JP6531107B2 - レーザアニールのためのビームホモジナイザ - Google Patents
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Description
好ましくは、前記複数のシリンドリカルレンズの曲率半径は、100mmから200mmでも良い。
好ましくは、前記複数のシリンドリカルレンズは、曲率面内で4mmから10mmの直径を有していても良い。
好ましくは、前記シリンドリカルレンズは、冷却プロセスにより製造しても良い。
1.従来技術に係るシリンドリカルレンズと結合された透明ガラス板を、本発明に係る、異なる長さでより大きなシリンドリカルレンズに置き換えることにより、レーザビームのデコヒーレンス及び均一化を達成することができる。
2.より大きなシリンドリカルレンズの使用により、回折及び回折の均一化効果への影響を回避することができる。
3.従来のホモジナイゼーションシステムは、透明ガラス板がシリンドリカルレンズから物理的に分離されており、そのために、システムの構成の困難性が増大し、それらの間での正確な対応が必要であったのに対し、本発明は、このような対応は必要なく、それにより、構成の複雑化を低減し、コストが削減されるという結果をもたらす。
4.より大きなシリンドリカルレンズは、従来の冷却プロセスを使用して製造することができ、プロセスの困難性を低減し、さらにコストが削減されるという結果をもたらす。
図2から図5において、100はレーザ、200はコリメータシステム、300は第1のエキスパンダ、400は第2のエキスパンダ、500はレーザアニールのためのビームホモジナイザ、510はシリンドリカルレンズ、600はフォーカスシステムである。
好ましくは、図2を参照すると、ビームの伝送方向において、シリンドリカルレンズ510の任意の隣接する2つの間の長差は、固定値であり、また、ビームの伝送方向において、シリンドリカルレンズ510の任意の隣接する2つの間の長差は、本実施の形態によれば、全てdである。もちろん、本発明は、シリンドリカルレンズ510の各々が、その上方に配置されたシリンドリカルレンズ510の任意の1つよりも長くなっている図2に示されるシリンドリカルレンズ510の配置に限定されず、シリンドリカルレンズ510は、他の方法で配置しても良い。
図4を参照すると、本実施の形態は、ビームの伝送方向における、シリンドリカルレンズ510の任意の2つの隣接するものの間の長差が、互いに異なっている、すなわち、一致していない点で、実施の形態1とは異なる。本実施の形態においては、ビームの伝送方向における、シリンドリカルレンズ510の任意の2つの隣接するものの間の長差は、トップから下方に向けて順番に、a1,a2,a3,a4,a5及びa6になっている。ここで、a1≠a2≠a3≠a4≠a5≠a6である。本実施の形態によれば、コヒーレンスの発生のために必須の条件を満足することを不可能にすることができ、デコヒーレンスを達成し、より良いビーム均一化効果をもたらすことができる。
Claims (4)
- レーザアニール装置に使用される、レーザアニールのためのビームホモジナイザであって、レーザビームを生成するためのレーザと、複数のシリンドリカルレンズを具備するビームホモジナイザと、を有し、前記複数のシリンドリカルレンズは、X及びY方向で定義され、前記X方向は前記Y方向と直交する曲率面内で同じ曲率半径及び同じ寸法を有し、前記複数のシリンドリカルレンズは、前記レーザビームの伝送方向に異なる長さを有し、最上部のシリンドリカルレンズから最下部のシリンドリカルレンズまで、各シリンドリカルレンズは、隣接するシリンドリカルレンズよりも短い長さを有し、前記複数のシリンドリカルレンズの任意の2つの隣接するものは、前記レーザビームの伝送方向に、前記レーザのコヒーレンス長よりも大きな長差を有し、
前記複数のシリンドリカルレンズの各々の曲率半径は、100mmと200mmの間であり、前記複数のシリンドリカルレンズの各々は、前記Y方向に4mmから10mmの厚みを有し、前記複数のシリンドリカルレンズの各々は、前記X方向に前記レーザビームの直径と等しい幅を有し、
前記レーザビームの伝送方向において、前記複数のシリンドリカルレンズの2つの隣接するものの間の前記長差は、互いに異なる、
レーザアニールのためのビームホモジナイザ。 - 前記レーザアニール装置は、コリメータシステム、ビームエキスパンダシステム、及びフォーカスシステムを有し、前記レーザ、前記コリメータシステム、前記ビームエキスパンダシステム、前記ビームホモジナイザ、及び前記フォーカスシステムは、前記レーザアニール装置における前記レーザビームの伝送方向に順番に配置され、前記レーザにより生成されたレーザビームは、前記コリメータシステムにより平行ビームに連続してコリメートされ、前記ビームエキスパンダシステムにより所望のサイズに拡大され、前記ビームホモジナイザにより均一化され、前記フォーカスシステムを通過した後、所望のスポットを形成する、請求項1に記載のレーザアニールのためのビームホモジナイザ。
- 前記複数のシリンドリカルレンズの数及び前記曲率面内での前記複数のシリンドリカルレンズの寸法は、前記ビームホモジナイザに入射する前記レーザビームの直径により決定される、請求項2に記載のレーザアニールのためのビームホモジナイザ。
- 前記複数のシリンドリカルレンズの数は、5から7である、請求項1に記載のレーザアニールのためのビームホモジナイザ。
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