JPH02119128A - レーザアニーリング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザアニーリング装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、レーザアニーリング装置においては、１台のレー
ザ光源の場合が一般的であり、レーザビームを試料に照
射する場合、レーザ光を集光点で使用せず、アニール幅
を広くするためにデイフォーカスで使用している。また
複屈折を利用し、１本のレーザビームを２本に分割し、
＠の広いアニーリング幅を得ている。

また、レーザビームを楕円形に成形し、アニーリング幅
を得ている。これらは込ずれも１台のレーザ光源を使用
しているので、レーザ強度を揃えるとｈう問題は生じな
い。複屈折を利用し２本のビームに分割する場合は、各
レーザビームの強度は元となるレーザ源結晶によって決
定され２個々に制御することができない。

これらの方法を複数台のレーザ光源を用いて行えば、さ
らに幅の広いアニール幅が得られるが。

レーザビーム強度を試料面で同じにしないと均一のアニ
ールは得られない。正確にレーザビームの強度を同一に
するのは難かしく現在ではレーザ電源の制御で行なって
いる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述したように、従来のレーザアニール装置はレーザ光
源の電源によって複数台のレーザ光源の各レーザビーム
−＆ｊを制御してｈる。

この場合、レーザ光源の電源の制御はレーザ発振器の励
起光光源の入力電力を制御することによ）行っている。

この場合通常この励起光に比例したレーザ強度が得られ
るため、レーザ発振器の電源はすべて励起光の光源を可
変できる様に構成されている。

このような構成のレーザ光源を用いた場合、レーザ強度
の可変はレーザ電源の制御で行なえるが。

レーザビームの強度分布も同時に変化してしまう。

これはレーザ発振器が励起光光源の発する熱影響を受け
るからであシ、現在の技術では避けがたい現象である。

このためにレーザアニールを行なうレーザ強度以外のレ
ーザ強度で強度分布を測定しても意味をなさなくなって
しまう。

また、これはレーザアニールを行なうレーザ強度でレー
ザ強度分布を測定しなければならないことを意味するが
、実際の強度分布測定は測定器の一部で金る検出器に被
害を与えないようにするために、アニールを行なうレー
ザ強度より低いレーザ強度でしか測定できず、アニール
時の強度分布が分らないという欠点を有する。

また、複数のレーザ光源を使用する場合は同時に複数の
光学系を用いるがその光学系の透過率を同一にすること
はできずたとえば約６０係の透過率から８０チまでと異
なってしまうことがある。

この透過率の差をレーザ光源のレーザ強度を変えること
Ｋよって試料面でのレーザ強度を同一にしなければなら
ないが、この場合もレーザ電源の制御によって行なうの
で、それによってもレーザビームの強度分布がそれぞれ
のレーザ強度により異ってしまうという課題を有する。

本発明は従来のもののこのような課題を解決し。

強度分布を変えないでレーザ強度を可変にできるレーザ
アニーリング装置を提供するものである。

〔課題を解決するための平反〕

本発明のレーザアニーリング装置は複数台のし一デ光源
のレーザビームの強度ｔ−独立にかっレーザ強度分布を
変えることなく可変することのできる減光器と、前記レ
ーザ光源の各レーザビームを独立に遮断するシャッタと
、試料に照射する直前でのレーザ強度を測定するための
レーザパワーメータとを含んで構成される。

〔実施例〕

次靴本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例のブロック図である。

レーザ電源１によシレーザ光源２のレーザビーム強度を
可変できる様になりている。レーザ光源２よシ出射した
レーザビーム１１はシャッタ３にょシそれぞれ独立にし
ゃ断す・ることかできる。

シャツ、り３を通過したレーザビーム１１は次ニ減光器
４．を通過する。この減光器４は円板形又は長方形にな
っておシ回転角又昧移動量に応じて減光量が増減するよ
うになっている。通常１０％〜９０％程度まで直線的に
透過率が可変できる。

さらにレーザビーム１１は光学系５を通過しビーム合成
器６によって１つになるか又は極めて近接させられ、さ
らに対物レンズ７を通過し集光して試料９に達する。

レーザアニーリング装置の場合、試料９はＸ。

Ｙテーブル１０上に置かれ、Ｘ軸上又はＹ軸上を走査す
る。または試料９は固定して置きレーザビーム１１を同
様に走査しても良い。

試料９に達したレーザビーム１１は通常の走査では試料
９のみを走査するが、レーザ強度を測定する場合ｘ、ｙ
テーブル１ｏを移動し、近接して置かれているレーザパ
ワーメータ８を対物レンズ７の位置にセットする。

レーザパワーメータ８がレーザビーム１１を受はレーザ
強度が測定できる位置にセットされているとき、測定し
たい方のシャッタ３を開放し、減光器４を回転又は移動
させ所定の強度を得る。この動作を各レーザビーム１１
に対して行なうことによシ、試料９面上でのレーザビー
ム強度は正確に一致し、かつ強度分布の変化を受けない
。このときレーザ電源１及びレーザ光源２には手をつけ
る必要なく、最良の状態にしたままで良い。

このように本実施例では、従来のようにレーザ電源の制
御をせずに、試料面でのレーザ強度を可変にすることが
でき正確に試料面上でのレーザ強度を一致させることが
できる。またこのときにレーザ電源を制御しないため強
度分布は変化しない。

強度分布を変化させないでレーザ強度を可変することが
できるため強度分布測定時には検出器に被害を与えない
レーザ強度で行なうことができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように２本発明のレーザアニーリング装置
はレーザ光源のレーザビームの強度を独立に、かつレー
ザ強度分布を変えることなく可変することのできる減光
器と、試料に照射する直前でのレーザ強度を測定するた
めのレーザノ！ワーメータと、遮断器とを含むことによ
シ、光源の状態を変えることなしに、すなわち２強度分
布を変えることなしに、レーザ強度を可変にできる効果
がある。

第１図は本発明の一実施例のブロック図である。

記号の説明：１・・・レーザ電源、２・・・レーザ光源
。

３・・・シャッタ、４・・・減光器、５・・・光学系、
６・・・ピ・・・観測系。

【図面の簡単な説明】

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、レーザ光源を複数台用いるレーザアニーリング装置
   において、前記レーザ光源の各レーザビームの強度を独
   立にかつレーザ強度分布を変えることなく可変すること
   のできる減光器と、前記各レーザビームを独立に遮断で
   きるシャッタと、試料に照射する直前でのレーザビーム
   強度を測定するレーザパワーメータとを含むことを特徴
   とするレーザアニーリング装置。