JP6601415B2 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
以下に示す方法により光学フィルムを製造した。
以下の材料を密閉容器に投入し、80℃で加熱し、撹拌しながら完全に溶解し、濾過を行い、ドープを調整した。なお、濾過前と濾過後(流延前)の温度はいずれも32℃に設定した。以下の材料比率は流延時膜厚と未延伸で全て乾燥した場合の膜厚比が400%の処方の例であり、流延時膜厚と未延伸で全て乾燥した場合の膜厚の比を変える場合、例えばメチレンクロライドとエタノールのセルローストリアセテートに対する比率を調整するなどする。
トリフェニルホスフェート 8重量部
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 2重量部
紫外線吸収剤(チヌビン326、BASFジャパン社製) 1重量部
無機微粒子(アエロジル200V、日本エアロジル(株)製)
0.2重量部
メチレンクロライド 460.0重量部
エタノール 29.4重量部
まず、SUS316製のエンドレスベルト支持体の裏面にセラミック絶縁膜(厚み:50μm)をセラミック溶射処理により設けた。そして、上記のようにして得られたドープを、ドープ温度32℃で、温度23℃の前記エンドレスベルト支持体上にコートハンガーダイよりなる流延ダイにより、流延幅2m、流延体積900L/時間、流延速度(支持体の走行速度)3000m/時間(50m/分)で流延し、流延膜を形成した。
濾過前と濾過後(流延前)の温度をそれぞれ26℃に変更した以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。濾過後のドープ中の無機不純物量は200ppmであった。また、流延膜厚は120μmであり、未延伸乾燥膜厚は30μmであったため、流延膜厚/未延伸乾燥膜厚は400%であった。
濾過前と濾過後(流延前)の温度をそれぞれ12℃に変更した以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。濾過後のドープ中の無機不純物量は140ppmであった。また、流延膜厚は120μmであり、未延伸乾燥膜厚は30μmであったため、流延膜厚/未延伸乾燥膜厚は400%であった。
濾過前と濾過後(流延前)の温度をそれぞれ23℃と32℃に変更した以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。濾過後のドープ中の無機不純物量は190ppmであった。また、流延膜厚は120μmであり、未延伸乾燥膜厚は30μmであったため、流延膜厚/未延伸乾燥膜厚は400%であった。
濾過前と濾過後(流延前)の温度をそれぞれ23℃と32℃に変更し、時間当たりの流延ドープ体積を600L/時間にした以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。濾過後のドープ中の無機不純物量は190ppmであった。また、流延膜厚は80μmであり、未延伸乾燥膜厚は20μmであったため、流延膜厚/未延伸乾燥膜厚は400%であった。
濾過前と濾過後(流延前)の温度をそれぞれ23℃と32℃に変更し、時間当たりの流延ドープ体積を450L/時間にした以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。濾過後のドープ中の無機不純物量は190ppmであった。また、流延膜厚は60μmであり、未延伸乾燥膜厚は15μmであったため、流延膜厚/未延伸乾燥膜厚は400%であった。
濾過前と濾過後(流延前)の温度をそれぞれ23℃と32℃に変更し、時間当たりの流延ドープ体積を300L/時間にした以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。濾過後のドープ中の無機不純物量は190ppmであった。また、流延膜厚は40μmであり、未延伸乾燥膜厚は10μmであったため、流延膜厚/未延伸乾燥膜厚は400%であった。
ドープの組成を以下に変更した以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。
トリフェニルホスフェート 8重量部
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 2重量部
紫外線吸収剤(チヌビン326、BASFジャパン社製) 1重量部
無機微粒子(アエロジル200V、日本エアロジル(株)製)
0.2重量部
メチレンクロライド 429.3重量部
エタノール 27.4重量部
ドープの組成を以下に変更し、時間当たりの流延ドープ体積を1050L/時間にした以外は、実施例1と同様にして、セルロースアセテートフィルムを製造した。
トリフェニルホスフェート 8重量部
可塑剤(エチルフタリルエチルグリコレート) 2重量部
紫外線吸収剤(チヌビン326、BASFジャパン社製) 1重量部
無機微粒子(アエロジル200V、日本エアロジル(株)製)
0.2重量部
メチレンクロライド 414.0重量部
エタノール 26.5重量部
上述のようにして得られた光学フィルム(実施例1〜7、比較例1及び参考例)について、以下の評価試験を行った。
前記各光学フィルムについて、光学干渉式表面粗さ計により測定することにより、膜厚凹凸高さを測定した。
前記各光学フィルムをハードコート塗布し、蛍光ランプの光を当てて長手方向に周期的に現れる幅手方向の線状のスジ(周期スジ)を目視で確認し、また、PVA偏光子の片面に各光学フィルムを、もう一方の面には同じ光学フィルムのハードコート塗布後の物を貼りつけた偏光板を作製し、その偏光板に対しても蛍光ランプの光を当てて目視で周期スジを確認した。周期スジの評価は、以下のランクにより行った。
◎ フィルム、偏光板ともに周期スジがまったく見えなかった。
○ フィルムでは周期スジが薄く見えたが、偏光板化後は見えなかった。
△ フィルムでは周期スジがはっきり見えたが、偏光板化後は薄くしか見えず、実用上問題にならないレベルであった。
× フィルム、及びそれを用いた偏光板でも周期スジがはっきりと見えた。
前記各光学フィルムに蛍光ランプの光を当ててフィルムにまだらに見える微小な点状のムラを目視で確認し、また、PVA偏光子の片面に各光学フィルムを、もう一方の面には同じ光学フィルムのハードコート塗布後の物を貼りつけた偏光板を作製し、その偏光板に対しても蛍光ランプの光を当てて微小な点状のムラを確認した。微小点状ムラの評価は以下のランクにより行った。
◎ フィルム、偏光板ともに微小点状ムラがまったく見えなかった。
○ フィルムでは微小点状ムラが弱く見えたが、偏光板では見えなかった。
△ フィルムでは微小点状ムラが見えたが、偏光板では薄くしか見えず、実用上問題にならないレベルであった。
× フィルム、及びそれを用いた偏光板でも微小点状ムラがはっきりと見えた。
以上の結果を表1にまとめる。
表1からわかるように、支持体へドープを流延した時の流延膜膜厚が未延伸で溶媒を全て乾燥させた後の膜厚の400%以上となるドープを用いた実施例1〜7の光学フィルムでは、100nmを超える膜厚凹凸高さは観測されなかったため、周期スジの発生も抑制されていた。
Claims (3)
- 溶液流延製膜で、支持体へドープを流延した時の流延膜膜厚が未延伸で溶媒を全て乾燥させた場合の膜厚の400%以上となる条件で製膜するに際し、流延する前の濾過時にドープを12℃以上23℃以下の温度に冷却するとともに、濾過後のドープを流延する前に30〜38℃に加熱することを特徴とする、セルロースエステルを含有する膜厚30μm以下の光学フィルムの製造方法。
- セルロースエステルがセルロースアセテートである、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
- 濾過後のドープ中における無機不純物量が190ppm以下である、請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。
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