリシリコンと
を含み、
前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に接続された抵抗素子であることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1濃度と前記第2濃度とはいずれも、1×1020cm−3以上1×1021cm−3以下であることを特徴とする請求項8又は9に記載の半導体装置。
- 前記第1不純物は、p型の不純物であることを特徴とする請求項8乃至10のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に直列に接続されることを特徴とする請求項8乃至11のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、連続した一体のポリシリコンであることを特徴とする請求項12に記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に並列に接続されることを特徴とする請求項8乃至11のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとが電気的に接続される部分にシリサイド層を有することを特徴とする請求項8乃至14のいずれかに記載の半導体装置。
- 第1幅を有する第1ポリシリコンと、前記第1幅よりも大きい第2幅を有する第2ポリシリコンとの、第1不純物の濃度と温度係数との関係を取得する工程と、
前記関係を基に、前記第1ポリシリコンの前記第1不純物の第1濃度と、前記第2ポリシリコンの前記第1不純物の第2濃度とを設定する工程と、
前記第1濃度の前記第1不純物を含む前記第1ポリシリコンと、前記第2濃度の前記第1不純物を含む前記第2ポリシリコンとを形成する工程と
を含み、
前記第1ポリシリコンの温度係数の正負が転換する濃度から、前記第2ポリシリコンの温度係数の正負が転換する濃度までの間の濃度となるように、前記第1濃度と前記第2濃度とが設定され、
前記第1ポリシリコンと前記第2ポリシリコンとは、電気的に接続された抵抗素子であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第2濃度は、前記第1濃度よりも低く、
前記第1ポリシリコンは、前記第1濃度で温度係数の正負が転換し、
前記第2ポリシリコンは、前記第2濃度で温度係数の正負が転換することを特徴とする請求項16に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1濃度の前記第1不純物を含む前記第1ポリシリコンは、負の温度係数を有し、
前記第2濃度の前記第1不純物を含む前記第2ポリシリコンは、正の温度係数を有することを特徴とする請求項16に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2濃度は、前記第1濃度と同一か又は前記第1濃度よりも低いことを特徴とする請求項18に記載の半導体装置の製造方法。
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