JP6591225B2 - 除染方法 - Google Patents
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Description
放射性物質の付着吸収が進むと、これらの金属製構造物の周囲の放射線量が上がり、定期検査、機器の取替え作業または原子炉廃止措置時の解体作業等において、作業員が被ばくするおそれがある。
よって、放射性物質が付着吸収した金属製構造物に薬品を付与して、付着吸収した放射性物質を酸化保護膜ごと除去する化学的な除染方法が広く利用されている。
よって、通常は、クロム系酸化物を含む鉄系酸化物を主要成分とする酸化保護膜を除去することで、大半の放射性物質を除去することができる。
また、母材金属は、除染で用いられる酸化剤と反応して緻密な酸化被膜を新たに形成して、溶出しないことが多い。
よって、通常、酸化保護膜のみを化学的に除去することが多い。
つまり、酸化保護膜を構成する金属酸化物の溶解反応の電位依存性を利用して酸化保護膜を溶解除去している。
つまり、除染により発生する例えば三価の鉄を二価の鉄に還元することで除染液の酸化還元電位を貴な領域から卑側へ徐々に掃引して、母材金属の表層を溶解させている。
なお、除染液が酸化力のある酸を多く含む場合、酸化還元電位を貴な領域から卑側へ掃引する途中不働態域において、母材金属は数nm程度の不働態被膜を形成する。
不働態被膜が堅固になると、除染液の酸化還元電位が溶解域に移行した後も、不働態被膜が残留して、母材金属の溶解が阻害されるという課題があった。
層を溶解除去する除染液の酸化還元電位を除染対象物の溶解域まで低下させる電位低下工
程と、電位低下工程によって酸化還元電位が低下した表層を還元剤で溶解して放射性物質
を除去する還元溶解工程と、をみ、前記酸化還元電位は、還元性のイオンの供給により低下させ、前記イオンには前記還元剤と錯体を生成するものが選択され、前記錯体に紫外線を照射して分子内電子移動を発生させ、前記紫外線の照射量は、前記除染対象物の上流および下流における前記除染液の前記酸化還元電位の電位差に基づいて決定されるものである。
図1(A)は実施形態にかかる除染方法の酸化溶解工程の説明図、図1(B)は実施形態にかかる除染方法の還元溶解工程の説明図である。
より具体的には、例えば原子力施設の再循環系の配管やバルブなどによって接続されたまま解体されずにある複数の機器で、ステンレス鋼、Ni基合金、Cu合金、Zr合金等を構成材料とするものなどである。
このような金属製構造物が高温高圧環境のような苛酷条件下に長時間置かれることで、60Coなどの放射性物質15が酸化保護膜12および母材金属13の表層(以下、「酸化保護膜等24」という)に付着吸収される。
図2において、横軸は任意にとられた基準電位に対する液体の酸化還元電位、縦軸はステンレス鋼に流れる電流密度を示す。
使用されるステンレス鋼は除染対象物11を代表し、シュウ酸は還元剤を代表している。
この電流密度の高さは、シュウ酸溶液中に挿入されたステンレス鋼の溶解量の多さとともに、還元剤であるシュウ酸と除染液25中のイオンとの反応量の多さも表している。
一方、0〜250[mV(vs.SCE)]の不働態域では、ステンレス鋼は、不働態被膜を形成して、シュウ酸とほとんど反応しなくなる。
高い溶解効率にするためには、除染液25の酸化還元電位を、溶解域に維持して還元溶解工程を実施することが求められる。
除染装置14は、図3に示されるように、除染対象物11に取り外し可能な除染液循環ライン16(以下、単に「循環ライン16」という)が環状に接続される。
循環ライン16は、例えば、除染液25に対して耐食性のあるステンレス鋼や高分子材料で構成された仮設の配管およびバルブなどで構成される。
酸化剤供給部17は、酸化溶解工程において酸化剤を供給する。
酸化剤には、例えば、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸、過酸化水素水、オゾン水または空気などが用いられる。
還元剤には、例えば、シュウ酸、クエン酸、ピコリン酸またはアスコルビン酸などの有機酸、これらの混合物、アミン化合物またはヒドラジンなどが用いられる。
還元剤は、その本来の性質から除染液25の酸化還元電位を低下させる働きがある。
よって、還元剤を一定量ずつ連続的に供給しながら除染することで、除染液25の酸化還元電位は徐々に低下する。
酸化溶解工程および還元溶解工程は、これら循環ポンプ19および加熱部21で除染液25の循環速度および温度が調節されることで、除染液25と除染対象物11との溶解反応が調節されながら実施される。
電位低下剤供給部23は、還元剤を含む除染液25の酸化還元電位を卑側に掃引する電位低下剤を供給する。
電位低下剤には、例えば、Fe2+、Ni2+、Co2+、Ti3+、V3+またはI−などの除染液25の酸化還元電位を低下させる効果のあるイオンが用いられる。
これらのイオンの供給を調節することで、除染液25の酸化還元電位を迅速に溶解域まで掃引することができる。
つまり、還元溶解工程の前段で予め除染液25を母材金属13の溶解域の酸化還元電位に調節することで、還元剤のみによって徐々に電位を低下させるよりも速やかに酸化保護膜等24を溶解することできる。
電位低下剤は、錯体を形成すると電位低下剤としての機能を喪失する。
そこで、循環ライン16には、除染対象物11の前段に紫外線照射部26が設けられ、流入する除染液25に紫外線が照射される。
[Fe(C2O4)3]3- → Fe2+ + 2C2O4 2- + C2O4 -・ (1)
ただし、C2O4 -・はシュウ酸ラジカルである。
つまり、紫外線照射部26で紫外線の照射量を調整して、錯体から電位低下剤として働くイオンの発生量を調節することでも、酸化還元電位を調節することができる。
ラジカルによる次式(2)に示す反応によって、錯体の分解はさらに促進される。
[Fe(C2O4)3]3- + C2O4 -・→ Fe2+ + 3C2O4 2- + 2CO2 (2)
また、反応性が高いラジカルは、酸化保護膜等24とも反応して、従来よりも高効率な除染が可能となる。
なお、反応式(1),(2)における化学式は電位低下剤および還元剤の種類に依るものであり、反応式(1),(2)の一例に限定されない。
そこで、上流電位測定部22aに加えて、除染対象物11の流出箇所に下流電位測定部22b(22)を設置して、これらの電位差を監視する。
そして、これら下流電位測定部22bおよび上流電位測定部22aで測定される酸化還元電位の電位差によって、紫外線の照射量を決定する。
除染液25は、還元溶解工程において酸化還元電位が過剰に低下することがある。
酸化還元電位が過剰に低下した場合、バイパス弁28と照射弁29とを切り換え、除染液25をバイパスライン27に通水させることで、酸化還元電位を上昇させる。
そして、酸化剤が投入された除染液25を循環ポンプ19で循環させて、酸化溶解工程で酸化保護膜等24のクロム系酸化物を溶解する(S11)。
所定時間循環させた後、循環弁31を閉止して除染液25の循環を停止して、酸化溶解工程を終了する(S12)。
この時点で、除染液25は、還元剤を多く含むことから、再活性化域にある。
電位低下剤の供給量は、除染対象物11から溶出されるFe3+などのイオンの溶出量も考慮して決定される。
電位低下工程(S13)に後続する還元溶解工程(S14)では、除染対象物11を構成していた鉄酸化物が溶解して、Fe3+などが溶出されることが予想されるからである。
よって、Fe3+などが溶出しても確実に酸化還元電位が低下する量が、連続的にまたは一度に投入される。
除染対象物11がクロム系酸化物を含まない場合、酸化溶解工程(S12)は不要になる。
この場合も、電位低下剤を付与することで確実に酸化還元電位を溶解域に調節することができるので意義がある。
以上の各工程を、放射性物質15が付着吸収された酸化保護膜等24が十分除去されるまで繰り返す(S15:NO:S11へ)。
酸化保護膜等24が十分除去された後は、循環弁31を閉止して除染作業を終了する(S15:YES)。
還元剤の除去には、過酸化水素による分解が有効である。
また、電位低下剤および除染により発生した金属イオン等の除去には、イオン交換樹脂への通水が有効である。
まず、電位低下剤が投入された除染液25に還元剤を供給する(S20)。
還元剤とこれらの電位低下剤のイオンが十分に混合された後、除染液25と除染対象物11との反応を活性化するため、加熱部21で所定の温度まで加熱する(S21)。
そして、除染液25を循環させて酸化保護膜等24を還元溶解させて除染する(S22)。
酸化還元電位が高い場合は(S24:YES)、紫外線照射部26で除染液25に紫外線を照射して錯体を分解して電位低下剤を生成して酸化還元電位を低下させる(S25)。
下流電位測定部22bで除染対象物11に付与された除染液25の酸化還元電位を確認しながら除染を継続する(S26)。
なお、除染開始の初期状態において、除染対象物11が完全に水抜きされている場合は初期の電位は測定されない。
紫外線の照射もせず、還元剤も供給せずに循環を継続していると、酸化保護膜等24の溶解によって溶出してくるFe3+などによって、除染液25の酸化還元電位は上昇する。
以上の各工程は、例えば所定時間繰り返し実施され(S27:NO:S21へ)、所定時間経過後に還元溶解工程を終了する(図4のS16へ)。
図6は、Fe2+を付与したシュウ酸水溶液に紫外線を照射して電位を低下させたときの電位と酸化物(NiFe2O4)からのFeおよびNiの溶出量との関係を調べた実験結果を示す図である。
電位低下剤として付与されたFe2+の一部は、シュウ酸水溶液と錯体[Fe(C2O4)3]3-を形成している。
図6から、紫外線の照射によって、実際に酸化還元電位は低下したことが確認された。
同時に、この低下に伴って酸化物からのFeおよびNiの溶出量が増加することが確認された。
これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組み合わせを行うことができる。
これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
Claims (4)
- 放射性物質が付着または取り込まれた除染対象物の表層を溶解除去する除染液の酸化還元電位を前記除染対象物の溶解域まで低下させる電位低下工程と、
前記電位低下工程によって前記酸化還元電位が低下した前記表層を還元剤で溶解して前記放射性物質を除去する還元溶解工程と、を含み、
前記酸化還元電位は、還元性のイオンの供給により低下させ、
前記イオンには前記還元剤と錯体を生成するものが選択され、
前記錯体に紫外線を照射して分子内電子移動を発生させ、
前記紫外線の照射量は、前記除染対象物の上流および下流における前記除染液の前記酸化還元電位の電位差に基づいて決定される除染方法。 - 前記錯体に前記紫外線を照射して前記イオンの価数を減少させることで前記酸化還元電位を低下させる請求項1に記載の除染方法。
- 前記還元剤は、有機酸、2種類以上の有機酸を混合した酸、アミン化合物およびヒドラジンのいずれかである請求項1または請求項2に記載の除染方法。
- 前記分子内電子移動で発生するラジカルによって前記溶解を促進する請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の除染方法。
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