JP6605122B2 - 変性剤、変性共役ジエン系重合体及びこれらの製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2016年12月5日付韓国特許出願第10-2016-0164584号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されている全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
以下、実施例によって本発明をさらに詳しく説明する。しかし、下記実施例は本発明を例示するためのものであって、これらだけに本発明の範囲が限定されるものではない。
[製造例1:下記化学式(1-1)の化合物の製造]
<加硫(thionation)工程>
撹拌機及びジャケットが備えられた1Lの反応器を予め窒素で乾燥した後、N,N-ジエチル-3-ブテンアミド(N,N-diethyl-3-butenamide)0.1mol、ローソン試薬(Lawesson reagent、2,4-bis(4-methoxyphenyl)-1,3-dithia-2,4-diphosphetane)0.05mol及びテトラヒドロフラン(THF)150mlを順次投入し撹拌して混合した。以後、反応器の温度を55℃に昇温して4時間の間撹拌した後、常温(room temperature)に温度を下げ、生成物をジクロロメタン(dichloromethane)と水を利用してワークアップ(work-up)した後、有機層を無水硫酸ナトリウム(anhydrous Na2SO4)を利用して乾燥した。乾燥された有機層をろ過(filtering)し、減圧装置を利用して更に乾燥し、下記化学式(4-1)で表される加硫(thionation)されたN,N-ジエチル-3-ブテンチオアミド(N,N-diethyl-3-butenethioamide)0.09molを収得した。
前記製造されたN,N-ジエチル-3-ブテンチオアミド(N,N-diethyl-3-butenethioamide)0.09molを、窒素でパージ(purge)された1L反応器に投入した後、トリエトキシシラン(triethoxysilane)0.11mol、ジコバルトオクタカルボニル(dicobaltoctacarbonyl)0.004molを順次投入し、反応器の温度を40℃に昇温して6時間の間撹拌した。水素ケイ素化反応(hydrosilylation reaction)が終結された後、常温(room temperature)に冷却し、生成物をジクロロメタン(dichloromethane)と水を利用してワークアップ(work-up)した後、有機層を無水硫酸ナトリウム(anhydrous Na2SO4)を利用して乾燥した。乾燥された生成物をアセトニトリル(acetonitrile)を展開溶媒として利用し、フルオラス逆相カラム(FPR、fluorous reverse-phase column)を介してカラムクロマトグラフィー(column chromatography)を実施した後、溶媒を減圧装置で除去及び乾燥して下記化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)0.08molを収得した。
前記製造例1の加硫工程で、N,N-ジエチル-3-ブテンアミド(N,N-diethyl-3-butenamide)0.1molに代えて1-(ピペリジン-1-イル)-3-ブテン-1-オン(1-(piperidin-1-yl)-but-3-en-1-one)0.1molを投入したことを除き、前記製造例1と同様の方法で実施して下記化学式(4-2)で表される加硫(thionation)された1-(ピペリジン-1-イル)-3-ブテン-1-チオン(1-(piperidin-1-yl)-but-3-en-1-thione)0.09molを収得した。
前記製造例1の加硫工程で、N,N-ジエチル-3-ブテンアミド(N,N-diethyl-3-butenamide)0.1molに代えて1-モルフォリノ-3-ブテン-1-オン(1-morpholinobut-3-en-1-one)0.1molを投入したことを除き、前記製造例1と同様の方法で実施して下記化学式(4-3)で表される加硫(thionation)された1-モルフォリノ-3-ブテン-1-チオン(1-morpholinobut-3-en-1-thione)0.08molを収得した。
前記製造例1の加硫工程で、N,N-ジエチル-3-ブテンアミド(N,N-diethyl-3-butenamide)0.1molに代えて1-(4-メチルピペラジン-1-イル)-3-ブテン-1-オン(1-(4-methylpiperazin-1-yl)-but-3-en-1-one)0.1molを投入したことを除き、前記製造例1と同様の方法で実施して下記化学式(4-4)で表される加硫(thionation)された1-(4-メチルピペラジン-1-イル)-3-ブテン-1-チオン(1-(4-methylpiperazin-1-yl)-but-3-en-1-thione)0.07molを収得した。
窒素でパージ(purge)された500mlの丸底フラスコ(round bottom flask)にエタノール150mlと4-ビニルベンジルクロリド(4-vinylbenzyl chloride)0.3molを投入した後、撹拌(stirring)しながら内部の温度を70℃に昇温した。ここに、30分に亘って徐々にN,N-ジメチルアミン(N,N-dimethylamine)0.35molをdrop-wiseで投入した。70℃で12時間撹拌(stirring)して反応させた後、常温に温度を下げ、反応が終結された反応結果物の溶液を減圧して溶媒を除去した後、生成された塩をろ過(filtering)し、下記化学式(2-1)で表されるN,N-ジメチルビニルベンジルアミン(N,N-dimethylvinylbenzylamine)0.26molを収得した。
[実施例1]
20Lのオートクレーブ反応器に、スチレン315g、1,3-ブタジエン1,185g、ノルマルヘキサン7,500g、及び極性添加剤としてテトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)3.0gを入れた後、反応器の内部温度を60℃に昇温した。反応器の内部温度が60℃に到達した時、重合開始剤としてn-ブチルリチウム1.32gを投入して断熱昇温反応を進め、このとき、反応器の内部温度は重合による発熱で80℃まで昇温された。断熱昇温反応が終わってから15分余り経過した後、1,3-ブタジエン60gを投入してから15分後、変性反応のための変性剤として前記製造例1で製造した前記化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolを投入して30分間反応させた。その後、メタノール30gを投入して重合反応を停止させ、酸化防止剤であるBHT(ブチルヒドロキシトルエン)がヘキサンに0.3重量%溶解されている溶液45mlを添加した。その結果で得られた重合物をスチームで加熱された温水に入れ、撹拌して溶媒を除去した後、ロール乾燥して残量の溶媒と水を除去し、変性共役ジエン系重合体を製造した。このように製造された変性共役ジエン系重合体に対する分析の結果は、下記表1に示した。
前記実施例1で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolに代えて、前記製造例2で製造された化学式(1-2)で表される1-(ピペリジン-1-イル)-4-(トリエトキシシリル)ブタン-1-チオン(1-(piperidin-1-yl)-4-(triethoxysilyl)butane-1-thione)41.5mmolを投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で実施した。
前記実施例1で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolに代えて、前記製造例3で製造された化学式(1-3)で表される1-モルフォリノ-4-(トリエトキシシリル)ブタン-1-チオン(1-morpholino-4-(triethoxysilyl)butane-1-thione)41.7mmolを投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で実施した。
前記実施例1で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolに代えて、前記製造例4で製造された化学式(1-4)で表される1-(4-メチルピペラジン-1-イル)-4-(トリエトキシシリル)ブタン-1-チオン(1-(4-methylpiperazin-1-yl)-4-(triethoxysilyl)butane-1-thione)41.6mmolを投入したことを除き、前記実施例1と同様の方法で実施した。
20Lのオートクレーブ反応器に、スチレン315g、1,3-ブタジエン1,185g、ノルマルヘキサン7,500g、極性添加剤としてテトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)3.0g、及び前記製造例5で製造された化学式(2-1)で表されるN,N-ジメチルビニルベンジルアミン6.64gを入れた後、反応器の内部温度を60℃に昇温した。反応器の内部温度が60℃に到達した時、重合開始剤としてn-ブチルリチウム1.32gを投入して断熱昇温反応を進め、このとき、反応器の内部温度は重合による発熱で80℃まで昇温された。断熱昇温反応が終わってから15分余り経過した後、1,3-ブタジエン60gを投入してから15分後、変性反応のための変性剤として前記製造例1で製造した前記化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolを投入して30分間反応させた。その後、メタノール30gを投入して重合反応を停止させ、酸化防止剤であるBHT(ブチルヒドロキシトルエン)がヘキサンに0.3重量%溶解されている溶液45mlを添加した。その結果で得られた重合物をスチームで加熱された温水に入れ、撹拌して溶媒を除去した後、ロール乾燥して残量の溶媒と水を除去し、変性共役ジエン系重合体を製造した。このように製造された変性共役ジエン系重合体に対する分析の結果は、下記表1に示した。
前記実施例5で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolに代えて、前記製造例2で製造された化学式(1-2)で表される1-(ピペリジン-1-イル)-4-(トリエトキシシリル)ブタン-1-チオン(1-(piperidin-1-yl)-4-(triethoxysilyl)butane-1-thione)41.5mmolを投入したことを除き、前記実施例5と同様の方法で実施した。
前記実施例5で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolに代えて、前記製造例3で製造された化学式(1-3)で表される1-モルフォリノ-4-(トリエトキシシリル)ブタン-1-チオン(1-morpholino-4-(triethoxysilyl)butane-1-thione)41.7mmolを投入したことを除き、前記実施例5と同様の方法で実施した。
前記実施例5で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表されるN,N-ジエチル-4-(トリエトキシシリル)ブタンチオアミド(N,N-diethyl-4-(triethoxysilyl)butanethioamide)40mmolに代えて、前記製造例4で製造された化学式(1-4)で表される1-(4-メチルピペラジン-1-イル)-4-(トリエトキシシリル)ブタン-1-チオン(1-(4-methylpiperazin-1-yl)-4-(triethoxysilyl)butane-1-thione)41.6mmolを投入したことを除き、前記実施例5と同様の方法で実施した。
前記実施例1で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表される化合物を投入していないことを除き、前記実施例1と同様の方法で実施した。
前記実施例5で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表される化合物に代えてN,N-ジエチル-3-(トリエトキシシリル)プロパン-1-アミン(N,N-diethyl-3-(triethoxysilyl)propan-1-amine)34.5mmolを投入したことを除き、前記実施例5と同様の方法で実施した。
前記実施例5で、前記製造例1で製造された化学式(1-1)で表される化合物を投入していないことを除き、前記実施例5と同様の方法で実施した。
[実験例1]
前記実施例及び比較例で製造された各々の変性または未変性共役ジエン系重合体に対し、それぞれ共役ジエン系重合体内のスチレン単位及びブタジエン単位内のビニル含量と、重量平均分子量(Mw、X103g/mol)、数平均分子量(Mn、X103g/mol)、分子量分布(MWD)及びムーニー粘度(MV)を測定した。結果を下記表1に示した。
前記実施例及び比較例で製造された各々の変性または未変性共役ジエン系共重合体を含むゴム組成物、及びこれから製造された成形品の物性を比較/分析するため、引張特性、耐磨耗性及び濡れた路面への抵抗性をそれぞれ測定し、その結果を下記表4及び表5に示した。
原料ゴム100重量部を基準に下記表2に示した配合条件で配合した。このとき、原料ゴムは、前記実施例及び比較例の各々の変性または未変性共役ジエン系重合体70重量%及びポリブタジエン(BR)30重量%を含むゴムである。
引張特性は、ASTM 412の引張試験法に準じて各試験片を製造し、前記試験片の切断時の引張強度、300%伸張時の引張応力(300%モジュラス)及び伸び率(elongation)を測定した。具体的に、引張特性は、Universal Test Machin 4204(Instron社)引張試験機器を利用して室温で50cm/minの速度で測定した。300%伸張時の引張応力(300%モジュラス)指数は、比較例2の300%伸張時の引張応力(300%モジュラス)の値を基準にして示した。
ガラス転移温度は、DSC(Differential Scanning Calorimeter)機器(Perkin-Elmer社)を用いて測定し、試料のガラス転移温度(Tg、glass transition temperature)を測定する方法には中間点法(mid-point method)を用いた。高分子試料の分解を防ぐため窒素雰囲気下で測定し、約5〜20mgの試料を用いて測定した。
粘弾性特性は、動的機械分析機(TA社)を利用し、捩りモードで周波数10Hz、各測定温度(-60℃〜60℃)で変形を変化させてtan δを測定した。低温0℃ tan δが高いものであるほど濡れた路面への抵抗性に優れ、高温60℃ tan δが低いほどヒステリシス損失が少なく、低走行抵抗性(燃費性)に優れることを表す。0℃ tan δ及び60℃ tan δそれぞれの指数は、比較例2の0℃ tan δ及び60℃ tan δ値を基準にして示した。
Claims (17)
- 単量体由来の反復単位及び下記化学式(1)で表される化合物を含む変性剤由来官能基を含み、
前記単量体由来の反復単位は、共役ジエン系単量体由来の反復単位50から95重量%;及び、芳香族ビニル系単量体由来の反復単位5から50重量%を含むものであり、
前記変性剤由来官能基は、前記単量体由来の反復単位を含む重合体の一端に含まれるものである変性共役ジエン系重合体。
R1からR3は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基であり、ただし、R1からR3のうち少なくとも一つは、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基であり、
R4は、炭素数1から30の2価炭化水素基であり、
R5及びR6は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基であるか、またはR5及びR6が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から20の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R5及びR6が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR13を含有してもよく、
R13は、炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基である。 - 前記単量体由来の反復単位は、下記化学式(2)で表される化合物を含む変性単量体由来の反復単位をさらに含むものである請求項1に記載の変性共役ジエン系重合体。
R7、R8及びR9は、それぞれ独立して水素、または炭素数1から20の1価炭化水素基であり、
R10は、単結合、炭素数1から20の2価炭化水素基、或いは、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子またはNR14を含有するヘテロアルキレン基であり、
R11及びR12は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、或いは、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基であるか、またはR11及びR12が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から20の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R11及びR12が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子またはNR15を含有してもよく、
R14及びR15は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基である。 - 前記化学式(2)で表される化合物は、N,N−ジメチルビニルベンジルアミン、N,N−ジエチルビニルベンジルアミン、N,N−ジプロピルビニルベンジルアミン、N,N−ジブチルビニルベンジルアミン、N,N−ジフェニルビニルベンジルアミン、2−ジメチルアミノエチルスチレン、2−ジエチルアミノエチルスチレン、2−ビス(トリメチルシリル)アミノエチルスチレン、1−(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)−1−フェニルエチレン、N,N−ジメチル−2−(4−ビニルベンジルオキシ)エチルアミン、N,N,N’−トリメチル−N’−(4−ビニルベンジル)エタン−1,2−ジアミン、N,N−ジメチル−2−((4−ビニルベンジル)チオ)エチルアミン、4−(2−ピロリジノエチル)スチレン、4−(2−ピペリジノエチル)スチレン、4−(2−ヘキサメチレンイミノエチル)スチレン、4−(2−モルフォリノエチル)スチレン、4−(2−チアミノエチル)スチレン、4−(2−N−メチルピペラジノエチル)スチレン、1−((4−ビニルフェノキシ)メチル)ピロリジン、1−(4−ビニルベンジルオキシメチル)ピロリジン、1−((4−ビニルベンジル)チオメチル)ピロリジン、及びN−メチル−1−(ピロリジン−1−イル)−N−(4−ビニルベンジル)メチルアミンからなる群より選択される少なくとも1つである、請求項2に記載の変性共役ジエン系重合体。
- 前記化学式(1)中、
R1からR3は、それぞれ独立して炭素数1から20の1価炭化水素基、炭素数1から20のヘテロアルキル基、または炭素数3から20のヘテロ環基であり、ただし、R1からR3のうち少なくとも一つは、炭素数1から20のヘテロアルキル基、または炭素数3から20のヘテロ環基であり、
R4は、炭素数1から20の2価炭化水素基であり、
R5及びR6は、それぞれ独立して炭素数1から12の1価炭化水素基であるか、またはR5及びR6が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から12の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R5及びR6が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR13を含有してもよく、
R13は、炭素数1から12の1価炭化水素基、或いは、炭素数1から12の1価炭化水素基で1、2または3置換されたシリル基である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の変性共役ジエン系重合体。 - 前記変性共役ジエン系重合体は、数平均分子量(Mn)が10,000g/molから2,000,000g/molである、請求項1〜5のいずれか一項に記載の変性共役ジエン系重合体。
- 前記変性共役ジエン系重合体は、分子量分布(Mw/Mn)が1から5である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の変性共役ジエン系重合体。
- 炭化水素溶媒中で、有機金属化合物の存在下、芳香族ビニル系単量体及び共役ジエン系単量体を重合して有機金属が結合された活性重合体を製造する段階(S1);及び、
前記活性重合体を下記化学式(1)で表される化合物を含む変性剤と反応させる段階(S2)を含む変性共役ジエン系重合体の製造方法。
R1からR3は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基であり、ただし、R1からR3のうち少なくとも一つは、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基であり、
R4は、炭素数1から30の2価炭化水素基であり、
R5及びR6は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基であるか、またはR5及びR6が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から20の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R5及びR6が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR13を含有してもよく、
R13は、炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基である。 - 前記(S1)段階の重合時、下記化学式(2)で表される化合物を含む変性単量体を含んで重合が実施される請求項8に記載の変性共役ジエン系重合体の製造方法。
R7、R8及びR9は、それぞれ独立して水素、または炭素数1から20の1価炭化水素基であり、
R10は、単結合、炭素数1から20の2価炭化水素基、または、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR14を含有するヘテロアルキレン基であり、
R11及びR12は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基であるか、または、R11及びR12が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から20の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R11及びR12が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR15を含有してもよく、
R14及びR15は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基である。 - 前記有機金属化合物は、単量体の全体100gを基準に0.01mmolから10mmolで用いられる請求項8または9に記載の変性共役ジエン系重合体の製造方法。
- 前記有機金属化合物は、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、n−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム、n−デシルリチウム、t−オクチルリチウム、フェニルリチウム、1−ナフチルリチウム、n−エイコシルリチウム、4−ブチルフェニルリチウム、4−トリルリチウム、シクロヘキシルリチウム、3,5−ジ−n−ヘプチルシクロヘキシルリチウム、4−シクロペンチルリチウム、ナフチルナトリウム、ナフチルカリウム、リチウムアルコキシド、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド、リチウムスルフォネート、ナトリウムスルフォネート、カリウムスルフォネート、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド及びリチウムイソプロピルアミドからなる群より選択される少なくとも1つである請求項8〜10のいずれか一項に記載の変性共役ジエン系重合体の製造方法。
- 前記(S1)段階の重合は、極性添加剤を含んで実施され、
前記極性添加剤は、テトラヒドロフラン、ジテトラヒドロフリルプロパン、ジエチルエーテル、シクロアマルエーテル、ジプロピルエーテル、エチレンメチルエーテル、エチレンジメチルエーテル、ジエチルグリコール、ジメチルエーテル、tert−ブトキシエトキシエタン、ビス(3−ジメチルアミノエチル)エーテル、(ジメチルアミノエチル)エチルエーテル、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン及びテトラメチルエチレンジアミンからなる群より選択される少なくとも1つである請求項8〜11のいずれか一項に記載の変性共役ジエン系重合体の製造方法。 - 下記化学式(3)で表される化合物を加硫(thionation)して下記化学式(4)で表される化合物を製造する段階(S3);及び、
前記(S3)段階で製造された下記化学式(4)で表される化合物と下記化学式(5)で表される化合物とを反応させる段階(S4)を含む下記化学式(1)で表される変性剤の製造方法。
R4'は炭素数1から28の2価炭化水素基であり、
R5及びR6は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基であるか、またはR5及びR6が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から20の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R5及びR6が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR13を含有してもよく、
R13は、炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基であり、
R4'は炭素数1から28の2価炭化水素基であり、
R5及びR6は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基であるか、またはR5及びR6が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から20の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R5及びR6が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR13を含有してもよく、
R13は、炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基であり、
R1からR3は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基であり、ただし、R1からR3のうち少なくとも一つは、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基である。
R 1 からR 3 は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基であり、ただし、R 1 からR 3 のうち少なくとも一つは、炭素数1から30のヘテロアルキル基、または炭素数3から30のヘテロ環基であり、
R 4 は、炭素数1から30の2価炭化水素基であり、
R 5 及びR 6 は、それぞれ独立して炭素数1から30の1価炭化水素基であるか、またはR 5 及びR 6 が互いに結合し、隣接したN原子とともに炭素数3から20の飽和もしくは不飽和の環状構造を形成し、前記R 5 及びR 6 が環状構造を形成する場合、O及びSからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子もしくはNR 13 を含有してもよく、
R 13 は、炭素数1から30の1価炭化水素基、または、炭素数1から30の1価炭化水素基で1、2もしくは3置換されたシリル基である。 - 前記(S3)段階の加硫(thionation)は、硫黄源(sulfur source)の添加によって行われる請求項13に記載の変性剤の製造方法。
- 前記硫黄源は、化学式(3)で表される化合物1モルを基準に、1:0.1から10のモル比で添加される請求項14に記載の変性剤の製造方法。
- 前記(S4)段階の反応は、金属触媒の存在下で行われる請求項13〜15のいずれか一項に記載の変性剤の製造方法。
- 前記金属触媒は、化学式(4)で表される化合物1モルを基準に、1:0.01から10のモル比で存在し、
化学式(4)で表される化合物と化学式(5)で表される化合物とのモル比は、化学式(4)で表される化合物1モルを基準に1:0.1から10である請求項16に記載の変性剤の製造方法。
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