JP6606568B2 - 光学ガラスおよび光学素子 - Google Patents
光学ガラスおよび光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6606568B2 JP6606568B2 JP2018053909A JP2018053909A JP6606568B2 JP 6606568 B2 JP6606568 B2 JP 6606568B2 JP 2018053909 A JP2018053909 A JP 2018053909A JP 2018053909 A JP2018053909 A JP 2018053909A JP 6606568 B2 JP6606568 B2 JP 6606568B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- content
- optical
- optical glass
- preferable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 title claims description 148
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 44
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 145
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 31
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 84
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 49
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 18
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 18
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 17
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 16
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 16
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 15
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 15
- 101710194948 Protein phosphatase PhpP Proteins 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 13
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 11
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 6
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 4
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- AOLPZAHRYHXPLR-UHFFFAOYSA-I pentafluoroniobium Chemical compound F[Nb](F)(F)(F)F AOLPZAHRYHXPLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- -1 glass for laser Chemical class 0.000 description 2
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001341 alkaline earth metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
フツリン酸ガラスは、上記の優れた光学特性を有することから、高次の色収差を補正するための光学素子材料として利用価値が高い。
このようなフツリン酸ガラスの例が、特許文献1〜4に記載されている。
フツリン酸ガラスについて上記のようなガラスの表面品質の低下を抑制するためには、フツリン酸ガラスの化学的耐久性を高めることが望ましい。
必須成分として、P5+、Al3+、Nb5+、O2−およびF−を含み、
P5+の含有量に対するAl3+の含有量のモル比(Al3+/P5+)が0.30以上、
Nb5+の含有量が1.0カチオン%以上、
O2−の含有量が10〜85アニオン%、
F−の含有量が15〜90アニオン%、
P5+およびNb5+の合計含有量に対するO2−の含有量のモル比(O2−/(P5++Nb5+))が3.0以上、
である光学ガラス(以下、「光学ガラス1」とも記載する。)、
に関する。
正の異常分散性の指標としては、部分分散比Pg,Fが使用されている。部分分散比Pg,Fは、F線(波長486.13nm)における屈折率nF、C線(波長656.27nm)におけるnCならびにg線(波長435.84nm)における屈折率ngを用い、次式のように表される。
Pg,F=(ng−nF)/(nF−nC) ・・・(1)
ガラス中に含まれるNbは、紫外域の固有吸収波長が可視域に近く、更に吸収強度も大きいことが知られている。これにより屈折率の波長分散は高分散化する傾向を示す。すなわち、F線とC線の屈折率差nF−nCが大きくなり、アッベ数νdは小さくなる傾向を示す。一方で、g線とF線の屈折率差ng−nFも大きくなる。
ここで、ng−nFを大きくする効果がnF−nCを大きくする効果を上回れば、(1)式より明らかなように、Pg,Fは大きくなる。
本発明者らは、この点に着目し、ガラス成分としてNbを導入して、低分散性(νdが大きい)を従来のフツリン酸ガラスと同程度の範囲に維持しつつ、部分分散比Pg,Fを大幅に増加できることを見出した。
しかしながら、Nbを含有するフツリン酸ガラスは、その熔融過程で、ガラス融液からNbが揮発しやすい。熔融過程でNbとFが結合するとフッ化ニオブが生成される。フッ化ニオブは蒸気圧が高く、ガラス融液から揮発しやすい。
部分分散比を高めるために導入したNbが、揮発を助長しないようにするため、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の知見を得た。
P5+は、ガラス中で−O−P−O−の構造で存在し、ガラスのネットワーク形成に寄与していると考えられる。P5+と価数が等しいNb5+も、−O−P−O−構造においてPの位置を占めることによりガラスのネットワーク形成に寄与すると考えられる。
Nb5+がネットワーク構造に取り込まれると、蒸気圧が高いフッ化ニオブが生成されにくくなり、その結果、ガラスの揮発性が低下すると考えられる。
ただし、Nb5+がネットワーク構造に取り込まれるには、十分な数のO2−が必要になる。Nb5+が存在する場合について考えると、ネットワークを構成する陽イオン(P5+およびNb5+)の合計含有量に対するO2−の含有量のモル比(O2−/(P5++Nb5+))が3.0以上であれば、Nb5+がネットワークに取り込まれやすくなることにより、揮発性の増大を抑制することができる。
本発明者らは、以上の知見に基づいて、上記の本発明の一態様にかかる光学ガラスを完成させた。
フツリン酸ガラスからなる光学ガラスであって、
NaOH水溶液中に15時間浸漬したときの単位面積当たりの質量減少量DNaOHが0.25mg/(cm2・15h)未満であり、かつ
アッベ数νdと部分分散比Pg,Fとが下記(4)式:
Pg,F > −0.0004νd+0.5718 ・・・(4)
を満たす光学ガラス(以下、「光学ガラス2」とも記載する。)、
に関する。
また、本発明の他の一態様によれば、フツリン酸ガラスであって、部分分散比が大きく色収差補正に好適であり、かつ優れた化学的耐久性を有する光学ガラスを提供することができ、上記光学ガラスからなる光学素子を提供することができる。
ここで、「カチオン%」とは、「(注目するカチオンの個数/ガラス成分のカチオンの総数)×100」で算出される値であって、注目するカチオン量のカチオン成分の総量に対するモル百分率を意味する。
また、「アニオン%」とは、「(注目するアニオンの個数/ガラス成分のアニオンの総数)×100」で算出される値であって、注目するアニオン量のアニオン成分の総量に対するモル百分率を意味する。
カチオン成分同士の含有量のモル比は、注目するカチオン成分のカチオン%表示による含有量の比に等しく、アニオン成分同士の含有量のモル比は、注目するアニオン成分のアニオン%表示による含有量の比に等しい。
カチオン成分の含有量とアニオン成分の含有量のモル比は、すべてのカチオン成分とすべてのアニオン成分の総量を100モル%としたときの注目する成分同士の含有量(モル%表示)の比率である。
なお、各成分の含有量は、公知の方法、例えば、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP−AES)、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP−MS)、イオンクロマトグラフィ法等により定量することができる。
<ガラス成分>
以下、本発明の一態様にかかる光学ガラス1について説明する。
P5+は、ネットワーク形成成分としての働きがある。Al3+は、ガラスの熱的安定性を維持し、化学的耐久性や加工性を改善する働きをする成分である。ガラスの熱的安定性を良好に維持する上から、P5+の含有量に対するAl3+の含有量のモル比(Al3+/P5+)は0.30以上である。アッベ数を維持した状態で、屈折率を高める上で、モル比(Al3+/P5+)を0.30以上とすることが効果的である。
モル比(Al3+/P5+)の好ましい下限は0.5である。一方、ガラスの熱的安定性を良好に維持する上から、モル比(Al3+/P5+)の好ましい上限は2、より好ましい上限は1である。
以上の観点から、F−の含有量は15〜90アニオン%である。F−の含有量の好ましい下限は20%、より好ましい下限は25%であり、更に好ましい下限は28.86%であり、一層好ましい下限は30%であり、好ましい上限は80%、より好ましい上限は70%である。
一方、アルカリ土類金属成分の合計含有量R2+が過剰になると熱的安定性が低下する傾向を示すため、アルカリ土類金属成分の合計含有量R2+が50%以下であることが好ましい。R2+のより好ましい上限は45%、更に好ましい上限は40%である。
ガラスの比重の増大を抑えるとともに、一定の屈折率に対して分散を低減する上で、Al3+の含有量に対するLa3+、Gd3+、Y3+、Lu3+およびYb3+の合計含有量(La3++Gd3++Y3++Lu3++Yb3+)のモル比((La3++Gd3++Y3++Lu3++Yb3+)/Al3+)が0.3以下であることが好ましい。モル比((La3++Gd3++Y3++Lu3++Yb3+)/Al3+)のより好ましい上限は0.2、更に好ましい上限は0.1である。モル比((La3++Gd3++Y3++Lu3++Yb3+)/Al3+)が0であってもよい。
なお、原子%で表示されるガラス組成における各成分の含有量は、全カチオン成分と全アニオン成分の合計含有量を100モル%としたときの各成分の含有量をモル百分率で表した値として算出される。
Mg2+の含有量の好ましい範囲は0〜10%、より好ましい範囲は0〜8%である。
Ca2+の含有量の好ましい範囲は0〜20%、より好ましい範囲は0〜15%である。
Sr2+の含有量の好ましい範囲は0〜40%、より好ましい範囲は0〜30%である。
Ba2+の含有量の好ましい下限は5%、より好ましい下限は10%、好ましい上限は50%、より好ましい上限は40%である。
La3+の含有量の好ましい範囲は0〜5%、より好ましい範囲は0〜3%である。
Gd3+の含有量の好ましい範囲は0〜5%、より好ましい範囲は0〜3%である。
Y3+の含有量の好ましい範囲は0〜5%、より好ましい範囲は0〜3%である。
Lu3+の含有量の好ましい範囲は0〜5%、より好ましい範囲は0〜3%である。
一方、ガラス転移温度を低くする観点から、R+の好ましい下限は1%、より好ましい下限は2%、更に好ましい下限は3%である。
アルカリ金属成分R+として、Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+を示すことができる。Rb+、Cs+は他のアルカリ金属成分と比較し、ガラスの比重増大を招きやすい。
したがって、Rb+の含有量は0〜3%であることが好ましく、0〜2%であることがより好ましく、0〜1%であることが更に好ましく、0%であってもよい。
Cs+の含有量は0〜3%であることが好ましく、0〜2%であることがより好ましく、0〜1%であることが更に好ましく、0%であってもよい。
ガラスの熱的安定性を維持する上から、Li+の含有量の好ましい範囲は0〜30%、より好ましい範囲は2〜20%、更に好ましい範囲は4〜10%である。
ガラスの熱的安定性を維持する上から、Na+の含有量の好ましい範囲は0〜10%、より好ましい範囲は0〜8%、更に好ましい範囲は0〜6%である。
ガラスの熱的安定性を維持する上から、K+の含有量の好ましい範囲は0〜10%、より好ましい範囲は0〜8%、更に好ましい範囲は0〜6%である。
そのため、上記光学ガラス1は、Pb、Cd、AsおよびThの少なくとも一つを実質的に含まないことが好ましい。
Pb2+の含有量が0〜0.5%であることが好ましく、0〜0.1%であることがより好ましく、0〜0.05%であることが一層好ましく、Pb2+を実質的に含まないことが特に好ましい。
Cd2+の含有量が0〜0.5%であることが好ましく、0〜0.1%であることがより好ましく、0〜0.05%であることが一層好ましく、Cd2+を実質的に含まないことが特に好ましい。
As3+の含有量が0〜0.1%であることが好ましく、0〜0.05%であることがより好ましく、0〜0.01%であることが一層好ましく、As3+を実質的に含まないことが特に好ましい。
Th4+の含有量が0〜0.1%であることが好ましく、0〜0.05%であることがより好ましく、0〜0.01%であることが一層好ましく、Th4+を実質的に含まないことが特に好ましい。
また、Hf、Ga、Ge、Te、Tbは、高価な成分である。そのため、光学ガラス1はh、Hf、Ga、Ge、TeおよびTbの少なくとも一つを実質的に含まないことが好ましい。カチオン%表示によるHf、Ga、Ge、Te、Tbの含有量の範囲は、いずれの元素とも、0〜0.1%であることが好ましく、0〜0.05%であることがより好ましく、0〜0.01%であることが更に好ましく、0〜0.005%であることが一層好ましく、0〜0.001%であることがより一層好ましく、実質的に含まれないことが特に好ましい。
上記光学ガラスは、Hf、Ga、Ge、Te、Tbを導入することなく、各種特性を示すことができる。
(アッベ数νd、屈折率nd)
上記光学ガラス1において、異常部分分散性を活かす上から、アッべ数νdが45以上の範囲であることが好ましい。
アッベ数νdは分散に関する性質を表す値であり、d線、F線、C線における各屈折率nd、nF、nCを用いてνd=(nd−1)/(nF−nC)と表される。
アッベ数νdの好ましい上限は80、より好ましい上限は70である。一方、低分散性を活かすためには、アッベ数νdの好ましい下限は45、より好ましい下限は50、更に好ましい下限は55である。
上記光学ガラス1において、好ましい屈折率ndの範囲は下記(2)式を満たす範囲であり、より好ましい屈折率ndの範囲は下記(3)式を満たす範囲である。
nd≧1.80653−0.00459×νd ・・・(2)
nd≧1.84303−0.00459×νd ・・・(3)
上記光学ガラス1は、好ましくは正の異常分散性を示す。異常分散性はΔPg,Fによって定量的に表される。g線、F線、C線における各屈折率ng、nF、nCを用いて、部分分散比Pg,Fは、先に示した(1)式(Pg,F=(ng−nF)/(nF−nC))により算出される。
アッベ数νdが45以上の市販されている低分散ガラスとしては、HOYA製FCD100や、FCD515等が知られている。
横軸をアッベ数νd、縦軸を部分分散比Pg,Fとするグラフにおいて、座標(95.1 0.5334)にFCD100をプロットし、座標(68.63 0.5441)にFCD515をプロットして、上記2点を結ぶ直線Lを考える。この直線Lは凡そ、「Pg,F=−0.0004νd+0.5718」と表される。
図2に直線Lを図示する。
図2に示すように、アッベ数νdが45以上の市販されている低分散ガラス(既存のガラス)は、アッベ数νd−部分分散比Pg,Fのグラフにおいて直線Lの線上または直線Lよりも部分分散比Pg,Fが小さい側に位置する。
上記光学ガラス1は、好ましい態様では、アッベ数νdと部分分散比Pg,Fが下記(4)式を満たす。
Pg,F > −0.0004νd+0.5718 ・・・(4)
アッベ数νdが45以上であり、かつ上記(4)式を満たす光学ガラスは、特定のアッベ数νdに対して部分分散比Pg,Fが大きく、高次の色収差補正用の光学ガラスとして好適である。
上記光学ガラス1は、好ましくは着色が極めて少なく、カメラレンズ等の撮像用の光学素子や、プロジェクタ等の投射用の光学素子の材料として好適である。
上記光学ガラス1の好ましい態様は、波長400nm〜700nm、厚さ10mmにおける内部透過率が96.5%以上のガラスである。
上記内部透過率の好ましい範囲は97%以上、更に好ましい範囲は98%以上、一層好ましい範囲は99%以上である。
なお、レーザー用ガラス等の発光イオン、例えばNd、Eu、Er、V等を含むガラスは、可視域において吸収を有するため、カメラレンズ等の撮像用の光学素子や、プロジェクタ等の投射用の光学素子の材料には向いていない。
上記光学ガラス1の好ましい態様は、ガラス転移温度Tgが550℃以下の光学ガラスである。ガラス転移温度が低いと、ガラスを再加熱、軟化してプレス成形する際の加熱温度を低くすることができる。その結果、ガラスとプレス成形型との融着を抑制しやすくなる。また加熱温度を低くすることができるので、ガラスの加熱装置、プレス成形型等の熱的消耗を低減することもできる。更に、ガラスのアニール温度も低くすることができるので、アニール炉の寿命を延ばすことができる。ガラス転移温度のより好ましい範囲は530℃以下、更に好ましい範囲は500℃以下である。
上記光学ガラス1の好ましい態様は、液相温度が850℃以下の光学ガラスである。液相温度が低いと、ガラスの熔融、成形温度を低下させることができる。その結果、熔融、成形時のガラスの揮発性を低減することができ、脈理の発生、光学特性の変動を抑制することができる。
液相温度のより好ましい範囲は800℃以下、更に好ましい範囲は750℃以下である。
上記光学ガラス1は、部分分散比を増加させるものの比重も増加させる希土類に頼らず、主としてNb5+の含有により部分分散比を高めることができ、部分分散比が大きいフツリン酸ガラスの中で比較的比重が小さい。
上記光学ガラス1の好ましい態様は、比重が4.2以下の光学ガラスである。比重を小さくすることにより光学素子を軽量化することができる。
比重のより好ましい範囲は4.1以下、更に好ましい範囲は4以下である。
以下、以下、本発明の一態様にかかる光学ガラス2について説明する。
上記光学ガラス2は、アッベ数νdと部分分散比Pg,Fが下記(4)式を満たす。
Pg,F > −0.0004νd+0.5718 ・・・(4)
アッベ数νdと部分分散比Pg,Fが上記(4)式を満たす上記光学ガラス2は、高次の色収差補正用の光学ガラスとして好適である。
また、上記光学ガラス2において、異常部分分散性を活かす上から、アッべ数νdは45以上の範囲であることが好ましい。アッベ数νdの好ましい上限は80、より好ましい上限は70である。一方、低分散性を活かすためには、アッベ数νdのより好ましい下限は50、更に好ましい下限は55である。
(DNaOH)
上記光学ガラス2は、NaOH水溶液中に15時間浸漬したときの単位面積当たりの質量減少量DNaOHが0.25mg/(cm2・15h)未満である化学的耐久性を有する。
上記質量減少量DNaOHは、以下の方法により求められる。
まず、直径43.7mm、厚さ5mmの円板状のガラス試料を用意する。直径43.7mmの対向する2つの表面は対面研磨されており、側面は下記の水酸化ナトリウム(NaOH)の水溶液に対して化学的耐久性のあるテープ(例えば、ポリイミドテープ等)を貼り付ける等の方法によりマスキングする。したがって、円板状のガラス試料の上記2つの表面が下記の水酸化ナトリウム(NaOH)の水溶液に晒される。これら2つの表面の面積の合計(以下、「ガラス試料の表面積」と記載する。)は、30cm2である。
次にガラス試料の質量Mbeforeを測定した後、液温50℃、濃度0.01mol /lの十分攪拌されている水酸化ナトリウム(NaOH)の水溶液中にガラス試料を15時間浸漬し、浸漬後のガラス試料の質量Mafterを測定する。浸漬前後の質量差(Mbefore‐Mafter)(単位:mg)を、ガラス試料の表面積で除した値が、DNaOHである。即ち、「(Mbefore‐Mafter)/30」により求められる値が、DNaOHである。
上記光学ガラス2は、DNaOHが0.25mg/(cm2・15h)未満となる化学的耐久性を備える。上記範囲のDNaOHを有する光学ガラスによれば、潜傷の顕在化等によって表面品質の低下が生じることを抑制することができる。高い表面品質を維持する上から、DNaOHは0.20mg/(cm2・15h)未満であることが好ましく、0.10mg/(cm2・15h)であることがより好ましい。DNaOHの下限は特に限定されるものではないが、例えば、0.02mg/(cm2・15h)以上を目安に考えることができる。
上記光学ガラス2は、DAが0.35%未満となる化学的耐久性を備えることが好ましい。
DAは、日本光学硝子工業会規格JOGIS06−2009に規定されている耐酸性重量減少率Daの測定方法に従って測定する。具体的には、測定方法は以下の通りである。
比重に相当する質量(Mbefore、単位:g)の粉末ガラス(粒度425μm〜600μm)を白金かごに入れ、それを石英ガラス製丸底フラスコ内の濃度0.01mol/lの硝酸水溶液80mlに浸漬し、沸騰水浴中で60分間処理し、この処理後の粉末ガラスの質量Mafter(単位:g)を測定する。上記処理前後の粉末ガラスの質量差を処理前の粉末ガラスの質量で除した値(Mbefore‐Mafter)/Mbeforeを百分率で表したもの、[(Mbefore‐Mafter)/Mbefore]×100、がDAである。上記範囲のDAを有する光学ガラスは、優れた耐酸性が求められている屋外設置の監視カメラや車載カメラに搭載する光学素子用のガラス材料として好適である。
DAの下限は特に限定されるものではないが、例えば0.20%以上を目安に考えることができる。
上記光学ガラス2は、DSTPPが0.40mg/(cm2・h)未満となる化学的耐久性を備えることも好ましい。
DSTPPの測定方法は、以下の通りである。
まず、直径43.7mm、厚さ5mmの円板状のガラス試料を用意する。直径43.7mmの対向する2つの表面は対面研磨されており、側面は下記のトリポリリン酸ナトリウムの水溶液に対して化学的耐久性のあるテープ(例えば、ポリイミドテープ等)を貼り付ける等の方法によりマスキングする。したがって、円板状のガラス試料の上記2つの表面が下記のトリポリリン酸ナトリウムの水溶液に晒される。これら2つの表面の面積の合計(ガラス試料の表面積)は、30cm2である。
次にガラス試料の質量Mbeforeを測定した後、液温50℃、濃度0.01mol/lの十分攪拌されているトリポリリン酸ナトリウム(Na5P3O10)の水溶液中に1時間浸漬し、浸漬後のガラス試料の質量Mafterを測定する。浸漬前後の質量差(Mbefore‐Mafter)(単位:mg)を、ガラス試料の表面積および浸漬時間で除した値をDSTPPとする。即ち、「(Mbefore‐Mafter)/(30×1)」により求められる値が、DSTPPである。
上記光学ガラス2は、DSTPPが0.20mg/(cm2・h)未満となる化学的耐久性を備えることがより好ましい。DSTPPの下限は特に限定されるものではないが、例えば0.02mg/(cm2・h)以上を目安に考えることができる。
DSTPPが上記範囲内にあることにより、表面品質の低下の発生をより一層抑制することができる。
上記光学ガラス2において、D0は、5.0×10−3mg / (cm2・h)未満であることが好ましい。D0は、水に対する真の化学的耐久性と呼ばれることがある。
D0の測定方法は、以下の通りである。
まず、直径43.7mm、厚さ5mmの円板状のガラス試料を用意する。直径43.7mmの対向する2つの表面は対面研磨されており、側面は下記の純水に対して化学的耐久性のあるテープ(例えば、ポリイミドテープ等)を貼り付ける等の方法によりマスキングする。したがって、円板状のガラス試料の上記2つの表面が下記の純水に晒される。これら2つの表面の面積の合計(ガラス試料の表面積)は、30cm2である。
次にガラス試料を、質量Mbeforeを測定した後、毎分1リットルの速度でイオン交換樹脂を通って循環され、水温50℃、pH=7.0±0.2に保たれ、十分攪拌されている純水中に浸漬する。上記純水中に20時間以上(好ましくは40時間以上)浸漬した後のガラス試料の質量Mafterを測定する。浸漬前後の質量差(Mbefore‐Mafter)(単位:mg)を、ガラス試料の表面積と浸漬時間で除した値をD0とする。即ち、「(Mbefore‐Mafter)/(30×浸漬時間(単位:時間))」により求められる値が、D0である。
D0が上記範囲であることにより、洗浄や高湿環境下でのガラスの表面品質の低下を抑制することができる。D0の下限は特に限定されるものではないが、例えば0.4×10−3mg/(cm2・h)以上を目安に考えることができる。
上記光学ガラス2は、Nb5+を含むことが好ましい。
Nb5+は、部分分散比を増加させるとともに、化学的耐久性を向上させる働きを有し、中でもDNaOHおよびDAの値を低下させる働きをする。このような効果を得る上から、Nb5+の含有量の好ましい範囲は1.0%以上、より好ましい範囲は1.5%以上、更に好ましい範囲は2%以上、一層好ましい範囲は2.5%以上、より一層好ましい範囲は3%以上である。また、Nb5+の含有により、ガラスの熱的安定性を維持する効果を得ることもできる。ガラス熔融時の揮発性を抑える上から、Nb5+の含有量の好ましい上限は15%である。
上記光学ガラス1および2は、例えば所要の特性が得られるようにガラス原料を調合、熔融、成形することにより得ることができる。ガラス原料としては、例えばリン酸塩、フッ化物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等を用いればよい。ガラスの熔融法、成形法については公知の方法を用いればよい。
本発明の一態様によれば、上記光学ガラス1または上記光学ガラス2からなるプレス成形用ガラス素材、上記光学ガラスからなるガラス成形体、おおびそれらの製造方法を提供することができる。
プレス成形用ガラス素材とは、加熱して、プレス成形に供されるガラス塊を意味する。
プレス成形用ガラス素材の例としては、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子ブランクをプレス成形するためのガラス素材(プレス成形用ガラスゴブ)等のプレス成形品の質量に相当する質量を有するガラス塊を示すことができる。
プレス成形用ガラス素材は、ガラス成形体を加工する工程を経て作製される。ガラス成形体は上記のようにガラス原料を加熱、熔融し、得られた熔融ガラスを成形して作製することができる。ガラス成形体の加工法としては、切断、研削、研磨等を例示することができる。
本発明の一態様によれば、上記光学ガラス1または上記光学ガラス2からなる光学素子ブランクを提供することができる。光学素子ブランクは、製造しようとする光学素子の形状に近似する形状を有するガラス成形体である。光学素子ブランクは、製造しようとする光学素子の形状に加工によって除去する加工代を加えた形状にガラスを成形する方法等により作製すればよい。例えば、プレス成形用ガラス素材を加熱、軟化してプレス成形する方法(リヒートプレス法)、公知の方法で熔融ガラス塊をプレス成形型に供給しプレス成形する方法(ダイレクトプレス法)等により光学素子ブランクを作製することができる。
本発明の一態様によれば、上記光学ガラス1または上記光学ガラス2からなる光学素子を提供することができる。光学素子の種類としては、球面レンズ、非球面レンズ等のレンズ、プリズム、回折格子等を例示することができる。レンズの形状としては、両凸レンズ、平凸レンズ、両凹レンズ、平凹レンズ、凸メニスカスレンズ、凹メニスカスレンズ等の諸形状を示すことができる。光学素子は、上記光学ガラスからなるガラス成形体を加工する工程を含む方法により製造することができる。加工としては、切断、切削、粗研削、精研削、研磨等を例示することができる。こうした加工を行う際、上記光学ガラスを使用することにより、破損を軽減することができ、高品質の光学素子を安定して供給することができる。
表1に示すガラス組成になるように、各成分を導入するための原料としてそれぞれ相当するリン酸塩、フッ化物、酸化物等を用い、原料を秤量し、十分に混合して調合原料とした。
この調合原料を白金製の坩堝に入れ、加熱、熔融した。熔融後、熔融ガラスを鋳型に流し込み、ガラス転移温度付近まで放冷してから直ちにアニール炉に入れ、ガラスの転移温度範囲で約1時間アニール処理した後、炉内で室温まで放冷することにより、表1に示す各光学ガラスを得た。
得られた光学ガラスを光学顕微鏡により拡大観察したところ、結晶の析出、白金粒子等の異物、泡は認められず、脈理も見られなかった。
このようにして得られた光学ガラスの諸特性を表1に示す。
光学ガラスの諸特性は、以下に示す方法により測定した。
降温速度−30℃/時間で降温して得られたガラスについて、日本光学硝子工業会規格の屈折率測定法により、屈折率nd、ng、nF、nC、アッベ数νdを測定した。
また、図1に、上記各光学ガラスのアッベ数νdと屈折率ndをプロットする。
屈折率ng、nF、nCから部分分散比Pg,Fを算出するとともに、アッベ数νdから算出されるノーマルライン上の部分分散比Pg,F(0)からの偏差ΔPg,Fを算出した。
表1には、屈折率nd、アッベ数νdならびにng、nF、nCより算出したPg,FとΔPg,Fを示す。
また、図2に、上記各光学ガラスのアッベ数νdと部分分散比Pg,Fをプロットする。
NETZSCH社製の示差走査熱量分析装置(DSC3300)を使用し、昇温速度10℃/分にしてガラス転移温度Tgを測定した。
白金坩堝内にガラス50gを入れ、白金の蓋をした状態で1100℃、20分後で熔解した後、所定の温度で2時間保持した。2時間保持した後のガラスを観察し、結晶析出の有無から液相温度LTを求めた。
表1に示す各ガラスについて、上記の方法によりガラスを850℃で2時間保持した後、目視および光学顕微鏡を用いた拡大観察(100倍)を行った結果、結晶の析出は認められなかった。
したがって、表1に示す各ガラスの液相温度LTは850℃以下である。
アルキメデス法により比重を測定した。
ガラスバッチ(収量で150〜200g)を白金坩堝へ充填させ白金の蓋をして質量Xを測定した後、1050℃で1.5時間熔解した。その後、熔融ガラスを鋳型にキャストする直前に再度、中に熔融ガラスが入っており白金の蓋がしてある白金坩堝の質量Yを測定し、質量変化率(X−Y)/Xを求めた。収量が150gになるようにガラスバッチを用意すると、Xは150gとなり、収量が200gになるようにガラスバッチを用意すると、Xは200gとなる。
ガラスバッチが炭酸塩を含む場合は、熔解中に炭酸塩中のCO2が排出される。ガラスバッチが硫酸塩、硝酸塩、水酸化物を含む場合は、SO3、NO2、H2Oが熔解中に排出される。
ガラスバッチに含まれるCO2、SO3、NO2、H2Oといったガス成分の質量を予め算出しておき、ガラスバッチの質量からガス成分の質量を差し引いた値が質量Xになるようにガラスバッチを調製すればよい。
表1において、質量変化率が2%以下のものをA、質量変化率が2%より大きく4%以下のものをB、質量変化率が4%より大きいものをCとした。
なお、表1に示す実施例の各ガラスについて、日本光学硝子工業会規格の内部透過率測定(JOGIS−17)に従い、厚さ10mmでの内部透過率を測定したところ、すべての試料において96.50%以上の透過率を有していた。
直径43.7mm、厚さ5mmの円板状のガラス試料(2つの表面は対面研磨されている)を液温50℃、濃度0.01mol /lの十分攪拌されている水酸化ナトリウム(NaOH)の水溶液中に15時間浸漬し、浸漬前後の質量減少量を、ガラス試料の表面積で除した値をDNaOHとした。
比重に相当する質量(g)の粉末ガラス(粒度425μm〜600μm)を白金かごに入れ、それを石英ガラス製丸底フラスコ内の濃度0.01mol/lの硝酸水溶液80mlに浸漬し、沸騰水浴中で60分間処理し、処理前後の粉末ガラスの質量減少量を浸漬前の粉末ガラスの質量で除した値の百分率を、DAとした。
直径43.7mm、厚さ5mmの円板状のガラス試料を液温50℃、濃度0.01mol /lの十分攪拌されているトリポリリン酸ナトリウム(Na5P3O10)の水溶液中に1時間浸漬し、浸漬前後の質量減少量を、ガラス試料の表面積および浸漬時間で除した値を、DSTPPとした。
直径43.7mm、厚さ5mmの円板状のガラス試料を、毎分1リットルの速度でイオン交換樹脂を通って循環され、水温50℃、pH=7.0±0.2に保たれ、十分攪拌されている純水中に45時間浸漬し、浸漬前後の質量差をガラス試料の単位表面積と浸漬した時間で除した値をD0とした。
表1に示す比較例1の組成を有するガラスを作製し、上記方法により、屈折率nd、アッベ数νd、部分分散比Pg,F、ガラス転移温度Tg、比重、熔解中の揮発減少量を評価した。比較例1は光学ガラス1に関する比較例のガラスであり、熔解中の揮発減少量の評価を行ったところ、質量変化率は4%よりも大きかった(評価結果C)。
表1に示す比較例2の組成を有するガラスを作製し、屈折率nd、アッベ数νd、部分分散比Pg,F、ガラス転移温度Tg、比重、熔解中の揮発減少量、DNaOHを評価した。表1に評価結果を示す。比較例2は、光学ガラス2に関する比較例のガラスであり、DNaOHが0.25mg/(cm2・15h)より大きく、かつ(4)式を満たさなかった。
上記実施例1の各光学ガラスを用いて、前述の公知の方法により、レンズブランクを作製した。作製されたレンズブランクを研削、研磨して各種レンズ(両凸レンズ、凸メニスカスレンズ、凹メニスカスレンズ、両凹レンズ、平凸レンズ、平凹レンズ)を作製した。
いずれのレンズも軽量であって、高次の色収差補正に好適なものである。
nd≧1.80653−0.00459×νd ・・・(2)
nd≧1.84303−0.00459×νd ・・・(3)
例えば、上述の例示されたガラス組成に対し、明細書に記載の組成調整を行うことにより、本発明の一態様にかかるガラスを得ることができる。
また、明細書に例示または好ましい範囲として記載した事項の2つ以上を任意に組み合わせることは、もちろん可能である。
Claims (6)
- 必須成分として、P5+、Al3+、Nb5+、アルカリ金属成分、O2−およびF−を含み、
P5+の含有量に対するAl3+の含有量のモル比(Al3+/P5+)が0.30以上、
Nb5+の含有量が1.0カチオン%以上、
アルカリ金属成分の含有量が1カチオン%以上、かつLi + の含有量が20カチオン%以下、
O2−の含有量が10〜85アニオン%、
F−の含有量が15〜90アニオン%、
P5+およびNb5+の合計含有量に対するO2−の含有量のモル比(O2−/(P5++Nb5+))が3.0以上、
原子%で表示されるガラス組成において、Al 3+ の含有量に対するO 2− の含有量の比(O 2− /Al 3+ )が10未満、
である光学ガラス。 - Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれるアルカリ土類金属成分を少なくとも一種含み、
Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+の合計含有量が20カチオン%以上である、請求項1に記載の光学ガラス。 - P5+の含有量が5〜40カチオン%、
Al3+の含有量が5〜30カチオン%、
である、請求項1または2に記載の光学ガラス。 - モル比(O2−/(P5++Nb5+))が4.0以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学ガラス。
- La3+、Gd3+、Y3+、Lu3+およびYb3+からなる群から選ばれる希土類成分を少なくとも一種含み、
Al3+の含有量に対するLa3+、Gd3+、Y3+、Lu3+およびYb3+の合計含有量(La3++Gd3++Y3++Lu3++Yb3+)のモル比((La3++Gd3++Y3++Lu3++Yb3+)/Al3+)が0.3以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学ガラス。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学ガラスからなる光学素子。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107110484A TWI687385B (zh) | 2017-03-31 | 2018-03-27 | 光學玻璃及光學元件 |
KR1020180037210A KR102077390B1 (ko) | 2017-03-31 | 2018-03-30 | 광학 유리 및 광학 소자 |
CN201810292798.XA CN108689599A (zh) | 2017-03-31 | 2018-03-30 | 光学玻璃和光学元件 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017069885 | 2017-03-31 | ||
JP2017069885 | 2017-03-31 | ||
JP2017249428 | 2017-12-26 | ||
JP2017249428 | 2017-12-26 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019190646A Division JP7219199B2 (ja) | 2017-03-31 | 2019-10-18 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019104670A JP2019104670A (ja) | 2019-06-27 |
JP6606568B2 true JP6606568B2 (ja) | 2019-11-13 |
Family
ID=67062363
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018053909A Active JP6606568B2 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-22 | 光学ガラスおよび光学素子 |
JP2019190646A Active JP7219199B2 (ja) | 2017-03-31 | 2019-10-18 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019190646A Active JP7219199B2 (ja) | 2017-03-31 | 2019-10-18 | 光学ガラスおよび光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6606568B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110467346B (zh) * | 2018-05-10 | 2021-11-19 | Hoya株式会社 | 光学玻璃和光学元件 |
WO2021039815A1 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 株式会社ニコン | 光学系、光学機器、および光学系の製造方法 |
WO2021039814A1 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 株式会社ニコン | 光学系、光学機器、および光学系の製造方法 |
TW202112690A (zh) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 日商Hoya股份有限公司 | 光學玻璃及光學元件 |
CN111995247B (zh) | 2020-09-08 | 2022-04-15 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃、光学预制件、光学元件及光学仪器 |
CN114804622B (zh) * | 2021-01-21 | 2023-08-01 | 成都光明光电股份有限公司 | 近红外特殊色散玻璃 |
CN112811815B (zh) * | 2021-01-21 | 2022-04-12 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃、玻璃预制件、光学元件和光学仪器 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2342484B2 (de) * | 1973-08-23 | 1977-12-29 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Verfahren zum herstellen eines fluorophosphatglases mit einer brechzahl n tief e groesser als 1,57, einem abbe-wert ny tief e kleiner als 70 und einer relativ hohen positiven anomalen teildispersion |
DE2514017C2 (de) * | 1975-03-29 | 1984-03-29 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Verfahren zur Herstellung eines optischen Fluorphosphatglases mit hoher positiver anomaler Teildispersion, relativ hoher Brechzahl und hoher Abbezahl |
JPS604145B2 (ja) * | 1981-01-20 | 1985-02-01 | 株式会社ニコン | 弗化物燐酸塩光学ガラス |
FR2528032B1 (fr) * | 1982-06-04 | 1986-04-11 | Corning Glass Works | Compositions de verres moulables de type fluorophosphate contenant de l'oxyde de niobium |
JPS6296346A (ja) * | 1985-10-19 | 1987-05-02 | エルンスト ライツ ヴエツラ− ゲセルシヤフトミツト ベシユレンクテル ハフツング | 異常な正の部分分散のある光学弗燐酸塩ガラスおよびその製造方法 |
JP4671647B2 (ja) * | 2003-09-16 | 2011-04-20 | 株式会社オハラ | 光弾性定数が小さい光学ガラス |
JP2013151410A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-08-08 | Ohara Inc | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
JP2015067459A (ja) * | 2013-09-26 | 2015-04-13 | 旭硝子株式会社 | フツリン酸ガラス、プレス成形用プリフォーム、および光学素子 |
CN107445475B (zh) * | 2016-06-24 | 2020-02-07 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃、光学预制件和光学元件 |
-
2018
- 2018-03-22 JP JP2018053909A patent/JP6606568B2/ja active Active
-
2019
- 2019-10-18 JP JP2019190646A patent/JP7219199B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020015662A (ja) | 2020-01-30 |
JP2019104670A (ja) | 2019-06-27 |
JP7219199B2 (ja) | 2023-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6606568B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
TWI687385B (zh) | 光學玻璃及光學元件 | |
JP5558755B2 (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
CN108529874B (zh) | 光学玻璃及光学元件 | |
JP6480722B2 (ja) | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | |
JP2010235429A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP2009256149A (ja) | 光学ガラス、その製造方法並びに光学素子および光学素子の製造方法 | |
JP5116616B2 (ja) | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法 | |
JP2013151410A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP7132884B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2020079188A (ja) | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム | |
JP5443415B2 (ja) | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法 | |
JP7090678B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP6961547B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2009286673A (ja) | 光学ガラス、プリフォーム、及び光学素子 | |
TWI781231B (zh) | 光學玻璃及光學元件 | |
JP7213736B2 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
CN111995246B (zh) | 光学玻璃、光学预制件及光学元件 | |
TWI838410B (zh) | 光學玻璃、壓製成形用玻璃原材料、光學元件坯料及光學元件 | |
JP2022179313A (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
WO2024166860A1 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2022158909A (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2022183198A (ja) | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190611 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190809 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191008 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191018 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6606568 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |