JP6539190B2 - タッチ検出装置及びタッチ検出機能付き表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、外部近接物体を検出可能なタッチ検出装置及びタッチ検出機能付き表示装置に関する。

近年、いわゆるタッチパネルと呼ばれる、外部近接物体を検出可能なタッチ検出装置が注目されている。タッチパネルは、液晶表示装置等の表示装置上に装着又は一体化されて、タッチ検出機能付き表示装置として用いられている。そして、タッチ検出機能付き表示装置は、表示装置に各種のボタン画像等を表示させることにより、タッチパネルを通常の機械式ボタンの代わりとして情報入力を可能としている。

下記特許文献１は、静電容量方式のタッチパネルが記載されている。このタッチパネルは、表示領域に設けられ、タッチ入力を検出するための電極と、電極から引き出されて額縁領域に設けられた額縁配線とを含む。額縁領域に設けられた額縁配線は、カバーガラスの加飾層と重畳して配置されて、これにより、額縁配線が外部から視認されることを抑制している。

特開２０１５−０１１４９１号公報

しかし、タッチパネルの狭額縁化を図るため、額縁領域に設けられた額縁配線が表示領域の近傍に設けられる場合があり、斜め方向から見たときに額縁配線が視認される可能性がある。このため、額縁配線を表示領域の近傍に設けることが困難な場合があり、額縁領域の幅が大きくなる可能性がある。また、上記のようにカバーガラスに加飾層を設けた場合には、加飾層の位置精度や、カバーガラスの合わせ精度を考慮する必要がある。このため、加飾層の面積を大きくする必要があり、額縁領域の幅が大きくなる可能性がある。

本発明は、額縁領域の幅の増大を抑制しつつ、額縁領域に設けられた額縁配線が視認されることを抑制することが可能なタッチ検出装置及びタッチ検出機能付き表示装置を提供することを目的とする。

本発明の一態様のタッチ検出装置は、画像を表示させるための表示領域と、前記表示領域の外側の第１額縁領域と、前記第１額縁領域の外側の第２額縁領域とが設けられた基板と、前記基板と平行な面上において、前記表示領域に設けられ、複数の金属配線を有する複数の検出電極と、複数の前記検出電極から引き出されて前記第１額縁領域及び前記第２額縁領域にそれぞれ設けられた複数の額縁配線と、を有し、前記第１額縁領域における、前記基板の所定の面積に対する複数の前記額縁配線の被覆面積の比率が、前記第２額縁領域における、前記基板の所定の面積に対する複数の前記額縁配線の被覆面積の比率よりも小さい。

本発明の一態様のタッチ検出機能付き表示装置は、前記基板と平行な面上の前記表示領域において、行列配置された複数の画素電極と、前記表示領域内において画像表示機能を発揮する表示機能層と、を有する。

図１は、第１の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の一構成例を示すブロック図である。 図２は、相互静電容量方式のタッチ検出の基本原理を説明するための、指が接触又は近接していない状態を表す説明図である。 図３は、図２に示す指が接触又は近接していない状態の等価回路の例を示す説明図である。 図４は、相互静電容量方式のタッチ検出の基本原理を説明するための、指が接触又は近接した状態を表す説明図である。 図５は、図４に示す指が接触又は近接した状態の等価回路の例を示す説明図である。 図６は、相互静電容量方式のタッチ検出の駆動信号及びタッチ検出信号の波形の一例を表す図である。 図７は、タッチ検出機能付き表示装置の概略断面構造を表す断面図である。 図８は、タッチ検出機能付き表示装置を構成するＴＦＴ基板を模式的に示す平面図である。 図９は、タッチ検出機能付き表示装置を構成するガラス基板を模式的に示す平面図である。 図１０は、第１の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示部の画素配列を表す回路図である。 図１１は、第１の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示部の駆動電極及びタッチ検出電極の一構成例を表す斜視図である。 図１２は、１フレーム期間における表示動作期間とタッチ検出期間の配置の一例を表す模式図である。 図１３は、タッチ検出電極及び額縁配線を部分的に拡大して示す模式平面図である。 図１４は、表示領域と額縁領域との関係を説明するための模式断面図である。 図１５は、第２の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の、タッチ検出電極及び額縁配線を部分的に拡大して示す模式平面図である。 図１６は、第２の実施形態のタッチ検出電極と額縁配線との接続部分を拡大して示す模式平面図である。 図１７は、第２の実施形態の変形例に係る、タッチ検出電極と額縁配線との接続部分を拡大して示す模式平面図である。 図１８は、第３の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の、タッチ検出電極及び額縁配線を部分的に拡大して示す模式平面図である。 図１９は、第４の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の、タッチ検出電極及び額縁配線を部分的に拡大して示す模式平面図である。 図２０は、第５の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の、タッチ検出電極及び額縁配線を示す模式平面図である。 図２１は、駆動電極と額縁配線との間のフリンジ電界を模式的に説明するための斜視図である。 図２２は、第６の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の模式断面図である。

本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の一構成例を示すブロック図である。図１に示すように、タッチ検出機能付き表示装置１は、タッチ検出機能付き表示部１０と、制御部１１と、ゲートドライバ１２と、ソースドライバ１３と、駆動電極ドライバ１４と、タッチ検出部４０とを備えている。タッチ検出機能付き表示装置１は、タッチ検出機能付き表示部１０がタッチ検出機能を内蔵した表示装置である。タッチ検出機能付き表示部１０は、表示素子として液晶表示素子を用いている表示パネル２０と、タッチ入力を検出するタッチ検出装置であるタッチパネル３０とを一体化した装置である。なお、タッチ検出機能付き表示部１０は、表示パネル２０の上にタッチパネル３０を装着した、いわゆるオンセルタイプの装置であってもよい。表示パネル２０は、例えば、有機ＥＬ表示パネルであってもよい。

表示パネル２０は、後述するように、ゲートドライバ１２から供給される走査信号Ｖｓｃａｎに従って、１水平ラインずつ順次走査して表示を行う素子である。制御部１１は、外部より供給された映像信号Ｖｄｉｓｐに基づいて、ゲートドライバ１２、ソースドライバ１３、駆動電極ドライバ１４及びタッチ検出部４０に対してそれぞれ制御信号を供給し、これらが互いに同期して動作するように制御する回路である。

ゲートドライバ１２は、制御部１１から供給される制御信号に基づいて、タッチ検出機能付き表示部１０の表示駆動の対象となる１水平ラインを順次選択する機能を有している。

ソースドライバ１３は、制御部１１から供給される制御信号に基づいて、タッチ検出機能付き表示部１０の、後述する各副画素ＳＰｉｘに画素信号Ｖｐｉｘを供給する回路である。

駆動電極ドライバ１４は、制御部１１から供給される制御信号に基づいて、タッチ検出機能付き表示部１０の、後述する駆動電極ＣＯＭＬに駆動信号Ｖｃｏｍを供給する回路である。

タッチパネル３０は、静電容量型タッチ検出の基本原理に基づいて動作し、相互静電容量方式によりタッチ検出動作を行い、表示領域に対する外部の導体の接触又は近接を検出する。なお、タッチパネル３０は自己静電容量方式によりタッチ検出動作を行ってもよい。

タッチ検出部４０は、制御部１１から供給される制御信号と、タッチパネル３０から供給されるタッチ検出信号Ｖｄｅｔに基づいて、タッチパネル３０に対するタッチの有無を検出する回路である。また、タッチ検出部４０は、タッチがある場合においてタッチ入力が行われた座標などを求める。このタッチ検出部４０は、タッチ検出信号増幅部４２と、Ａ／Ｄ変換部４３と、信号処理部４４と、座標抽出部４５とを備える。検出タイミング制御部４６は、制御部１１から供給される制御信号に基づいて、Ａ／Ｄ変換部４３と、信号処理部４４と、座標抽出部４５とが同期して動作するように制御する。

上述のとおり、タッチパネル３０は、静電容量型タッチ検出の基本原理に基づいて動作する。ここで、図２から図６を参照して、本実施形態のタッチ検出機能付き表示装置１の相互静電容量方式によるタッチ検出の基本原理について説明する。図２は、相互静電容量方式のタッチ検出の基本原理を説明するための、指が接触又は近接していない状態を表す説明図である。図３は、図２に示す指が接触又は近接していない状態の等価回路の例を示す説明図である。図４は、相互静電容量方式のタッチ検出の基本原理を説明するための、指が接触又は近接した状態を表す説明図である。図５は、図４に示す指が接触又は近接した状態の等価回路の例を示す説明図である。図６は、駆動信号及びタッチ検出信号の波形の一例を表す図である。なお、以下の説明では、指が接触又は近接する場合を説明するが、指に限られず、例えばスタイラスペン等の導体を含む物体であってもよい。

例えば、図２に示すように、容量素子Ｃ１は、誘電体Ｄを挟んで互いに対向配置された一対の電極、駆動電極Ｅ１及びタッチ検出電極Ｅ２を備えている。図３に示すように、容量素子Ｃ１は、その一端が交流信号源（駆動信号源）Ｓに接続され、他端は電圧検出器ＤＥＴに接続される。電圧検出器ＤＥＴは、例えば図１に示すタッチ検出信号増幅部４２に含まれる積分回路である。

交流信号源Ｓから駆動電極Ｅ１（容量素子Ｃ１の一端）に所定の周波数（例えば数ｋＨｚ〜数百ｋＨｚ程度）の交流矩形波Ｓｇが印加されると、タッチ検出電極Ｅ２（容量素子Ｃ１の他端）側に接続された電圧検出器ＤＥＴを介して、図６に示すような出力波形（タッチ検出信号Ｖｄｅｔ）が現れる。なお、この交流矩形波Ｓｇは、駆動電極ドライバ１４から入力される駆動信号Ｖｃｏｍに相当するものである。

指が接触又は近接していない状態（非接触状態）では、図２及び図３に示すように、容量素子Ｃ１に対する充放電に伴って、容量素子Ｃ１の容量値に応じた電流Ｉ_０が流れる。図３に示す電圧検出器ＤＥＴは、交流矩形波Ｓｇに応じた電流Ｉ_０の変動を電圧の変動（実線の波形Ｖ_０（図６参照））に変換する。

一方、指が接触又は近接した状態（接触状態）では、図４に示すように、指によって形成される静電容量Ｃ２が、タッチ検出電極Ｅ２と接触している又は近傍にあることにより、駆動電極Ｅ１及びタッチ検出電極Ｅ２の間にあるフリンジ分の静電容量が遮られる。このため、容量素子Ｃ１は、図５に示すように、非接触状態での容量値よりも容量値の小さい容量素子Ｃ１’として作用する。そして、図５に示す等価回路でみると、容量素子Ｃ１’に電流Ｉ_１が流れる。図６に示すように、電圧検出器ＤＥＴは、交流矩形波Ｓｇに応じた電流Ｉ_１の変動を電圧の変動（点線の波形Ｖ_１）に変換する。この場合、波形Ｖ_１は、上述した波形Ｖ_０と比べて振幅が小さくなる。これにより、波形Ｖ_０と波形Ｖ_１との電圧差分の絶対値｜ΔＶ｜は、指などの外部から接触又は近接する導体の影響に応じて変化することになる。なお、電圧検出器ＤＥＴは、波形Ｖ_０と波形Ｖ_１との電圧差分の絶対値｜ΔＶ｜を精度よく検出するため、回路内のスイッチングにより、交流矩形波Ｓｇの周波数に合わせて、コンデンサの充放電をリセットする期間Ｒｅｓｅｔを設けた動作とすることがより好ましい。

図１に示すタッチパネル３０は、駆動電極ドライバ１４から供給される駆動信号Ｖｃｏｍに従って、１検出ブロックずつ順次走査して、相互静電容量方式によるタッチ検出を行う。

タッチパネル３０は、後述する複数のタッチ検出電極ＴＤＬから、図３又は図５に示す電圧検出器ＤＥＴを介して、検出ブロック毎にタッチ検出信号Ｖｄｅｔを出力する。タッチ検出信号Ｖｄｅｔは、タッチ検出部４０のタッチ検出信号増幅部４２に供給される。

タッチ検出信号増幅部４２は、タッチパネル３０から供給されるタッチ検出信号Ｖｄｅｔを増幅する。なお、タッチ検出信号増幅部４２は、タッチ検出信号Ｖｄｅｔに含まれる高い周波数成分（ノイズ成分）を除去して出力する低域通過アナログフィルタであるアナログＬＰＦ（Ｌｏｗ Ｐａｓｓ Ｆｉｌｔｅｒ）を備えていてもよい。

Ａ／Ｄ変換部４３は、駆動信号Ｖｃｏｍに同期したタイミングで、タッチ検出信号増幅部４２から出力されるアナログ信号をそれぞれサンプリングしてデジタル信号に変換する。

信号処理部４４は、Ａ／Ｄ変換部４３の出力信号に含まれる、駆動信号Ｖｃｏｍをサンプリングした周波数以外の周波数成分（ノイズ成分）を低減するデジタルフィルタを備えている。信号処理部４４は、Ａ／Ｄ変換部４３の出力信号に基づいて、タッチパネル３０に対するタッチの有無を検出する論理回路である。信号処理部４４は、指による検出信号の差分のみ取り出す処理を行う。この指による差分の信号は、上述した波形Ｖ_０と波形Ｖ_１との差分の絶対値｜ΔＶ｜である。信号処理部４４は、１検出ブロック当たりの絶対値｜ΔＶ｜を平均化する演算を行い、絶対値｜ΔＶ｜の平均値を求めてもよい。これにより、信号処理部４４は、ノイズによる影響を低減できる。信号処理部４４は、検出した指による差分の信号を所定のしきい値電圧と比較し、このしきい値電圧未満であれば、外部近接物体が非接触状態であると判断する。一方、信号処理部４４は、検出した指による差分の信号を所定のしきい値電圧と比較し、しきい値電圧以上であれば、外部近接物体の接触状態と判断する。このようにして、タッチ検出部４０はタッチ検出が可能となる。

座標抽出部４５は、信号処理部４４においてタッチが検出されたときに、そのタッチパネル座標を求める論理回路である。座標抽出部４５は、タッチパネル座標を検出信号出力Ｖｏｕｔとして出力する。以上のように、本実施形態のタッチ検出機能付き表示装置１は、相互静電容量方式によるタッチ検出の基本原理に基づいて、タッチ検出動作を行うことができる。

次に、タッチ検出機能付き表示装置１の構成例を詳細に説明する。図７は、タッチ検出機能付き表示装置の概略断面構造を表す断面図である。図８は、タッチ検出機能付き表示装置を構成するＴＦＴ基板を模式的に示す平面図である。図９は、タッチ検出機能付き表示装置を構成するガラス基板を模式的に示す平面図である。図７に示すように、タッチ検出機能付き表示部１０は、画素基板２と、この画素基板２の表面に垂直な方向に対向して配置された対向基板３と、画素基板２と対向基板３との間に挿設された液晶層６とを備える。

図７に示すように、画素基板２は、回路基板としてのＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板２１と、このＴＦＴ基板２１の上方にマトリックス状に配設された複数の画素電極２２と、ＴＦＴ基板２１と画素電極２２との間に設けられた複数の駆動電極ＣＯＭＬと、画素電極２２と駆動電極ＣＯＭＬとを絶縁する絶縁層２４と、を含む。ＴＦＴ基板２１の下側には、接着層６６を介して偏光板６５が設けられていてもよい。

ＴＦＴ基板２１には、表示制御用ＩＣ１９が設けられている。表示制御用ＩＣ１９は、ＴＦＴ基板２１にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）実装されたチップであり、上述した制御部１１を内蔵したものである。また、ＴＦＴ基板２１の端部にフレキシブル基板７２が接続されている。表示制御用ＩＣ１９は、外部のホストＩＣ（図示しない）から供給された映像信号Ｖｄｉｓｐ（図１参照）に基づいて、後述する走査信号線ＧＣＬ及び画素信号線ＳＧＬ等に制御信号を出力する。

図８に示すように、ＴＦＴ基板２１は、画像を表示させるための表示領域１０ａと、表示領域１０ａの外側の額縁領域１０ｂとを有する。表示領域１０ａは、長辺と短辺とを有する矩形状である。額縁領域１０ｂは、表示領域１０ａの４辺を囲む枠状となっている。

複数の駆動電極ＣＯＭＬは、ＴＦＴ基板２１の表示領域１０ａに設けられており、表示領域１０ａの長辺に沿った方向に延在している。また、駆動電極ＣＯＭＬは、表示領域１０ａの短辺に沿った方向に、複数配列されている。駆動電極ＣＯＭＬは、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透光性を有する導電性材料が用いられる。

ＴＦＴ基板２１の額縁領域１０ｂの短辺側に、駆動電極ドライバ１４及び表示制御用ＩＣ１９が配置され、額縁領域１０ｂの長辺側にゲートドライバ１２が配置されている。また、額縁領域１０ｂの短辺側に、フレキシブル基板７２が接続されている。駆動電極ドライバ１４及びフレキシブル基板７２は、駆動電極ＣＯＭＬの延在方向の端部の近傍に配置されている。このため、駆動電極ＣＯＭＬから引き出される配線の長さを短くして、額縁領域１０ｂの面積を小さくすることが可能である。

図７に示すように、対向基板３は、ガラス基板３１と、このガラス基板３１の一方の面に形成されたカラーフィルタ３２とを含む。ガラス基板３１の他方の面には、タッチパネル３０の検出電極であるタッチ検出電極ＴＤＬが設けられている。タッチ検出電極ＴＤＬの上には保護層３８が設けられている。さらに、タッチ検出電極ＴＤＬの上方には、接着層３９を介して偏光板３５が設けられている。また、ガラス基板３１にはフレキシブル基板７１が接続されている。フレキシブル基板７１は額縁配線３７を介してタッチ検出電極ＴＤＬと接続される。

図９に示すように、ガラス基板３１の表示領域１０ａに、タッチ検出電極ＴＤＬが設けられている。タッチ検出電極ＴＤＬは、表示領域１０ａの短辺に沿った方向に延在し、表示領域１０ａの長辺に沿った方向に複数配列される。タッチ検出電極ＴＤＬは、それぞれ複数の金属配線３３ａ、３３ｂを有している。複数の金属配線３３ａ、３３ｂは、複数の屈曲部を有してジグザグ線又は波線に形成されており、表示領域１０ａの短辺に沿った方向に延在する。金属配線３３ａと金属配線３３ｂとが表示領域１０ａの長辺に沿った方向に配列される。本実施形態では、金属配線３３ａの屈曲部と金属配線３３ｂの屈曲部とが互いに接続されて、タッチ検出電極ＴＤＬがメッシュ状の金属配線として構成される。金属配線３３ａ及び金属配線３３ｂは、図９の点線Ａに示す箇所に設けられたスリットＳＬにより分離される。スリットＳＬで分離された金属配線３３ａ及び金属配線３３ｂが、それぞれ１つのタッチ検出電極ＴＤＬとして機能する。

金属配線３３ａ、３３ｂは、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）又はこれらの合金の少なくとも１つの金属材料で形成される。また、金属配線３３ａ、３３ｂは、これらの金属材料を１以上用いて、複数積層した積層体としてもよい。アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）又はこれらの合金の少なくとも１つの金属材料は、透明電極の材料としてＩＴＯ等の透光性導電酸化物よりも低抵抗である。アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）又はこれらの合金の少なくとも１つの金属材料は、ＩＴＯ等の透光性導電酸化物に比較して遮光性があるため、透過率が低下する可能性又はタッチ検出電極ＴＤＬのパターンが視認されてしまう可能性がある。本実施形態において、１つのタッチ検出電極ＴＤＬが、複数の幅細の金属配線３３ａ、３３ｂを有しており、金属配線３３ａ、３３ｂが、線幅よりも大きい間隔を設けてメッシュ状に配置されることで、低抵抗化と、不可視化とを実現することができる。その結果、タッチ検出電極ＴＤＬが低抵抗化し、タッチ検出機能付き表示装置１は、薄型化、大画面化又は高精細化することができる。

金属配線３３ａ、３３ｂの幅は、２μｍ以上かつ１０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。金属配線３３ａ、３３ｂの幅が１０μｍ以下であると、表示領域１０ａのうちブラックマトリックス又は走査信号線ＧＣＬ及び画素信号線ＳＧＬで光の透過を抑制されない領域である開口部を覆う面積が小さくなり、開口率を損なう可能性が低くなるからである。また、金属配線３３ａ、３３ｂの幅が２μｍ以上であると、形状が安定し、断線する可能性が低くなるからである。

図９に示すように、ガラス基板３１の額縁領域１０ｂに、タッチ検出電極ＴＤＬから引き出された額縁配線３７が複数設けられている。ガラス基板３１の額縁領域１０ｂの短辺側にフレキシブル基板７１が接続されている。額縁配線３７は、額縁領域１０ｂの長辺に沿って延在して、フレキシブル基板７１と接続される。フレキシブル基板７１には、タッチ検出用ＩＣ１８が搭載されている。タッチ検出用ＩＣ１８は、図１に示すタッチ検出部４０が実装されており、タッチ検出電極ＴＤＬから出力されるタッチ検出信号Ｖｄｅｔが、額縁配線３７及びフレキシブル基板７１を介してタッチ検出用ＩＣ１８に供給される。

図７に示すように、ＴＦＴ基板２１とガラス基板３１とは、スペーサ６１を介して所定の間隔を設けて対向して配置される。ＴＦＴ基板２１とガラス基板３１との間の空間に液晶層６が設けられる。液晶層６は、電界の状態に応じてそこを通過する光を変調するものであり、例えば、ＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチング）を含むＩＰＳ（インプレーンスイッチング）等の横電界モードの液晶が用いられる。なお、図７に示す液晶層６と画素基板２との間、及び液晶層６と対向基板３との間には、それぞれ配向膜が配設されてもよい。

次に表示パネル２０の表示動作について説明する。図１０は、第１の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示部の画素配列を表す回路図である。ＴＦＴ基板２１には、図１０に示す各副画素ＳＰｉｘの薄膜トランジスタ素子（以下、ＴＦＴ素子）Ｔｒ、各画素電極２２に画素信号Ｖｐｉｘを供給する画素信号線ＳＧＬ、各ＴＦＴ素子Ｔｒを駆動する駆動信号を供給する走査信号線ＧＣＬ等の配線が形成されている。画素信号線ＳＧＬ及び走査信号線ＧＣＬは、ＴＦＴ基板２１の表面と平行な平面に延在する。

図１０に示す表示パネル２０は、マトリックス状に配列された複数の副画素ＳＰｉｘを有している。副画素ＳＰｉｘは、それぞれＴＦＴ素子Ｔｒ及び液晶素子ＬＣを備えている。ＴＦＴ素子Ｔｒは、薄膜トランジスタにより構成されるものであり、この例では、ｎチャネルのＭＯＳ（Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）型のＴＦＴで構成されている。ＴＦＴ素子Ｔｒのソースは画素信号線ＳＧＬに接続され、ゲートは走査信号線ＧＣＬに接続され、ドレインは液晶素子ＬＣの一端に接続されている。液晶素子ＬＣは、一端がＴＦＴ素子Ｔｒのドレインに接続され、他端が駆動電極ＣＯＭＬに接続されている。

副画素ＳＰｉｘは、走査信号線ＧＣＬにより、表示パネル２０の同じ行に属する他の副画素ＳＰｉｘと互いに接続されている。走査信号線ＧＣＬは、ゲートドライバ１２（図１参照）と接続され、ゲートドライバ１２より走査信号Ｖｓｃａｎが供給される。また、副画素ＳＰｉｘは、画素信号線ＳＧＬにより、表示パネル２０の同じ列に属する他の副画素ＳＰｉｘと互いに接続されている。画素信号線ＳＧＬは、ソースドライバ１３（図１参照）と接続され、ソースドライバ１３より画素信号Ｖｐｉｘが供給される。さらに、副画素ＳＰｉｘは、駆動電極ＣＯＭＬにより、同じ列に属する他の副画素ＳＰｉｘと互いに接続されている。駆動電極ＣＯＭＬは、駆動電極ドライバ１４（図１参照）と接続され、駆動電極ドライバ１４より駆動信号Ｖｃｏｍが供給される。つまり、この例では、同じ一列に属する複数の副画素ＳＰｉｘが一本の駆動電極ＣＯＭＬを共有するようになっている。

図１に示すゲートドライバ１２は、走査信号線ＧＣＬを順次走査するように駆動する。ゲートドライバ１２は、走査信号線ＧＣＬを介して、走査信号Ｖｓｃａｎ（図１参照）を副画素ＳＰｉｘのＴＦＴ素子Ｔｒのゲートに印加することにより、副画素ＳＰｉｘのうちの１行（１水平ライン）を表示駆動の対象として順次選択する。また、タッチ検出機能付き表示装置１は、１水平ラインに属する副画素ＳＰｉｘに対して、ソースドライバ１３は、図１３に示す画素信号線ＳＧＬを介して、画素信号Ｖｐｉｘを、選択された１水平ラインを構成する副画素ＳＰｉｘに供給する。そして、これらの副画素ＳＰｉｘでは、供給される画素信号Ｖｐｉｘに応じて１水平ラインずつ表示が行われるようになっている。この表示動作を行う際、駆動電極ドライバ１４は、駆動電極ＣＯＭＬに対して駆動信号Ｖｃｏｍを印加する。画素電極２２は、表示動作の駆動信号Ｖｃｏｍにより共通電位が供給される。

図７に示すカラーフィルタ３２は、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色に着色されたカラーフィルタの色領域が周期的に配列されていてもよい。上述した図１０に示す各副画素ＳＰｉｘに、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の色領域３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂが１組として対応付けられ、３色の色領域３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂに対応する副画素ＳＰｉｘを１組として画素Ｐｉｘが構成される。図７に示すように、カラーフィルタ３２は、ＴＦＴ基板２１と垂直な方向において、液晶層６と対向する。なお、カラーフィルタ３２は、異なる色に着色されていれば、他の色の組み合わせであってもよい。また、カラーフィルタ３２は、３色の組み合わせに限定されず、４色以上の組み合わせであってもよい。

図１０に示すように、本実施形態では、駆動電極ＣＯＭＬが画素信号線ＳＧＬの延在方向と平行な方向に延在し、走査信号線ＧＣＬの延在方向と交差する方向に延びている。このため、駆動電極ＣＯＭＬからの配線を額縁領域１０ｂの短辺側（フレキシブル基板７２側）に引き出すことが可能である（図８参照）。したがって、駆動電極ＣＯＭＬを画素信号線ＳＧＬと直交する方向に設けた場合と比較して、額縁領域１０ｂの長辺側に駆動電極ドライバ１４を設ける必要がなく、額縁領域１０ｂの幅を小さくすることができる。なお、駆動電極ＣＯＭＬはこれに限定されず、例えば走査信号線ＧＣＬと平行な方向に延びていてもよい。

図７及び図８に示す駆動電極ＣＯＭＬは、表示パネル２０の複数の画素電極２２に共通の電位を与える共通電極として機能するとともに、タッチパネル３０の相互静電容量方式によるタッチ検出を行う際の駆動電極としても機能する。また、駆動電極ＣＯＭＬは、タッチパネル３０の自己静電容量方式によるタッチ検出を行う際の検出電極として機能してもよい。図１１は、第１の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示部の駆動電極及びタッチ検出電極の一構成例を表す斜視図である。タッチパネル３０は、画素基板２に設けられた駆動電極ＣＯＭＬと、対向基板３に設けられたタッチ検出電極ＴＤＬにより構成されている。

駆動電極ＣＯＭＬは、図１１の左右方向に延在する複数のストライプ状の電極パターンを含む。タッチ検出電極ＴＤＬは、駆動電極ＣＯＭＬの電極パターンの延在方向と交差する方向に延びる複数の電極パターンを含む。そして、タッチ検出電極ＴＤＬは、ＴＦＴ基板２１（図７参照）の表面に対する垂直な方向において、駆動電極ＣＯＭＬと対向している。タッチ検出電極ＴＤＬの各電極パターンは、タッチ検出部４０のタッチ検出信号増幅部４２の入力にそれぞれ接続される（図１参照）。駆動電極ＣＯＭＬの各電極パターンとタッチ検出電極ＴＤＬの各電極パターンとの交差部分に、それぞれ静電容量が形成される。

タッチ検出電極ＴＤＬ及び駆動電極ＣＯＭＬ（駆動電極ブロック）は、ストライプ状に複数に分割される形状に限られない。例えば、タッチ検出電極ＴＤＬ及び駆動電極ＣＯＭＬは、櫛歯形状等であってもよい。あるいはタッチ検出電極ＴＤＬ及び駆動電極ＣＯＭＬは、複数に分割されていればよく、駆動電極ＣＯＭＬを分割するスリットの形状は直線であっても、曲線であってもよい。

この構成により、タッチパネル３０では、相互静電容量方式のタッチ検出動作を行う際、駆動電極ドライバ１４が駆動電極ブロックとして時分割的に順次走査するように駆動することにより、駆動電極ＣＯＭＬの１検出ブロックが順次選択される。そして、タッチ検出電極ＴＤＬからタッチ検出信号Ｖｄｅｔが出力されることにより、１検出ブロックのタッチ検出が行われるようになっている。つまり、駆動電極ブロックは、上述した相互静電容量方式のタッチ検出の基本原理における駆動電極Ｅ１に対応し、タッチ検出電極ＴＤＬは、タッチ検出電極Ｅ２に対応するものであり、タッチパネル３０はこの基本原理に従ってタッチ入力を検出するようになっている。図１１に示すように、タッチパネル３０において、互いに交差したタッチ検出電極ＴＤＬ及び駆動電極ＣＯＭＬは、静電容量式タッチセンサをマトリックス状に構成している。よって、タッチパネル３０のタッチ検出面全体に亘って走査することにより、外部からの導体の接触又は近接が生じた位置の検出が可能となっている。

タッチ検出機能付き表示装置１の動作方法の一例として、タッチ検出機能付き表示装置１は、タッチ検出動作（タッチ検出期間）と表示動作（表示動作期間）とを時分割に行う。タッチ検出動作と表示動作とはどのように分けて行ってもよいが、以下、表示パネル２０の１フレーム期間（１Ｆ期間）、すなわち、一画面分の映像情報が表示されるのに要する時間の中において、タッチ検出動作と表示動作とをそれぞれ複数回に分割して行う方法について説明する。

図１２は、１フレーム期間における表示動作期間とタッチ検出期間の配置の一例を表す模式図である。１フレーム期間（１Ｆ）は、２つの表示動作期間Ｐｄ１、Ｐｄ２及び２つのタッチ検出期間Ｐｔ１、Ｐｔ２からなっており、これらの各期間は、時間軸上において、表示動作期間Ｐｄ１、タッチ検出期間Ｐｔ１、表示動作期間Ｐｄ２、タッチ検出期間Ｐｔ２のように交互に配置されている。

制御部１１（図１参照）は、ゲートドライバ１２とソースドライバ１３とを介して、各表示動作期間Ｐｄ１、Ｐｄ２に選択される複数行の画素Ｐｉｘ（図１０参照）に画素信号Ｖｐｉｘを供給する。

また、制御部１１（図１参照）は、駆動電極ドライバ１４を介して、各タッチ検出期間Ｐｔ１、Ｐｔ２に選択される駆動電極ＣＯＭＬ（図１１参照）に、タッチ検出用の駆動信号Ｖｃｏｍを供給する。タッチ検出部４０は、タッチ検出電極ＴＤＬから供給されるタッチ検出信号Ｖｄｅｔに基づいて、タッチ入力の有無および入力位置の座標の演算を行う。

なお、本実施形態において、駆動電極ＣＯＭＬは表示パネル２０の共通電極を兼用するので、制御部１１は、表示動作期間Ｐｄ１、Ｐｄ２においては、駆動電極ドライバ１４を介して選択される駆動電極ＣＯＭＬに、表示用の共通電極電位である駆動信号Ｖｃｏｍを供給する。

タッチ検出動作に駆動電極ＣＯＭＬを用いず、タッチ検出電極ＴＤＬのみで検出動作を行う場合、例えば、自己静電容量方式のタッチ検出原理に基づいてタッチ検出を行う場合、駆動電極ドライバ１４は、タッチ検出電極ＴＤＬにタッチ検出用の駆動信号Ｖｃｏｍを供給してもよい。

図１２では、１フレーム期間（１Ｆ）において１画面分の映像表示を２回に分けて行うことになっているが、１フレーム期間（１Ｆ）内の表示動作期間はさらに多くの回数に分けられていてもよい。タッチ検出期間についても、１フレーム期間（１Ｆ）中にさらに多くの回数が設けられていてもよい。

タッチ検出期間Ｐｔ１、Ｐｔ２は、それぞれ一画面の半分ずつのタッチ検出を行ってもよく、それぞれが一画面分のタッチ検出を行ってもよい。また、必要に応じて間引き検出等を行ってもよい。また、１フレーム期間（１Ｆ）中の表示動作とタッチ検出動作とを複数回に分けずに一回ずつ行ってもよい。

タッチ検出期間Ｐｔ１、Ｐｔ２において、走査信号線ＧＣＬ及び画素信号線ＳＧＬ（図１０参照）は、電圧信号が供給されず電位が固定されていないフローティング状態としてもよい。また、走査信号線ＧＣＬ及び画素信号線ＳＧＬは、駆動信号Ｖｃｏｍと同期した同一の波形の信号が供給されてもよい。

次に、本実施形態に係るタッチ検出電極ＴＤＬ及び額縁配線３７の詳細な構成について説明する。図１３は、タッチ検出電極及び額縁配線を部分的に拡大して示す模式平面図である。図１４は、表示領域と額縁領域との関係を説明するための模式断面図である。

図１３に示すように、ガラス基板３１は、画像を表示させるための表示領域１０ａと、表示領域１０ａの外側の額縁領域１０ｂとを有する。図１３及び図１４に示すように、額縁領域１０ｂは、表示領域１０ａの外周と接し、表示領域１０ａの外周から、ガラス基板３１の外周までの領域を示す。額縁配線３７は、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅを含む。表示領域１０ａにタッチ検出電極ＴＤＬが設けられており、額縁領域１０ｂに第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅが設けられている。第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、額縁領域１０ｂの１辺に沿った方向に、互いに並列に延在する。また、図１４に示すように、ガラス基板３１の下面には額縁領域１０ｂと重畳する位置に遮光層３６が設けられている。遮光層３６は、光の透過を抑制する黒色等に着色されており、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅが外部から視認されないように設けられている。本明細書において、表示領域１０ａは、遮光層３６の内周側の端部３６ａよりも内側の領域であり、カラーフィルタ３２と重畳する領域を示す。

図１３に示すように、タッチ検出電極ＴＤＬは複数の金属配線３３ａ、３３ｂを有する。金属配線３３ａ、３３ｂは、それぞれ、表示領域１０ａの短辺に沿った方向（図１３に示す第１の方向Ｄｘ）に対して傾斜する細線片Ｕａと細線片Ｕｂとを有する。細線片Ｕａと細線片Ｕｂとは互いに逆方向に傾斜している。細線片Ｕａと細線片Ｕｂとは、第１の方向Ｄｘに繰り返し交互に配置され、屈曲部で折り返されて接続される。このように、金属配線３３ａ、３３ｂは、屈曲部を有するジグザグ線又は波線に形成される。細線片Ｕａ及び細線片Ｕｂは直線状であるが、これに限られず、曲線状であってもよい。細線片Ｕａ及び細線片Ｕｂは、カラーフィルタ３２の色領域３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂの延出方向と平行な方向に対して角度を有して互いに逆向きに傾斜する。これにより、細線片Ｕａ及び細線片Ｕｂは、色領域３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂを順に遮光することから、カラーフィルタ３２の特定色領域における透過率の低下を抑制することができる。

金属配線３３ａと金属配線３３ｂとは、表示領域１０ａの短辺と平行な直線を対称軸とする線対称な形状である。金属配線３３ａと金属配線３３ｂとは、表示領域１０ａの長辺に沿った方向（図１３に示す第２の方向Ｄｙ）に交互に配列されている。第２の方向Ｄｙに配列された複数の金属配線３３ａと複数の金属配線３３ｂとは、屈曲部同士が結合されて交差部ＴＤＸを形成する。この交差部ＴＤＸで金属配線３３ａと金属配線３３ｂとが導通する。このような構成により、金属配線３３ａと金属配線３３ｂは、細線片Ｕａ及び細線片Ｕｂで囲まれた包囲領域ｍｅｓｈ１を形成して、表示領域１０ａにメッシュ状の金属配線が設けられる。

額縁領域１０ｂは、第１額縁領域ＦＡ１、第２額縁領域ＦＡ２及び第３額縁領域ＦＡ３を有する。第１額縁領域ＦＡ１は、表示領域１０ａと接し、表示領域１０ａの外周から図１４に示す幅Ｗａを有する枠状の領域である。ここで、表示領域１０ａの外周は、遮光層３６の端部３６ａと重なる位置である。第１額縁領域ＦＡ１の幅Ｗａは、ガラス基板３１の厚さｔｇの１／２以上の大きさである。遮光層３６が設けられている場合であっても、斜め方向から見たときに、第１額縁領域ＦＡ１はカラーフィルタ３２と重畳して、外部から視認される可能性がある領域である。

第１額縁配線５７ａ−５７ｃは第１額縁領域ＦＡ１に設けられている。第１額縁配線５７ａ−５７ｃは、第２の方向Ｄｙに沿って延在し、第１の方向Ｄｘに互いに間隔を有して平行に配列される。金属配線３３ａ、３３ｂが表示領域１０ａから第１額縁領域ＦＡ１に延びており、第１額縁配線５７ａと金属配線３３ａ、３３ｂとが接続箇所ＵＸで接続される。なお、第１額縁配線５７ｂ、５７ｃは、図示しない異なるタッチ検出電極ＴＤＬとそれぞれ接続されている。

第２額縁領域ＦＡ２は、第１額縁領域ＦＡ１と接して、第１額縁領域ＦＡ１の外側に設けられる枠状の領域である。第２額縁領域ＦＡ２は、第１額縁領域ＦＡ１よりも大きい幅を有している。第２額縁領域ＦＡ２には、第２額縁配線５８ａ−５８ｅが設けられている。第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、第１額縁配線５７ａ−５７ｃと平行に第２の方向Ｄｙに沿って延在し、第１の方向Ｄｘに複数配列されている。第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、図示しない異なるタッチ検出電極ＴＤＬとそれぞれ接続されている。

第３額縁領域ＦＡ３は、第２額縁領域ＦＡ２と接して、第２額縁領域ＦＡ２の外周からガラス基板３１の外周までの領域である。第３額縁領域ＦＡ３は、第２額縁配線５８ｅよりも外側の領域であり、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅが設けられていない領域である。図１４に示すように、第３額縁領域ＦＡ３は、保護層３８が塗布されている領域ＦＡ３ａと、保護層３８が塗布されていない、ガラス基板３１の上面が保護層３８から露出する領域ＦＡ３ｂとを含む。領域ＦＡ３ａは、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅが確実に保護層３８に覆われるように、保護層３８の塗布領域を第２額縁配線５８ｅよりも外側に拡大した領域である。保護層３８が塗布されていない領域ＦＡ３ｂは、製造工程上設けられている領域であるが、領域ＦＡ３ｂを設けず、ガラス基板３１の外周まで保護層３８を設けてもよい。

本実施形態において、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅは金属配線３３ａ、３３ｂと同じ金属材料が用いられる。そして、表示領域１０ａにおける金属配線３３ａ、３３ｂの配線密度に対して、第１額縁領域ＦＡ１の少なくとも１辺における第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度が大きくなっている。さらに、第１額縁領域ＦＡ１における第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度に対して、第２額縁領域ＦＡ２における第２額縁配線５８ａ−５８ｅの配線密度が大きくなっている。

ここで、金属配線３３ａ、３３ｂの配線密度とは、平面視での基板３１の表示領域１０ａの面積に対して金属配線３３ａ、３３ｂの被覆面積が占める比率を示す。第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度とは、平面視での基板３１の第１額縁領域ＦＡ１の面積に対して第１額縁配線５７ａ−５７ｃの被覆面積が占める比率を示す。第２額縁配線５８ａ−５８ｅの配線密度とは、平面視での基板３１の第２額縁領域ＦＡ２の面積に対して第２額縁配線５８ａ−５８ｅの被覆面積が占める比率を示す。なお、それぞれの配線密度は、例えば、包囲領域ｍｅｓｈ１を形成する４本の細線片Ｕａ及び細線片Ｕｂを含む菱形の形状又は矩形状を基板３１の単位面積として、この単位面積に対してそれぞれの配線の面積が占める比率としてもよい。

例えば、第１額縁配線５７ａ−５７ｃを金属配線３３ａ、３３ｂと同じ幅として、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ同士の間隔を、隣り合う交差部ＴＤＸ同士の間隔よりも小さくすることで、表示領域１０ａの配線密度に対して第１額縁領域ＦＡ１の配線密度を大きくすることができる。また、第１額縁配線５７ａ−５７ｃを金属配線３３ａ、３３ｂと異なる幅としてもよい。第１額縁配線５７ａ−５７ｃを金属配線３３ａ、３３ｂよりも大きい幅とすることで、配線密度を大きくすることができる。

第１額縁配線５７ａ−５７ｃの幅は、金属配線３３ａ、３３ｂと同様に、２μｍ以上かつ１０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。また、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ同士の間隔は、第１額縁配線５７ａ−５７ｃの幅以上の大きさとすることが好ましい。このような構成とすることで、第１額縁配線５７ａ−５７ｃの低抵抗化と、不可視化とを実現することができる。

第１額縁配線５７ａ−５７ｃは、隣り合う第２額縁配線５８ａ−５８ｅ同士の間隔に対して、隣り合う第１額縁配線５７ａ−５７ｃ同士の間隔を大きくすることで、第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度を第２額縁配線５８ａ−５８ｅよりも小さくすることができる。また、第１額縁配線５７ａ−５７ｃの幅を第２額縁配線５８ａ−５８ｅよりも小さくすることで、第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度を第２額縁配線５８ａ−５８ｅよりも小さくすることができる。

第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、第１額縁配線５７ａ−５７ｃに対して間隔を小さく、かつ幅を大きくすることで低抵抗化が可能となる。この場合であっても、第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、図１４に示す遮光層３６と重畳して配置されているため、金属配線３３ａ、３３ｂと同じ金属材料を用いることにより、不可視化を実現することができる。

第２額縁配線５８ａ−５８ｅの幅は、第２額縁領域ＦＡ２の内周側から外周側に向かって徐々に大きくするように異ならせてもよい。外周側に配置された第２額縁配線５８ｅは、内周側に配置された第２額縁配線５８ａよりも、フレキシブル基板７１（図９参照）に対して遠い位置のタッチ検出電極ＴＤＬに接続されるため、配線が長くなる。第２額縁配線５８ａ−５８ｅの長さが長いほど、幅を大きくすることで、抵抗値の増大を抑制することができる。また、図１３に示すように、第１額縁配線５７ａ−５７ｃは同じ幅を有しているが、第２額縁配線５８ａ−５８ｅと同様に、外周側に配置された配線ほど、つまり、配線の長さが長いほど幅を大きくしてもよい。

以上のように、表示領域１０ａから額縁領域１０ｂの外周に向かって、徐々に配線密度を大きくすることにより、斜め方向から見た場合に第１額縁領域ＦＡ１が視認された場合であっても、第１額縁配線５７ａ−５７ｃが視認されることを抑制することができる。また、表示領域１０ａの近傍の第１額縁領域ＦＡ１に第１額縁配線５７ａ−５７ｃを設けることができるため、額縁領域１０ｂの幅を小さくすることができる。したがって、本実施形態のタッチ検出機能付き表示装置１は、額縁領域１０ｂの幅の増大を抑制しつつ、額縁領域１０ｂに設けられた第１額縁配線５７ａ−５７ｃが視認されることを抑制することが可能である。

第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、金属配線３３ａ、３３ｂと同じ金属材料を用いることで、同一工程で製造することが可能である。ただしこれに限定されるものではない。第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、金属配線３３ａ、３３ｂと異なる金属材料を用いてもよい。また、金属配線３３ａ、３３ｂが金属材料を複数積層した積層体である場合、積層体の一部の層を異ならせてもよい。第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅの本数は適宜変更することができる。第１額縁領域ＦＡ１に設けられた第１額縁配線は１本でも良く、４本以上であってもよい。第２額縁領域ＦＡ２に設けられた第２額縁配線は、４本以下でもよく、６本以上でもよい。

タッチ検出電極ＴＤＬは、金属配線３３ａと金属配線３３ａとを接続してメッシュ状の金属配線を構成しているが、これに限られず適宜変更してもよい。例えば、金属配線３３ａを図１３に示す第２の方向Ｄｙに間隔を設けて複数配置したパターンとしてもよい。

（第２の実施形態）
図１５は、第２の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の、タッチ検出電極及び額縁配線を部分的に拡大して示す模式平面図である。本実施形態は、図１５に示すように、第１額縁配線５７ａ−５７ｃのパターンが異なっている。第１額縁配線５７ａ−５７ｃは、細線片Ｗ１と細線片Ｗ２とを有している。細線片Ｗ１と細線片Ｗ２とは、第２の方向Ｄｙに繰り返し交互に配置され、屈曲部ＷＸで折り返されて接続される。このように第１額縁配線５７ａ−５７ｃは、屈曲部ＷＸを有するジグザグ線状又は波線状に形成される。また、第１額縁配線５７ａ−５７ｃは、第１の方向Ｄｘに間隔を有して互いに並列に配置される。

第１額縁配線５７ａの屈曲部ＷＸと、金属配線３３ａ、３３ｂの交差部ＴＤＸとが、接続部ＵＸで接続される。これにより、タッチ検出電極ＴＤＬと第１額縁配線５７ａとが導通する。

本実施形態においても、表示領域１０ａにおける金属配線３３ａ、３３ｂの配線密度に対して、第１額縁領域ＦＡ１における第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度が大きくなっている。また、第１額縁領域ＦＡ１における第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度に対して、第２額縁領域ＦＡ２における第２額縁配線５８ａ−５８ｅの配線密度が大きくなっている。したがって、額縁領域１０ｂの幅の増大を抑制しつつ、額縁領域１０ｂに設けられた第１額縁配線５７ａ−５７ｃが視認されることを抑制することが可能である。

また、第１額縁配線５７ａ−５７ｃが金属配線３３ａ、３３ｂと同様のジグザグ線状又は波線状であるため、表示領域１０ａから透過する光のパターンと第１額縁領域ＦＡ１から透過する光のパターンが類似する。よって、斜め方向から見た場合であっても、第１額縁領域ＦＡ１の第１額縁配線５７ａ−５７ｃが視認されることを抑制することができる。

図１６は、第２の実施形態のタッチ検出電極と額縁配線との接続部分を拡大して示す模式平面図である。図１５及び図１６に示すように、第１額縁配線５７ａのピッチＰ２が金属配線３３ａ、３３ｂのピッチＰ１よりも小さくなっている。図１６に示すように、金属配線３３ａ、３３ｂのピッチＰ１は、第２の方向Ｄｙに隣り合う交差部ＴＤＸ同士の間隔とする。第１額縁配線５７ａのピッチＰ２は、細線片Ｗ１と細線片Ｗ２とが繰り返し配置される間隔であり、屈曲部ＷＸのうち第１の方向Ｄｘ側に配置された複数の屈曲部ＷＸが、第２の方向Ｄｙに互いに隣り合う間隔とする。本実施形態の第１額縁配線５７ａのピッチＰ２は、金属配線３３ａ、３３ｂのピッチＰ１の１／２の大きさである。このため、屈曲部ＷＸが第２の方向Ｄｙに複数配列されて、金属配線３３ａ、３３ｂの交差部ＴＤＸと、複数の屈曲部ＷＸのうち１つの屈曲部ＷＸが一致する。また、金属配線３３ａ、３３ｂと接続可能な第１額縁配線５７ａの屈曲部ＷＸの個数を多くすることができる。よって、第１額縁配線５７ａと金属配線３３ａ、３３ｂとの導通が確保される。

図１７は、第２の実施形態の変形例に係るタッチ検出電極と額縁配線との接続部分を拡大して示す模式平面図である。図１７に示す変形例は、第１額縁配線５７ａのピッチＰ３が小さくなり、金属配線３３ａ、３３ｂのピッチＰ１の１／４の大きさである。図１７に示す、接続された細線片Ｗ１と細線片Ｗ２とのなす角度が、図１６に示す細線片Ｗ１と細線片Ｗ２との角度よりも小さくなっている。つまり、細線片Ｗ１及び細線片Ｗ２は、第１の方向Ｄｘに対する傾斜角が小さくなっている。

第１額縁配線５７ａのピッチは、金属配線３３ａ、３３ｂのピッチＰ１の１／ｎ（ｎは自然数）であることが好ましい。こうすれば、金属配線３３ａ、３３ｂの交差部ＴＤＸの位置に、複数の屈曲部ＷＸのうち一つの屈曲部ＷＸが一致するように、細線片Ｗ１と細線片Ｗ２とが第２の方向Ｄｙに複数配列されるため、第１額縁配線５７ａと金属配線３３ａ、３３ｂとの接続が容易になる。

なお、本実施形態において、第１額縁配線５７ａ−５７ｃはジグザグ線状又は波線状としたが、メッシュ状のパターン等であってもよい。また、第２額縁配線５８ａ−５８ｅは直線状としたが、第１額縁配線５７ａ−５７ｃと同様にジグザグ線状又は波線状としてもよい。

（第３の実施形態）
図１８は、第３の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の、タッチ検出電極及び額縁配線を示す模式平面図である。本実施形態は、第１額縁配線５７ａが表示領域１０ａに設けられている。第１額縁配線５７ａは、表示領域１０ａと額縁領域１０ｂとの境界に沿って、境界よりも表示領域１０ａ側に設けられている。第１額縁配線５７ｂ、５７ｃは、第１額縁領域ＦＡ１に設けられている。タッチ検出電極ＴＤＬは、金属配線３３ａ、３３ｂの端部が、表示領域１０ａと額縁領域１０ｂとの境界よりも内側（第１の方向Ｄｘ側）に位置している。第１額縁配線５７ａと金属配線３３ａ、３３ｂとは、表示領域１０ａ内の接続部ＵＸで接続される。

本実施形態の第１額縁配線５７ａは、細線片Ｗ１と細線片Ｗ２とが第２の方向Ｄｙに繰り返し接続されたジグザグ線状又は波線状の金属配線である。このため、表示領域１０ａに設けられた第１額縁配線５７ａは金属配線３３ａ、３３ｂと同様に不可視化が可能である。また、額縁配線の一部を額縁領域１０ｂ近傍の表示領域１０ａ内に配置することで、額縁領域１０ｂの幅を小さくすることが可能である。

第１額縁配線５７ａの細線片Ｗ１及び細線片Ｗ２は、金属配線３３ａ、３３ｂよりも小さいピッチで配列されている。このため、第１額縁配線５７ａを表示領域１０ａに設けることにより、第１額縁配線５７ｂ、５７ｃ、第２額縁配線５８ａ−５８ｅと、駆動電極ＣＯＭＬ（図７参照）との間に発生するフリンジ電界を遮蔽することができる。このフリンジ電界については、後述する。

（第４の実施形態）
図１９は、第４の実施形態に係るタッチ検出電極及び額縁配線を部分的に拡大して示す模式平面図である。第１額縁配線５７ａ−５７ｃは細線片Ｕａと細線片Ｕｂとが第２の方向Ｄｙに繰り返し接続されたジグザグ線状又は波線状である。タッチ検出電極ＴＤＬと第１額縁配線５７ａとは、スリットＳＬａにより分離されている。第１額縁配線５７ａと第１額縁配線５７ｂとは、スリットＳＬｂにより分離されている。第１額縁配線５７ａと第１額縁配線５７ｂとは、第２の方向Ｄｙと平行な直線を対称軸とした線対称な形状である。第１額縁配線５７ｂと第１額縁配線５７ｃとは、スリットＳＬｃにより分離されている。第１額縁配線５７ｂと第１額縁配線５７ｃとは、第２の方向Ｄｙと平行な直線を対称軸とした線対称な形状である。

第１額縁配線５７ａは、表示領域１０ａに設けられている。第１額縁配線５７ｂは、表示領域１０ａと第１額縁領域ＦＡ１との境界に沿って、表示領域１０ａと第１額縁領域ＦＡ１とに跨って設けられている。第１額縁配線５７ｃは、第１額縁領域ＦＡ１に設けられている。第１額縁配線５７ｂの一部及び第１額縁配線５７ａを表示領域１０ａに設けているため、額縁領域１０ｂの幅を小さくすることができる。また、第１額縁配線５７ａ、５７ｂは、駆動電極ＣＯＭＬ（図示しない）と第１額縁配線５７ｃとの間、及び駆動電極ＣＯＭＬと第２額縁配線５８ａ−５８ｅとの間に発生するフリンジ電界を遮蔽することが可能である。

本実施形態の第１額縁配線５７ａ−５７ｃの細線片Ｕａ、細線片Ｕｂは、タッチ検出電極ＴＤＬの金属配線３３ａ、３３ｂが、スリットＳＬａ、ＳＬｂ、ＳＬｃにより第１の方向Ｄｘに分離されたものである。つまり、第１額縁配線５７ａの細線片Ｕａ及び細線片Ｕｂはそれぞれ、タッチ検出電極ＴＤＬの金属配線３３ａ、３３ｂの細線片Ｕａ、Ｕｂと同じ幅、長さ及び傾斜角を有している。よって、第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度は、タッチ検出電極ＴＤＬの金属配線３３ａ、３３ｂの配線密度とほぼ等しい値となる。このため、第１額縁配線５７ａ−５７ｃは、金属配線３３ａ、３３ｂと同様に不可視化及び低抵抗化が可能である。

以上のように、本実施形態においても額縁領域１０ｂの幅の増大を抑制しつつ、額縁領域１０ｂに設けられた第１額縁配線５７ａ−５７ｃが視認されることを抑制することが可能である。

（第５の実施形態）
図２０は、第５の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の、タッチ検出電極及び額縁配線を示す模式平面図である。図２１は、駆動電極と額縁配線との間のフリンジ電界を模式的に説明するための斜視図である。

本実施形態において、タッチ検出電極ＴＤＬの金属配線３３ａ、３３ｂと離隔して、タッチ検出電極として機能しないダミー電極ＴＤＤが設けられている。ダミー電極ＴＤＤは、金属配線３３ａ、３３ｂの図２０の点線Ｂに示す箇所に、スリットＳＬｄが設けられてタッチ検出電極ＴＤＬと離隔される。ダミー電極ＴＤＤは、それぞれ第１の方向Ｄｘと沿った方向に長辺を有する矩形状であり、１つのタッチ検出電極ＴＤＬにおいて、第２の方向Ｄｙに複数配列される。

ダミー電極ＴＤＤは、複数の細線片Ｕｄ１及び細線片Ｕｄ２が第１の方向Ｄｘに繰り返し接続された金属配線を有し、この金属配線が第２の方向Ｄｙに接続される。ダミー電極ＴＤＤは、細線片Ｕｄ１及び細線片Ｕｄ２で囲まれた包囲領域ｍｅｓｈ２を有するメッシュ状である。各細線片Ｕｄ１及び細線片Ｕｄ２の途中にスリットＳＬｄが設けられている。ダミー電極ＴＤＤを設けているため、タッチ検出電極ＴＤＬと駆動電極ＣＯＭＬ（図１１参照）との間の静電容量を小さくすることができる。また、ダミー電極ＴＤＤが設けられている部分と、タッチ検出電極ＴＬＤが設けられている部分とで、光の透過率がほぼ等しくなるため、タッチ検出電極ＴＬＤの不可視化を実現できる。なお、スリットＳＬｄは細線片Ｕｄ１及び細線片Ｕｄ２の交差部に設けられていてもよい。

タッチ検出電極ＴＤＬは、金属配線３３ａ、３３ｂに設けられたスリットＳＬにより分離されており、分離されたタッチ検出電極ＴＤＬが複数第２の方向Ｄｙに配列される。図２０は、複数のタッチ検出電極ＴＤＬのうち、２つのタッチ検出電極ＴＤＬを示している。例えば、図２０の上側に示すタッチ検出電極ＴＤＬは、第１の方向Ｄｘ側の第１額縁領域ＦＡ１において、第１接続配線５７ｄと接続される。図２０の下側に示すタッチ検出電極ＴＤＬは、第１の方向Ｄｘと反対側の第１額縁領域ＦＡ１において、第１接続配線５７ａと接続される。タッチ検出電極ＴＤＬは、それぞれ、第１接続配線５７ａ、５７ｄが接続されていない側に、複数の金属配線３３ａ、３３ｂ同士を接続するための接続配線３４が接続されている。

タッチ検出電極ＴＤＬは、第１部分ＴＤＬａと、第２部分ＴＤＬｂとを含む。第１部分ＴＤＬａは、第１の方向Ｄｘに延在し、第２の方向Ｄｙに配列されたダミー電極ＴＤＤ同士の間に配置される。第２部分ＴＤＬｂは、タッチ検出電極ＴＤＬの両端部に配置され、それぞれ第１の方向Ｄｘに延在する。第２部分ＴＤＬｂは、表示領域１０ａと第１額縁領域ＦＡ１との境界に沿って配置される。両端に配置された第２部分ＴＤＬｂ同士の間に第１部分ＴＤＬａが配置され、第１部分ＴＤＬａと第２部分ＴＤＬｂとが接続される。第１部分ＴＤＬａが主として、上述した相互静電容量方式のタッチ検出原理におけるタッチ検出電極として機能する。

第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅ（一部図示しない）を額縁領域１０ｂの表示領域１０ａ近傍に設けた場合、図２１に示すように、駆動電極ＣＯＭＬと第１額縁配線５７ａ−５７ｃとの間にフリンジ電界Ｅｆが発生する。なお、図２１では、第１額縁配線５７ａ−５７ｃを示しているが、面積が大きい第２額縁配線５８ａ−５８ｅ（図２１では図示しない）との間にもフリンジ電界Ｅｆが発生する。指などの導体が第１額縁配線５７ａ−５７ｃに接触又は近接した場合、フリンジ電界Ｅｆが遮られることで静電容量が変化する。この静電容量の変化により誤検出が生じる場合がある。

本実施形態では、第２部分ＴＤＬｂを設けているため、第２部分ＴＤＬｂが、駆動電極ＣＯＭＬと第１額縁配線５７ａ−５７ｃとの間のフリンジ電界Ｅｆを遮蔽するシールドとして機能する。このため、フリンジ電界Ｅｆを低減して誤検出を抑制することができる。なお、第２部分ＴＤＬｂはシールドとして機能するとともに、第２部分ＴＤＬｂに接触又は近接する指などを検出するタッチ検出電極としても機能する。

なお、図２０は、第１額縁配線５７ａ−５７ｃを第１額縁領域ＦＡ１に配置しているが、図１８に示すように、ピッチが小さい第１額縁配線５７ａを表示領域１０ａ内に配置することで、フリンジ電界Ｅｆを遮蔽する効果が向上する。また、図１９と同様に、第２部分ＴＬＤｂの端部を額縁配線として利用してもよい。この場合、第２部分ＴＬＤｂの端部を第１の方向Ｄｘに分離するスリットを設けて、細線片Ｕａと細線片Ｕｂとが第１の方向Ｄｘに繰り返し接続された額縁配線とすることができる。第２部分ＴＬＤｂの一部を額縁配線として利用することで、フリンジ電界Ｅｆを遮蔽するとともに額縁領域１０ｂの幅を小さくすることができる。

（第６の実施形態）
図２２は、第６の実施形態に係るタッチ検出機能付き表示装置の模式断面図である。本実施形態において、ガラス基板３１の上方にカバー部材５が設けられている。カバー部材５は、画素基板２及び対向基板３（図７参照）と重なる位置に設けられ、表示領域１０ａ及び額縁領域１０ｂの全体を覆っている。

カバー部材５は、カバー基材５１と、着色層５２とを含む。カバー基材５１は、画素基板２及び対向基板３を覆って保護するための保護部材である。カバー基材５１は、ガラス基板であってもよく、樹脂材料等を用いたフィルム状の基材であってもよい。カバー基材５１のガラス基板３１と対向する面側に着色層５２が設けられている。着色層５２は、額縁領域１０ｂと重なる領域に設けられる。着色層５２が設けられているため、ゲートドライバ１２、駆動電極ドライバ１４等の回路、額縁配線、フレキシブル基板７１、７２等（図８、図９参照）が外部から視認されることを抑制することができる。着色層５２は、例えば、光の透過を抑制するように着色された樹脂材料や、金属材料が用いられる。

本実施形態の第１額縁配線５７ａ−５７ｃは、上述した第１の実施形態から第４の実施形態と同様の構成であり、第１額縁配線５７ａ−５７ｃの配線密度は、第２額縁配線５８ａ−５８ｅの配線密度よりも小さくなっている。このため、斜め方向から見た場合であっても、第１額縁配線５７ａ−５７ｃが視認されることを抑制できる。また、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、上述したタッチ検出電極ＴＤＬの金属配線３３ａ、３３ｂ（図２２では図示しない）と同じ金属材料を有している。そして、ガラス基板３１の下面には遮光層３６が設けられている。第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ−５８ｅは、遮光層３６と同様の色を有しているため、上方から見た場合であっても不可視化が実現される。

カバー部材５の着色層５２は、第２額縁領域ＦＡ２の一部及び第３額縁領域ＦＡ３を覆っており、着色層５２の表示領域１０ａ側の端部５２ａが第２額縁領域ＦＡ２と重畳する。端部５２ａよりも表示領域１０ａ側の第２額縁領域ＦＡ２及び第１額縁領域ＦＡ１は、着色層５２に覆われていない。このように、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ、５８ｂが着色層５２に覆われていない場合であっても、上述のように、不可視化が実現できる。

仮に、着色層５２を額縁領域１０ｂの全体を覆って設ける場合、着色層５２を印刷等により塗布形成する際の位置ずれやカバー部材５の貼り合わせ誤差を考慮して、着色層５２を表示領域１０ａ側まで拡げて設ける必要がある。このため、額縁領域１０ｂの幅が増大する可能性がある。本実施形態では、第１額縁配線５７ａ−５７ｃ及び第２額縁配線５８ａ、５８ｂの不可視化が可能であるため、着色層５２は、額縁領域１０ｂの一部に設けることができる。したがって、額縁領域１０ｂの幅を小さくすることが可能である。

以上、本発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明はこのような実施の形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本発明の技術的範囲に属する。

例えば、駆動電極が表示パネルの共通電極を兼用する場合を説明したが、これに限られない。表示パネルに共通電極を設け、この表示パネルの上にタッチパネルを装着したタッチ検出機能付き表示装置であってもよい。また、相互静電容量方式によるタッチ検出について説明したが、タッチ検出電極を用いた自己静電容量方式によるタッチ検出であってもよい。例えば、タッチ検出電極の構成を、金属配線を含む小電極部を表示領域に複数行列配置して、それぞれの小電極部で自己静電容量方式によるタッチ検出を行うことができる。この場合、額縁配線は、各小電極部から引き出されて額縁領域に設けられる。

タッチ検出電極は金属配線を有しているが、タッチ検出電極は例えばＩＴＯ等の透光性を有する導電性材料であってもよい。この場合であっても、第１額縁配線及び第２額縁配線を各実施形態で説明した構成とすることで、額縁領域の幅の増大を抑制しつつ、額縁領域の不可視化を実現することができる。

１ タッチ検出機能付き表示装置
２ 画素基板
３ 対向基板
５ カバー部材
６ 液晶層
１０ タッチ検出機能付き表示部
１０ａ 表示領域
１０ｂ 額縁領域
１１ 制御部
１２ ゲートドライバ
１３ ソースドライバ
１４ 駆動電極ドライバ
１９ 表示
２０ 表示パネル
２１ ＴＦＴ基板
２２ 画素電極
３０ タッチパネル
３１ ガラス基板
３２ カラーフィルタ
３６ 遮光層
３７ 額縁配線
４０ タッチ検出部
４２ タッチ検出信号増幅部
４３ Ａ／Ｄ変換部
４４ 信号処理部
４５ 座標抽出部
４６ 検出タイミング制御部
５１ カバー基材
５２ 着色層
５７ａ−５７ｃ 第１額縁配線
５８ａ−５８ｅ 第２額縁配線
６１ スペーサ
７１、７２ フレキシブル基板
ＦＡ１ 第１額縁領域
ＦＡ２ 第２額縁領域
ＦＡ３ 第３額縁領域
ＣＯＭＬ 駆動電極
ＧＣＬ 走査信号線
Ｐｄ 表示動作期間
Ｐｔ タッチ検出期間
Ｐｉｘ 画素
ＳＬ、ＳＬａ、ＳＬｂ、ＳＬｃ、ＳＬｄ スリット
ＳＰｉｘ 副画素
ＳＧＬ 画素信号線
ＴＤＬ タッチ検出電極
Ｖｃｏｍ 駆動信号
Ｖｄｅｔ タッチ検出信号
Ｖｄｉｓｐ 映像信号
Ｖｐｉｘ 画素信号
Ｖｓｃａｎ 走査信号

Claims (19)

1. 画像を表示する表示領域と、前記表示領域の外側に位置する第１額縁領域と、前記第１額縁領域の前記表示領域とは反対の側に位置する第２額縁領域とが設けられた基板と、
   前記表示領域に設けられ、複数の金属配線を有する複数の検出電極と、
   前記複数の検出電極と接続し、複数の第１額縁配線と複数の第２額縁配線とを含む複数の額縁配線と、を有し、
   前記表示領域と前記第１額縁領域と前記第２額縁領域とは、第１方向に並び、
   前記複数の第１額縁配線の少なくとも１本は、複数の屈曲部を有し、前記第１額縁領域を前記第１方向と交差する第２方向に延在し、
   前記複数の第２額縁配線は、前記第２額縁領域を前記第２方向に延在し、
   前記複数の屈曲部は、前記表示領域の側へ突出し、前記第２方向に第１ピッチで配列する複数の第１屈曲部を含み、
   前記複数の金属配線は、前記第２方向に第２ピッチで配列し、
   前記第１ピッチは前記第２ピッチよりも小さい、
   タッチ検出装置。
2. 前記複数の屈曲部は、前記第２額縁領域の側へ突出し、前記第２方向に配列する複数の第２屈曲部を含む請求項１に記載のタッチ検出装置。
3. 前記複数の第１額縁配線は、前記第１額縁領域に第１密度で配置され、
   前記複数の第２額縁配線は、前記第２額縁領域に第２密度で配置され、
   前記第１密度は、前記第２密度よりも小さい請求項１又は請求項２に記載のタッチ検出装置。
4. 前記複数の第１額縁配線は、前記第１額縁領域に第１密度で配置され、
   前記複数の金属配線は、前記表示領域に第３密度で配置され、
   前記第１密度は、前記第３密度よりも大きい請求項１から請求項３の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
5. 前記複数の金属配線は、第３方向に延在する複数の第１金属配線と、前記第３方向と交差する第４方向に延在する複数の第２金属配線と、複数の交差部とを含み、
   前記複数の交差部の各々は、前記複数の第１金属配線の内の１本と前記複数の第２金属配線の内の１本とが交差する部分であり、
   前記複数の交差部の一部は、前記第２方向に第３ピッチで配列し、
   前記第１ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい請求項１から請求項４の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
6. 前記第３ピッチは、前記第１ピッチの自然数倍である請求項５に記載のタッチ検出装置。
7. 前記第１方向における前記第１額縁領域の長さが、前記基板の厚さの１／２以上である請求項１から請求項６の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
8. 前記複数の第１額縁配線の間隔が、前記複数の第２額縁配線の間隔よりも大きい請求項１から請求項７の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
9. 前記第１方向における前記複数の第１額縁配線の幅は、前記第１方向における前記複数の第２額縁配線の幅よりも小さい請求項１から請求項８の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
10. 前記複数の第１屈曲部は、前記金属配線と直に接する複数の第３屈曲部と、前記金属配線と直に接しない複数の第４屈曲部とを含み、
    前記第４屈曲部は、隣接する前記第３屈曲部の間に位置する請求項１から請求項９の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
11. 前記複数の額縁配線は、表示領域に位置する第３額縁配線を少なくとも１本含む請求項１から請求項９の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
12. 前記第３額縁配線は、前記複数の金属配線の側へ突出する複数の第３屈曲部を有し、
    前記複数の金属配線によって形成される形状の内、前記第３額縁配線と対向する部分は、前記第３額縁配線の側へ突出する複数の第４屈曲部を有し、
    前記複数の第３屈曲部のピッチと前記複数の第４屈曲部のピッチとが等しい請求項１１に記載のタッチ検出装置。
13. 前記表示領域には、前記検出電極と離隔し且つ前記検出電極に囲まれたダミー電極が位置する請求項１から請求項１２の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
14. さらに、カバー基材と、前記カバー基材の外周に設けられた着色層とを含むカバー部材を有し、
    前記着色層は、前記第２額縁配線の少なくとも１本と平面視で重畳する請求項１から請求項１３の何れか１項に記載のタッチ検出装置。
15. 前記着色層は、前記複数の第１額縁配線と平面視で重畳しない請求項１４に記載のタッチ検出装置。
16. 画像を表示する表示領域と、前記表示領域の外側に位置する第１額縁領域と、前記第１額縁領域の前記表示領域とは反対の側に位置する第２額縁領域とが設けられた基板と、
    前記表示領域に設けられた複数の検出電極と、
    前記複数の検出電極と接続し、複数の第１額縁配線と複数の第２額縁配線とを含む複数の額縁配線と、を有し、
    前記表示領域と前記第１額縁領域と前記第２額縁領域とは、第１方向に並び、
    前記複数の第１額縁配線の少なくとも１本は、複数の屈曲部を有し、前記第１額縁領域を前記第１方向と交差する第２方向に延在し、
    前記複数の第２額縁配線は、前記第２額縁領域を前記第２方向に延在し、
    前記複数の屈曲部は、前記表示領域の側へ突出し、前記第２方向に第１ピッチで配列する複数の第１突出部を含み、
    前記複数の検出電極は、前記第１額縁領域の側へ突出し、前記第２方向に第２ピッチで配列する複数の第２突出部を含み、
    前記第１ピッチは前記第２ピッチよりも小さい、タッチ検出装置。
17. 前記複数の第１額縁配線は、前記第１額縁領域に第１密度で配置され、
    前記複数の検出電極の各々は、第２密度で配置されたメッシュ形状を有し、
    前記第１密度は、前記第２密度よりも大きい請求項１６に記載のタッチ検出装置。
18. 前記第２ピッチは、前記第１ピッチの自然数倍である請求項１６又は請求項１７に記載のタッチ検出装置。
19. 請求項１から請求項１８の何れか１項に記載のタッチ検出装置と、
    複数の画素と、複数の走査信号線と、複数の画素信号線と、を有するタッチ検出機能付き表示装置。

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