JP6577488B2 - ダイレクトイメージングシステムのキャリブレーション - Google Patents
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Description
Claims (21)
- 被加工物を保持するように構成されているマウントと、
前記被加工物上にそれぞれの放射のパターンを投影するように構成されている複数の光学ヘッドを有する光学ヘッドアレイと、
前記それぞれのパターンのイメージを取得するように構成されているキャリブレーションアセンブリと、
前記キャリブレーションアセンブリが載置され、前記光学ヘッドアレイと前記マウントとの間における複数の異なる位置に前記マウントの位置とは無関係に前記キャリブレーションアセンブリを搬送することによって、前記キャリブレーションアセンブリが前記複数の光学ヘッドのそれぞれによって前記複数の異なる位置のそれぞれの位置において投影されるそれぞれの前記パターンを取得し、イメージ化するように構成されているモーションアセンブリと、を有する光学装置であって、
前記光学装置の動作を監視するために、前記キャリブレーションアセンブリによって取得された前記複数の異なる位置における前記複数のイメージを処理するように構成されているプロセッサと、を有し、
前記モーションアセンブリは、前記キャリブレーションアセンブリを、キャリブレーションプロシージャの間、前記複数の異なる位置に搬送し、前記キャリブレーションプロシージャ後は前記キャリブレーションアセンブリを前記キャリブレーションアセンブリが前記複数の光学ヘッドのいずれかによって投影される前記パターンを取得不能な停止位置に搬送するように構成されていることを特徴とする光学装置。 - 前記複数の光学ヘッドは、互いに平行な複数の列状に配設され、
前記モーションアセンブリは、前記キャリブレーションアセンブリを前記複数の列に対して平行及び垂直な両方向へと移動させるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 - 前記複数の光学ヘッドは、それぞれの光軸方向に沿って前記それぞれのパターンを前記被加工物に向かって投影し、
前記キャリブレーションアセンブリは、前記複数の光学ヘッドの光軸に対して非平行なカメラ光軸を有するキャリブレーションカメラと、前記複数の光学ヘッドの前記光軸を遮断する位置に配置され、前記投影される複数のパターンを前記カメラに向かって偏向するように構成されているリフレクタと、を有することを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 - 前記複数の光学ヘッドは、前記被加工物上に焦点面を有し、
前記キャリブレーションカメラは、イメージセンサを有し、
前記リフレクタ及び前記キャリブレーションカメラは、前記イメージセンサが前記複数の光学ヘッドの前記焦点面内に位置するように配置されることを特徴とする請求項3に記載の光学装置。 - 前記複数の光学ヘッドの前記焦点面内において、前記マウントに固定され、前記複数の光学ヘッドによって投射される前記放射に応答する位置合わせ用ターゲットと、
前記位置合わせ用ターゲットの位置合わせ用イメージを取得するように配置される位置合わせ用カメラと、をさらに有し、
前記プロセッサは、前記複数の光学ヘッドのそれぞれの位置を調整するために、前記位置合わせ用イメージを処理するように構成されていることを特徴とする請求項4に記載の光学装置。 - 前記キャリブレーションカメラは、前記イメージセンサの面に垂直なカメラ軸を有し、
前記リフレクタは、前記カメラ軸に対して傾斜する偏向軸に沿って前記イメージセンサに作用する前記投影される複数のパターンを偏向するように構成されていることを特徴とする請求項4に記載の光学装置。 - 前記モーションアセンブリは、前記偏向軸を横断する方向に前記キャリブレーションカメラを移動することによって、前記キャリブレーションカメラがそれぞれの光学ヘッドによって投影されるパターンの前記イメージを複数の横断位置で取得するようにし、
前記プロセッサは、前記投影されるパターンの焦点特性を評価するために、前記複数の横断位置において取得した前記複数のイメージを処理するように構成されていることを特徴とする請求項6に記載の光学装置。 - 前記それぞれのパターンは、パターンの画素サイズによって特徴づけられ、
前記キャリブレーションアセンブリは、前記パターンの画素サイズよりも大きくないイメージの画素サイズを用いて前記パターンのイメージを形成するように構成されているキャリブレーションカメラを有することを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 - 前記キャリブレーションアセンブリは、投射される放射の強度を測定するように構成されているパワーメータをさらに有することを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
- 被加工物を保持するように構成されているマウントと、
前記被加工物上にそれぞれの放射のパターンを投影するように構成されている複数の光学ヘッドを有する光学ヘッドアレイと、
消去可能なフォトクロミック素子を有し、前記マウント上に配置され、前記複数の光学ヘッドによって投射される前記放射に応答するように構成されている位置合わせ用ターゲットと、
前記マウントとは離間した位置に配置されるとともに、前記位置合わせ用ターゲットのイメージを取得するように配置されている位置合わせ用カメラと、
被加工物に関して、前記複数の光学ヘッドによって投影される前記複数のパターンのそれぞれの位置を調整するために前記イメージを処理するように構成されているプロセッサと、を有することを特徴とする光学装置。 - 被加工物を保持するマウントと、前記被加工物上にそれぞれの放射のパターンを投影する複数の光学ヘッドを有する光学ヘッドアレイとを有する光学装置を用いたキャリブレーション方法であって、
キャリブレーションアセンブリを用いて、前記複数の光学ヘッドによって投影されるそれぞれのパターンのイメージを取得する工程と、
前記光学ヘッドアレイと前記マウントとの間における複数の異なる位置に、前記キャリブレーションアセンブリが前記複数の光学ヘッドのそれぞれによって前記複数の異なる位置のそれぞれの位置において投影されるそれぞれの前記パターンを取得し、イメージ化するように、前記マウントの位置とは無関係に前記キャリブレーションアセンブリを搬送する工程と、
前記光学装置の動作を監視するために、前記キャリブレーションアセンブリによって取得された前記複数の異なる位置における前記複数のイメージを処理する工程と、を有し、
前記キャリブレーションアセンブリを搬送する工程は、キャリブレーションプロシージャの間、前記複数の異なる位置の間に搬送し、前記キャリブレーションプロシージャ完了後は前記キャリブレーションアセンブリを前記キャリブレーションアセンブリが前記複数の光学ヘッドのいずれかによって投影される前記パターンを遮断しない停止位置に搬送する工程を有することを特徴とする方法。 - 前記複数の光学ヘッドは、互いに平行な複数の列状に配設され、
前記キャリブレーションアセンブリを搬送する工程は、前記複数の列内の前記複数の光学ヘッドからの前記複数のイメージを取得するために、前記キャリブレーションアセンブリを前記複数の列に対して平行及び垂直な両方向へと移動する工程を有することを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 前記複数の光学ヘッドは、それぞれの光軸方向に沿って前記それぞれのパターンを前記被加工物に向かって投影し、
前記複数のイメージを取得する工程は、前記複数の光学ヘッドの前記光軸を遮断し、前記投影される複数のパターンを前記複数の光学ヘッドの前記光軸と非平行なカメラ光軸を有するキャリブレーションカメラに向かって偏向するようにリフレクタを配置する工程を有することを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 前記複数の光学ヘッドは、前記被加工物上に焦点面を有し、
前記キャリブレーションカメラは、イメージセンサを有し、
前記複数のイメージを取得する工程は、前記イメージセンサが前記複数の光学ヘッドの前記焦点面内に位置するように、前記リフレクタ及びキャリブレーションカメラを配置する工程を有することを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 前記複数の光学ヘッドの前記焦点面内において、前記マウントに前記複数の光学ヘッドによって投射される前記放射に応答するように構成されている位置合わせ用ターゲットを固定する工程と、
前記位置合わせ用ターゲットの位置合わせ用イメージを取得する工程と、
前記複数の光学ヘッドのそれぞれの位置を調整するために前記位置合わせ用イメージを処理する工程と、をさらに有することを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 前記キャリブレーションカメラは、前記イメージセンサの面に垂直なカメラ軸を有し、
前記複数のイメージを取得する工程は、前記カメラ軸に対して傾斜する偏向軸に沿って前記イメージセンサに作用する前記投影されるパターンを偏向するようにリフレクタを配置する工程を有することを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 前記キャリブレーションアセンブリを搬送する工程は、前記キャリブレーションカメラがそれぞれの光学ヘッドからの前記投影されるパターンの前記イメージを複数の横断位置で取得するように前記偏向軸を横断する方向に前記キャリブレーションカメラを移動する工程を有し、
前記複数のイメージを処理する工程は、前記投影されるパターンの焦点特性を評価するために、前記複数の横断位置において取得した前記複数のイメージを評価する工程を有することを特徴とする請求項16に記載の方法。 - 前記それぞれのパターンは、パターンの画素サイズによって特徴づけられ、
前記複数のイメージを取得する工程は、前記パターンの画素サイズよりも大きくないイメージの画素サイズを用いて前記複数のパターンのイメージを形成する工程を有することを特徴とする請求項11に記載の方法。 - キャリブレーションアセンブリ内のパワーメータを用いて、前記投射される放射の強度を測定する工程をさらに有することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 被加工物を保持するマウントと、前記被加工物上にそれぞれの放射のパターンを投影する複数の光学ヘッドを有する光学ヘッドアレイとを有する光学装置のキャリブレーション方法であって、
前記マウント上に、消去可能なフォトクロニック素子を有し前記複数の光学ヘッドによって投射される前記放射に応答するように構成されている位置合わせ用ターゲットを載置する工程と、
前記マウントとは離間した位置に配置された位置合わせ用カメラを用いて前記位置合わせ用ターゲットのイメージを取得する工程と、
被加工物に関して、前記複数の光学ヘッドによって投影される前記複数のパターンのそれぞれの位置を調整するために前記イメージを処理する工程と、を有することを特徴とする方法。 - 前記イメージを取得する工程後に、前記フォトクロニック素子を消去及び再利用する工程を有することを特徴とする請求項20に記載の方法。
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US20220214623A1 (en) * | 2019-06-07 | 2022-07-07 | Inspec Inc. | Calibration system and drawing device |
CN111399166B (zh) * | 2020-06-05 | 2020-09-08 | 苏州微影激光技术有限公司 | 预调整设备、预调整方法及曝光设备组装方法 |
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Family Cites Families (26)
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US5473409A (en) * | 1993-09-21 | 1995-12-05 | Sony Corporation | Semiconductor light exposure device |
US5841520A (en) | 1995-08-09 | 1998-11-24 | Nikon Corporatioin | Exposure apparatus and method that use mark patterns to determine image formation characteristics of the apparatus prior to exposure |
JP4500374B2 (ja) * | 1997-05-27 | 2010-07-14 | ジェイディーエス ユニフエイズ コーポレーション | レーザーマーキングシステムおよびエネルギー制御方法 |
DE19829986C1 (de) | 1998-07-04 | 2000-03-30 | Lis Laser Imaging Systems Gmbh | Verfahren zur Direktbelichtung von Leiterplattensubstraten |
US6198791B1 (en) | 1998-08-25 | 2001-03-06 | General Electric Company | Scalable multislice imaging system |
CA2396259A1 (en) * | 2000-01-11 | 2001-07-19 | Electro Scientific Industries, Inc. | Abbe error correction system and method |
US6882899B2 (en) | 2000-05-16 | 2005-04-19 | Photon Dynamics, Inc. | Sensing head positioning system using two-stage offset air bearings |
US6560248B1 (en) | 2000-06-08 | 2003-05-06 | Mania Barco Nv | System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation |
US6819789B1 (en) | 2000-11-08 | 2004-11-16 | Orbotech Ltd. | Scaling and registration calibration especially in printed circuit board fabrication |
WO2002101888A2 (en) | 2001-06-13 | 2002-12-19 | Orbotech Ltd. | Multi-beam micro-machining system and method |
US7259321B2 (en) * | 2002-01-07 | 2007-08-21 | Bp Corporation North America Inc. | Method of manufacturing thin film photovoltaic modules |
US6803539B2 (en) * | 2002-07-25 | 2004-10-12 | Matsushita Electrical Industrial Co., Ltd. | System and method of aligning a microfilter in a laser drilling system using a CCD camera |
JP4459683B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-04-28 | 日立ビアメカニクス株式会社 | マスクレス露光装置 |
US7486705B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-02-03 | Imra America, Inc. | Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback |
US7170584B2 (en) | 2004-11-17 | 2007-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2006104219A1 (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
JP4958489B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2012-06-20 | 株式会社キーエンス | レーザ加工装置、レーザ加工条件設定装置、レーザ加工条件設定方法、レーザ加工条件設定プログラム |
GB2452205B (en) | 2006-06-30 | 2011-04-13 | Kodak Graphic Comm Canada Co | Forming an image with a plurality of imaging heads |
JP5659020B2 (ja) | 2008-01-10 | 2015-01-28 | オルボテック リミテッド | 多重ビーム穿孔システム |
US7920980B2 (en) | 2008-07-17 | 2011-04-05 | General Electric Co. | System and method for dynamically providing feedback |
CN102245339B (zh) | 2008-10-10 | 2015-08-26 | Ipg微系统有限公司 | 具有多重细激光束传输系统的激光加工系统和方法 |
JP2010283243A (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
KR20110072440A (ko) * | 2009-12-22 | 2011-06-29 | 삼성전자주식회사 | 마스크리스 노광 장치 및 그 멀티 헤드의 교정 방법 |
KR101889563B1 (ko) | 2010-03-03 | 2018-08-17 | 마이크로닉 아베 | 교정 시스템을 포함하는 패턴 생성기 |
US8531751B2 (en) | 2011-08-19 | 2013-09-10 | Orbotech Ltd. | System and method for direct imaging |
JP5801737B2 (ja) * | 2012-03-16 | 2015-10-28 | 株式会社Screenホールディングス | 検査装置、露光装置及び検査方法 |
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