JP2004153150A - 表示装置の基板の製造方法及び結晶化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のパネル領域を有し、各パネル領域が画素部18及び該画素部のまわりの周辺回路部20を備えた表示装置の基板の製造方法であって、該基板に形成した非晶質半導体層を複数のレーザー光28にて同時に結晶化する工程を含み、一つのパネル領域の周辺回路部20は複数のレーザー光28のうちの1つのレーザー光28のみで結晶化される構成とする。
【選択図】 図5
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は例えば液晶表示装置等の表示装置の基板の製造方法及び結晶化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年液晶表示装置は種々の用途に用いられ、高精細化、高性能化への要求が高まっている。液晶表示装置は一対の基板の間に液晶を挟持してなる液晶パネルを含む。一方の基板はTFT基板と呼ばれ、薄膜トランジスタ(TFT)が形成されている。液晶パネルは表示領域である画素部及び画素部のまわりの周辺回路部を含む。TFTは画素部の各画素毎に設けられ、さらに他のTFTは周辺回路部に形成される。最近では特に周辺回路部のTFTを信頼性よく形成することが求められている。
【0003】
TFTの動作層は従来は非晶質半導体(非晶質シリコン)で形成されていたが、最近では多結晶半導体(多結晶シリコン)で形成されるようになっている。多結晶半導体は基板に形成された非晶質半導体層を結晶化する結晶化処理により形成される。
【0004】
結晶化処理は、基板の非晶質半導体層にレーザー光を照射することにより実施される。結晶化のためのレーザーとして例えばエキシマパルスレーザーが使用される(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。しかし、エキシマパルスレーザーによる非晶質半導体の結晶化では、半導体の移動度が比較的に低く、液晶表示装置の高精細化、高性能化への要求を満足できないことがある。そこで、連続発振レーザー(CWレーザー)を用いた半導体結晶化方法が提案されている(例えば、非特許文献1参照)。また、特願平14−143070の提案がある。CWレーザーによる非晶質半導体の結晶化では、結晶粒径を大きくでき、比較的に大きな半導体の移動度を実現できるので、特に、液晶表示装置の周辺回路部のTFTを形成するのに有利である。
【0005】
【特許文献1】
特開平10−41244号公報
【特許文献2】
特開平8−203843号公報
【非特許文献1】
電子情報通信学会論文誌、VOL.J185,CN08,2002年8月、P601−608
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
非晶質半導体層の結晶化では、非晶質半導体層をレーザー光で走査する。レーザー走査は、非晶質半導体層を有する基板をステージとともに動かし、固定の位置に保持されたレーザーからレーザー光を非晶質半導体層に照射しながら行われる。エキシマパルスレーザーを用いた走査の場合には、ビームスポットの大きさがかなり大きいので、単位面積当たりの走査時間が短く、液晶表示装置の生産性はよい。しかし、CWレーザーを用いた走査の場合には、ビームスポットの大きさが非常に小さいので、単位面積当たりの走査時間が増加し、液晶表示装置の生産性が低下し、製造コストが高くなる。
【0007】
そこで、複数のレーザーを互いに近接して配置し、複数のレーザー光で非晶質半導体層の複数の部分を同時に照射すれば、レーザー光のビームスポットを大きくしたのと同じことになり、走査時間を短縮して、液晶表示装置の生産性を向上することができる。
【0008】
しかし、複数のレーザー光を同時に用いる場合、複数のレーザー光のエネルギーを同じにするのは困難なことが多く、複数のレーザー光のエネルギーに差が生じることがある。複数のレーザー光のエネルギーに差があると、製造された液晶パネルのTFTの性能にバラツキが生じる原因になり、歩留りが低下する。
【0009】
本発明の目的は安価に歩留りよく高性能な基板を製造するのに適した表示装置の基板の製造方法及び結晶化装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明による表示装置の基板の製造方法は、複数のパネル領域を有し、各パネル領域が画素部及び該画素部のまわりの周辺回路部を備えた表示装置の基板の製造方法であって、該基板に形成した非晶質半導体層を複数の強エネルギー光にて同時に結晶化する工程を含み、一つのパネル領域の周辺回路部は該複数の強エネルギー光のうちの1つの強エネルギー光のみで結晶化されることを特徴とするものである。
【0011】
この構成によれば、複数のパネル領域を有する基板に複数の強エネルギー光を同時に照射して、短時間で走査を行い、非晶質半導体層を結晶化する。その際、一つのパネル領域の周辺回路部は1つの強エネルギー光で結晶化される。このため、1つのパネル領域内では、単一の強エネルギー光で非晶質半導体層が結晶化され、形成されるトランジスタの性能が均一になる。
【0012】
また、本発明による結晶化装置は、絶縁基板上に形成された非晶質半導体層の結晶化装置であって、複数の強エネルギー光源と、該複数の強エネルギー光源の位置を変更可能な可変機構と、非晶質半導体層を形成した基板を支持するステージとを備え、該基板に形成した非晶質半導体層を複数の強エネルギー光により同時に結晶化するようにしたことを特徴とするものである。
【0013】
この構成によれば、複数の強エネルギー光源が設けられていて、複数のパネル領域を有する基板に複数の強エネルギー光を同時に照射して、短時間で走査を行い、非晶質半導体層を結晶化する。複数の強エネルギー光源の位置は変更可能であり、強エネルギー光のピッチを複数のパネル領域のピッチに合わせ、一つのパネル領域の周辺回路部は1つの強エネルギー光で結晶化されるようにすることができる。このため、1つのパネル領域内では、単一の強エネルギー光で非晶質半導体層が結晶化され、形成されるトランジスタの性能が均一になる。
【0014】
このようにして、本発明によれば、安価に歩留りよく高性能な表示装置を製造することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施例について図面を参照して説明する。
【0016】
図1は本発明の実施例による液晶表示装置の液晶パネル10を示す略断面図である。液晶パネル10は対向する一対の基板12,14の間に液晶16を挿入してなるものである。電極及び配向膜が基板12,14に設けられることができる。一方の基板12はTFT基板であり、他方の基板14はカラーフィルタ基板である。
【0017】
図2は図1の基板12を示す略平面図である。基板12は画素部18と、画素部18のまわりの周辺回路部20とを有する。画素部18は多数の画素22を含む。図2では、1つの画素22が部分的に拡大して示されている。画素22は3色のサブ画素領域RGBを含み、各サブ画素領域RGBにはTFTが形成されている。周辺回路部20は複数のTFTを含む制御回路を有し、周辺回路部20のTFTは表示領域18のTFTよりも密に配置される。
【0018】
図3は図2の基板12を作るためのガラス基板24を示す略平面図である。ガラス基板24は複数のパネル領域を含む。1つのパネル領域は1つの液晶パネル10の基板12に相当し、画素部18及び周辺回路部20を有する。図3に示す例では、4つのパネル領域があり、1つのガラス基板24から4つの液晶パネル10の基板12を採取するようになっている。ガラス基板24はTFT等の製造後に4つの基板12に切断される。1つのガラス基板24から4つ以上の基板12を採取することもできる。
【0019】
図4は本発明に基づいた結晶化工程及び装置の実施例を示す図である。図5は図4の結晶化装置の詳細を示す斜視図である。図4及び図5に示す結晶化の前の製造プロセスで、ガラス基板24には非晶質半導体層(非晶質シリコン層)が形成してあり、その非晶質半導体層を結晶化して、多結晶半導体層(多結晶シリコン層)にし、多結晶半導体層を含むTFTを形成する。
【0020】
ガラス基板24はXYステージ26に支持される。XYステージ26はX方向及びY方向に移動可能である。非晶質半導体層の結晶化では、非晶質半導体層をレーザー光28で走査をする。走査は、非晶質半導体層を有するガラス基板24をXYステージ26とともに動かし、固定の位置に保持されたレーザー光28を非晶質半導体層に照射しながら行われる。
【0021】
レーザー装置30は2つのレーザー光源32,34を含み、レーザー光源32,34から発せられたレーザー光(強エネルギー光)はそれぞれ光学系を介して楕円形の形状のレーザースポットとしてガラス基板24の非晶質半導体層を照射する。例えば、各光学系は、ミラー36と、ほぼ半円筒体形状のレンズ38と、このレンズ38と直交するように配置されたほぼ半円筒体形状のレンズ40と、凸レンズ(図示せず)とからなる。
【0022】
レーザー光源32,34は、それぞれ支持調整機構42,44によってレーザー装置30のフレーム46に支持される。支持調整機構42,44はそれぞれレーザー光源32,34を支持するとともに、図示しないアジャストボルト等により位置が調整可能になっており、レーザー光源32,34の位置を変更可能な可変機構を構成する。レーザー光源32,34の位置は、照射位置がガラス基板24のパネル領域の間隔に合うように調整される。光学系の位置はレーザー光源32,34に連動して調整される。
【0023】
周辺回路部20の結晶化の際には、図5に示されるように、一方のレーザー光源32から発せられたレーザー光28は図5においてガラス基板24の上段側に位置するパネル領域の周辺回路部20の上辺部分を照射するように配置され、他方のレーザー光源34から発せられたレーザー光28は図5においてガラス基板24の下段側に位置するパネル領域の周辺回路部20の上辺部分を照射するように配置される。2つのレーザー光源32,34から発せられたレーザー光28は、2つのパネル領域の周辺回路部20の上辺部分を同時に照射する。ただし、一つのパネル領域の周辺回路部20は2つのレーザー光源32,34から発せられたレーザー光28の1つのレーザー光28のみで結晶化される。
【0024】
走査において、レーザー光源32,34はCWレーザーであり、例えば波長532nm、エネルギー6W、ビーム径400μm×40μmのレーザー光を発生し、ガラス基板24を載置したXYステージ26は走査速度20cm/sで移動する。各レーザーの移動量に連動した図示しないシャッタが設けられており、結晶化が必要な領域のみ照射されるようにしてある。
【0025】
図6は図5の結晶化装置により周辺回路部20の結晶化を行う手順を示す略図である。まず、一方のレーザー光源32から発せられたレーザー光28はガラス基板24の上段側のパネル領域の周辺回路部20の上辺部分を矢印Aで示されるように走査する。他方のレーザー光源34から発せられたレーザー光28はガラス基板24の下段側のパネル領域の周辺回路部20の上辺部分を矢印Bで示されるように走査する。各パネル領域の周辺回路部20の走査は、矢印A,Bの方向の走査を行った後、ガラス基板24を矢印Y方向に少し移動させ、矢印A,Bとは逆の方向の走査を行い、これらの走査を繰り返し行うことができる。なお、結晶化を行わない間(例えば方向転換を行う間)には、レーザー光はシャッタによって遮光される。
【0026】
ガラス基板24の上段側及び下段側のパネル領域の周辺回路部20の上辺部分の走査が終了したら、一方のレーザー光源32から発せられたレーザー光28はガラス基板24の上段側のパネル領域の周辺回路部20の下辺部分を矢印Cで示されるように走査する。他方のレーザー光源34から発せられたレーザー光28はガラス基板24の下段側のパネル領域の周辺回路部20の下辺部分を矢印Dで示されるように走査する。この場合にも、各パネル領域の周辺回路部20の上辺部分の走査は、矢印C,Dの方向の走査ばかりでなく、矢印C,Dとは逆の方向の走査によっても実施され、これらの走査を繰り返し行うことができる。
【0027】
次に、一方のレーザー光源32から発せられたレーザー光28はガラス基板24の上段側のパネル領域の周辺回路部20の左辺部分を矢印Eで示されるように走査する。他方のレーザー光源34から発せられたレーザー光28はガラス基板24の下段側のパネル領域の周辺回路部20の左辺部分を矢印Fで示されるように走査する。この場合にも、各パネル領域の周辺回路部20の上辺部分の走査は、矢印E,Fの方向の走査ばかりでなく、矢印F,Eとは逆の方向の走査によっても実施され、これらの走査を繰り返すことができる。
【0028】
次に、一方のレーザー光源32から発せられたレーザー光28はガラス基板24の上段側のパネル領域の周辺回路部20の右辺部分を矢印Gで示されるように走査する。他方のレーザー光源34から発せられたレーザー光28はガラス基板24の下段側のパネル領域の周辺回路部20の右辺部分を矢印Hで示されるように走査する。この場合にも、各パネル領域の周辺回路部20の上辺部分の走査は、矢印G,Hの方向の走査ばかりでなく、矢印G,Hとは逆の方向の走査によっても実施され、これらの走査を繰り返すことができる。また、結晶化の手順や順序は上記の例に限られるものではない。
【0029】
図7はレーザー光のビームスポットの例を示す図である。X軸方向の走査(矢印A,B,C,Dの走査)で結晶化を行う場合には、広い幅のレーザー光で結晶化領域を効率よく行なうため、図7の(A)に示されるように、X軸方向に対して垂直な方向に長い楕円形状のビームスポットで走査を行う。次に、Y軸方向の走査(矢印E,F,G,Hの走査)で結晶化を行う場合には、レーザー光のビームスポットの形状を90度回転させ、図7(B)に示されるように、Y軸方向に対して垂直な方向に長い楕円形状のビームスポットで走査を行う。レーザー光のビームスポットの形状の回転は、図5に示した一対の半円筒状レンズ38,40を光軸に合わせて90度回転させることにより実施される。
【0030】
また、レーザー光のビームスポットの形状が円形であれば、特にビームスポットの形状を回転させる必要はない。
【0031】
図8は画素部18の結晶化を行う例を示す略図である。画素部18の結晶化は、2つのレーザー光源32,34をガラス基板24のパネル領域の間隔に合わせ、照射位置を調整し、レーザー光28を一定の位置に保持し、XYステージ26及びガラス基板24を移動しながら、走査を行う。レーザー光源32,34はCWレーザーであり、例えば波長532nm、エネルギー6W、ビーム径400μm×40μmのレーザー光を発生し、ガラス基板24を載置したXYステージ26は走査速度40cm/sで移動する。レーザー光はガラス基板24の非晶質半導体層に照射され、画素部18を繰り返し走査する。
【0032】
また、周辺回路部20の結晶化を図5及び図6に示す例のように2つのCWレーザーを用いて行い、画素部18の結晶化は、例えばエキシマレーザー(波長308nm)をエネルギー300mL/cm2 、周波数300Hz、ビーム重ね率95%で照射して、行ってもよい。
【0033】
図9は周辺回路部20及び画素部18の結晶化を行う他の例を示す略図である。この例においては、一方のレーザー光源32から発せられたレーザー光28はガラス基板24の上段側のパネル領域の周辺回路部20を走査し、他方のレーザー光源34から発せられたレーザー光28はガラス基板24の下段側のパネル領域の画素部18を走査する。このように、CWレーザーで画素部18と周辺回路部20を同時に照射してもよい。ただし、一つのパネル領域の周辺回路部20は複数のレーザー光のうちの1つのレーザー光のみで結晶化される。
【0034】
図10はレーザー光の合成を行う装置の例を示す図である。この例でも、CWレーザーを使用する。図11は合成されたレーザー光のビームスポットの例を示す図である。レーザー光源50から発せられたレーザー光52は、ビームスプリッタ54により2つのレーザー光52A,52Bに分割される。レーザー光52Aはミラー56、ビームスプリッタ58、半円筒状レンズ60,62を経てガラス基板24の非晶質半導体層に照射される。レーザー光52Bはミラー54、ビームスプリッタ58、半円筒状レンズ60,62を経てガラス基板24の非晶質半導体層に照射される。なお、ビーム合成には2台のレーザーを用い、同様に合成しても構わない。
【0035】
図11に示されるように、ガラス基板24の非晶質半導体層に照射されるレーザー光52A,52Bは互いにずらされているが、一部が重複するようになっている。従って、2つのCW(連続発振)レーザー光は合成され、単一のスポット光となる。図11(A)では、2つのレーザー光52A,52Bは長軸方向に互いにずらされて、さらに長い幅をもったビームスポットを提供する。この場合2つのスポット52A,52Bのエネルギーをそろえることが重要である。何故なら長軸方向に均一に結晶化しなければならないからである。図11(B)では、2つのレーザー光52A,52Bは短軸方向に互いにずらされて、二重のビームスポットを提供する。この場合、2つのスポット52Aと52Bは意図的にスポットサイズやエネルギーを変えても構わない。何故なら結晶粒径は溶融温度や冷却スピードに強く依存するため、2つのビームを調整し、それらを最適化することにより大粒径の多結晶シリコンが得られるからである。
【0036】
図11(A),(B)に示すビームスポットは図7に示したビームスポットの代わりに周辺回路部20を照射するように構成されることができる。また、図11(A),(B)に示すビームスポットは図8に示したビームスポットの代わりに画素部18を照射するように構成されることができる。また、図11(A),(B)に示すビームスポットは図9に示したビームスポットの代わりに画素部18及び周辺回路部20を照射するように構成されることができる。画素部18を結晶化する場合には、ビームスポットは一つのレーザー光で形成されている場合と、複数のレーザー光を組み合わせたもののどちらでもよい。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、基板の周辺回路部の非晶質半導体層は1つの強エネルギー光のみにより結晶化されるため、得られた結晶性にバラツキがなく、特性のそろったトランジスタを得ることができ、安定した動作の回路を製造することができる。また、複数の強エネルギー光を使用することにより高い処理能力が得られ、安価に液晶表示装置等の表示装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による液晶表示装置を示す略断面図である。
【図2】図1の基板を示す略平面図である。
【図3】図2の基板を作るためのガラス基板を示す略平面図である。
【図4】ガラス基板に形成した非晶質半導体を結晶化するための結晶化装置を示す略図である。
【図5】図4の結晶化装置の詳細を示す斜視図である。
【図6】図5の結晶化装置により周辺回路部の結晶化を行う手順を示す略図である。
【図7】レーザー光のビームスポットの例を示す図である。
【図8】画素部の結晶化を行う例を示す略図である。
【図9】周辺回路部及び画素部の結晶化を行う他の例を示す略図である。
【図10】レーザー光の合成を行う装置の例を示す図である。
【図11】合成されたレーザー光のビームスポットの例を示す図である。
【符号の説明】
10…液晶パネル
12…基板
14…基板
16…液晶
18…画素部
20…周辺回路部
22…画素
24…ガラス基板
26…XYステージ
28…レーザー光
30…レーザー装置
32…レーザー光源
34…レーザー光源
36…ミラー
38…レンズ
40…レンズ
42…支持調整機構
44…支持調整機構
Claims (5)
- 複数のパネル領域を有し、各パネル領域が画素部及び該画素部のまわりの周辺回路部を備えた表示装置の基板の製造方法であって、
該基板に形成した非晶質半導体層を複数の強エネルギー光にて同時に結晶化する工程を含み、一つのパネル領域の周辺回路部は該複数の強エネルギー光のうちの1つの強エネルギー光のみで結晶化されることを特徴とする表示装置の基板の製造方法。 - 複数の強エネルギー光は連続発振レーザーのスポット光を用いることを特徴とする請求項1に記載の表示装置の基板の製造方法。
- 強エネルギー光は複数の連続発振レーザー光を合成し、単一のスポット光としたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置の基板の製造方法。
- 絶縁基板上に形成された非晶質半導体層の結晶化装置であって、複数の強エネルギー光源と、該複数の強エネルギー光源の位置を変更可能な可変機構と、非晶質半導体層を形成した基板を支持するステージとを備え、該基板に形成した非晶質半導体層を複数の強エネルギー光により同時に結晶化するようにしたことを特徴とする結晶化装置。
- 該強エネルギー光のスポット光の形状を回転させる機構を備えることを特徴とする請求項4に記載の結晶化装置。
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