JP6563700B2 - 半導体接着用樹脂組成物、半導体接着用シート及びそれを用いた半導体装置 - Google Patents
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Description
しかしながら、鉛を含む有害物質の使用が規制されるようになり、鉛フリー化が求められている。
また、本発明の半導体装置は、本発明の半導体接着用シートを介して、半導体素子を支持部材上に接着してなることを特徴とする。
本発明の半導体接着用樹脂組成物は、上記した通り、(A)主鎖に脂肪族炭化水素基を有するビスマレイミド樹脂と、(B)硬化剤と、(C)比重1.1〜5.0の導電性粒子を含む充填材と、(D)平均粒子径10〜300nmの銀微粒子と、を必須成分とすることを特徴とする。以下、各成分について順番に説明する。
このようなビスマレイミド樹脂を含有することで、耐熱性に優れるとともに、低応力で吸湿後の熱時接着強度の良好な半導体接着用樹脂組成物が得られる。
このビスマレイミド化合物(A1)としては、例えば、BMI−3000(デジグナーモレキュールズ社製、商品名;分子量 3000)、BMI−5000(デジグナーモレキュールズ社製、商品名;分子量 5000)、等が挙げられる。
また、(A)成分の2種以上を混合する際、上記ビスマレイミド化合物(A1)とビスマレイミド化合物(A2)とを併用することが好ましい。このとき、ビスマレイミド化合物(A1)と(A2)とを、質量基準で、(A1)/(A2)が5/95〜30/70の比率で組み合わせて用いることが好ましい。上記比率で(A1)が5以上であると、シート状の成形性が向上し、30以下であると仮付け性が良好であり好ましい。すなわち、(A1)/(A2)が上記範囲にあると、シート成形が容易で、仮付け性の良好な半導体接着用樹脂組成物が得られる。
この(B)成分の硬化剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(C)充填材の比重が1.1未満では導電性金属の含有率が低く十分な焼成が行われないおそれがあり、比重が5.0超では樹脂組成物の塗布時に(C)成分の充填材が沈降し、下側に多く偏在することとなり、十分な熱伝導性や導電率が得られなくなるおそれがある。
導電性金属としては金または銀が好ましく、特に、球状シリカの表面を含有率10〜60質量%で銀被覆した銀被覆粒子が好ましい。銀被覆した球状シリカを高充填することで良好な熱伝導率と導電性を有するとともに、半導体素子との線膨張係数の差が小さい半導体接着用樹脂組成物が得られる。
アスペクト比がこの範囲にある球状粒子を用いることで、シートの厚さ方向に対して良好な導電性のネットワークが形成されることから、熱伝導性や導電率が向上でき好ましい。さらに、アスペクト比が上記範囲にあることで、粒子表面に均一に導電性金属を被覆することが容易となるため、被覆した導電性金属の剥落やクラック等の問題が発生しにくいという効果がある。
なお、この平均粒子径は、TEM又はSEMにより、無作為に100個試料を抽出したものの粒子径について算術平均により測定されるものである。
したがって、以上の観点からは、表面を被覆する有機化合物の分子量は貯蔵安定性を担保できる限りはなるべく小さい方が好ましい。
本発明において、さらに(E)フラックス成分としての有機物を添加してもよい。ここでフラックス成分は、半導体素子を接合する支持部材の酸化被膜を除去するフラックス活性を有するものをいう。
接合する支持部材の酸化被膜の除去だけでなく、接合加熱時の交換反応による(C)成分と(D)成分の表面に存在するステアリン酸、パルミチン酸、ヘキサン酸、オレイン酸等の表面処理剤を、それに含まれる酸化被膜、酸化銀の除去と同時に、ジカルボン酸それ自身が分解もしくは蒸散するため、その後の銀同士の焼結を邪魔することはない。このことにより、添加前よりも低温で銀同士が焼結する焼結促進効果が得られる。
これらの各添加剤はいずれも1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
具体的には、支持フィルム上に、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法により塗布し、乾燥処理し、半硬化状態とすることにより得られる。
<球状銀被覆シリカ粒子の調製>
体積平均粒径D50が3.5μmの球状シリカ粒子(株式会社龍森製、商品名:US−5)10gをアルカリ脱脂、酸中和してエッチングし、水洗後、二塩化パラジウム溶液に加え、撹拌し、パラジウム付着基材粒子を得た。
その後、硫酸ニッケル400g/L、次亜リン酸ナトリウム100g/L、クエン酸ナトリウム100g/L、メッキ安定剤6mLの混合溶液150mLを、基材粒子混合溶液に撹拌しながら徐々に添加し、基材粒子に下地層となるニッケル被膜を形成した。メッキ後の液を濾過し、濾過物を水洗した後、乾燥し、ニッケル被膜基材粒子を得た。
表1に示す配合割合で各成分を十分に混合し、三本ロールで混練して樹脂組成物を調製した後、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)及びメチルエチルケトンを加えて固形分40質量%の樹脂組成物を調製した。
(A1):主鎖に脂肪族炭化水素基を有する固形ビスマレイミド樹脂(デジグナーモレキュールズ社製、商品名:BMI−5000;数平均分子量5000)
(A2):主鎖に脂肪族炭化水素基を有する液状ビスマレイミド樹脂(デジグナーモレキュールズ社製、商品名:BMI−1500;数平均分子量1500)
(B)成分:ジクミルパーオキサイド(日本油脂株式会社製、商品名:パークミルD)
(C)成分:製造例1による球状銀被覆シリカ粒子(平均粒子径:3.8μm、比重:2.8)
その他の充填材:銀粒子(福田金属箔粉工業株式会社製、商品名:AgC−212D、平均粒子径:5μm、比重:10.5)
(D)成分
(Dl):プレート型銀微粒子(トクセン工業株式会社製、商品名:M13;中心粒子径:2μm、厚み:50nm以下)
(D2):球状銀微粒子(三ツ星ベルト株式会社製、商品名:MDot;平均粒径:50nm)
(F)成分:カーボンナノチューブ(昭和電工株式会社製、商品名:VGCF;平均繊維径:80nm、平均繊維長さ:10μm)
(G)成分:ヒドロキシルエチルアクリルアミド(株式会社興人製、商品名:HEAA)
(H)成分:グリシドキシオクチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、商品名:KBM−4803)
[取り扱い性]
得られた半導体接着用シートを180度折り曲げて、下記の基準で評価した。
○:割れ及びフィルムからの剥離なし
△:フィルムからの剥離はないが、外観に異常有り
×:割れ又はフィルムからの剥離が発生
6mm×6mmのシリコンチップ及び接合面に金蒸着層を設けた裏面金チップに半導体接着用シートを65℃、1秒、圧力1MPaの条件で圧着したとき、貼り付け可能な場合を○、貼り付け不能な場合を×として判定した。
6mm×6mmのシリコンチップ及び接合面に金蒸着層を設けた裏面金チップに半導体接着用シートを65℃、1秒、圧力1MPaの条件で仮付けした後、無垢の銅フレーム及びPPF(Ni−Pd/Auめっきした銅フレーム)にマウントし、125℃、5秒、圧力0.1MPaで加熱加圧圧着し、さらに220℃のオーブンで1時間硬化した。
硬化及び吸湿処理(85℃、相対湿度85%、72時間)後、マウント強度測定装置を用い、260℃での熱時ダイシェア強度を測定した。
JIS R 1611−1997に従い、レーザーフラッシュ法により硬化物の熱伝導率を測定した。
半導体接着用シートを、ガラス基板(厚み1mm)に65℃、1秒、圧力1MPaの条件で貼り付け、200℃、60分で硬化した。得られた配線をMCP−T600(三菱化学株式会社製、商品名)を用い4端子法にて電気抵抗を測定した。
(1)耐IRリフロー性
半導体接着用シートを介して、6mm×6mmのシリコンチップを銅フレーム及びPPFにマウントし、ホットプレート上で、200℃、60秒間、圧力2.5MPaの加熱硬化(HP硬化)又はオーブンを使用し、200℃、60分、圧力2.5MPaの加熱硬化(OV硬化)を行った。これを京セラケミカル株式会社製エポキシ封止材(商品名:KE−G3000D)を用い、下記の条件で成形したパッケージを85℃、相対湿度85%、168時間吸湿処理した後、IRリフロー処理(260℃、10秒)を行い、パッケージの内部クラックの発生数を超音波顕微鏡で観察した。
5個のサンプルについてクラックの発生したサンプル数を示す。
(2)耐冷熱衝撃性
上記試料片を用いて、冷熱サイクル処理(−55℃から150℃まで昇温し、また−55℃に冷却する操作を1サイクルとし、これを1000サイクル)を行い、各処理後それぞれのパッケージの内部クラックの発生数を超音波顕微鏡で観察した。
5個のサンプルについてクラックの発生したサンプル数を示す。
詳細な試験片作成条件は以下の通り。
パッケージ:80pQFP(14mm×20mm×2mm厚さ)
チップ:シリコンチップ及び裏面金メッキチップ
リードフレーム:PPF及び銅
封止材の成形:175℃、2分間
ポストモールドキュアー:175℃、8時間
マイクロフォーカスX線検査装置(株式会社島津製作所製、商品名:SMX−1000)を用いて観察し、ボイド率が5%未満を「○」、5%以上8%未満を「△」、8%以上を「×」と評価した。なお、上記ボイド率は、X線透過装置によりはんだ接合部を接合面に対し垂直方向から観察し、ボイド面積と接合部面積を求め、下式により算出した。
ボイド率(%)=ボイド面積÷(ボイド面積+接合部面積)×100
Claims (6)
- 前記(C)成分が、銀含有率10〜60質量%の銀被覆粒子であることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体接着用樹脂組成物。
- 前記(C)成分が、銀被覆シリカであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の半導体接着用樹脂組成物。
- 請求項1乃至4のいずれか1項記載の半導体接着用樹脂組成物を、シート状に成形してなることを特徴とする半導体接着用シート。
- 請求項5記載の半導体接着用シートを介して、半導体素子を支持部材上に接合してなることを特徴とする半導体装置。
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