JP6517845B2 - スケジューラ、基板処理装置、及び基板搬送方法 - Google Patents
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Description
う問題がある。
まで前記ミニバッチ分の前記前段側グラフ・ネットワークと前記ミニバッチ分の前記後段側グラフ・ネットワークとの作成及び結合を繰り返す。
ができる。また、最適なスループットを得るためのパラメータ(処理条件)を予め制限する必要もないので、想定されるプロセスレシピ以外の条件が与えられた場合でも良好なスループットを達成し得る基板搬送スケジュールを計算することができる。
基づいて予め定められており、この順番は、図4に示されるエッジe1−e16の矢印で示される。処理Aは、ユニットAからの基板ホルダの取り出し処理である。処理Bは、ユニットBからの基板ホルダの取り出し処理である。処理Cは、ユニットCからの基板ホルダの取り出し処理である。処理A,B,Cについてはそれぞれ、基板ホルダの取り出し、次のユニットへの移動、次のユニットへの収納の一連の処理を連続して実行するものとする。処理Dは、ユニットDへの基板ホルダの収納処理である。処理A−Cの取り出し処理時間は、それぞれ5秒とする。処理Dは、終了処理であり、取り出し処理時間は0である。基板ホルダの各々は、一つの搬送機により一つずつ搬送される。例えば、ユニットBとユニットC間の搬送機の移動時間は3秒とする。ユニットB間、及びユニットC間の搬送機の移動時間は1秒とする。ユニットBに収納された基板ホルダには、15秒間の処理が行われ、ユニットCに収納された基板ホルダには、10秒間の処理が行われる。また、制約条件として、処理Aが開始されてから処理Bが開始されるまでの時間を40秒以内、処理Bが開始されてから処理Cが開始されるまでの時間を60秒等とする。これらの前提条件の一覧を以下の表1に示す。
ダと同様である。
(STD:Standard)で行われるように設定されている。また、レシピID「XYZ」では、図示の各処理が試験条件(TEST)で行われるように設定されている。
B)、ブロー槽20(Blow)、及びスピンリンスドライヤ14(SRD)における、通常条件(STD)と試験条件(TEST)の処理時間がそれぞれ設定される。図13に示した通常条件と試験条件は、図14に示された処理時間に従う。
ー図である。図示のように、装置前段部の基板搬送スケジュールを計算するためには、まず、装置前段部に関連する処理時間、制約条件、及びプロセスレシピ(処理条件)等のデータを基板搬送制御スケジューラ40に取り込む(ステップS301)。取り込んだこれらのデータから、装置前段部の搬送順序が作成される(ステップS302)。この搬送順序は、特にプロセスレシピ(処理条件)に基づいて作成される。
11…ロードポート
12…ロードロボット
14…スピンリンスドライヤ
15a、15b…フィキシングステーション
23…搬送機
24…搬送機
26…めっき領域
30…装置コンピュータ
31…操作画面アプリケーション
32…装置制御コントローラ
40…基板搬送制御スケジューラ
41…モデル化部
42…計算部
43…検知部
44…判定部
45…パラメータ調整部
Claims (9)
- 基板の処理を行う複数の基板処理部と、前記基板を搬送する搬送部と、前記搬送部と前記基板処理部を制御する制御部を備えた基板処理装置の前記制御部に内蔵され、基板搬送スケジュールを計算するスケジューラであって、
前記基板処理装置の処理条件、処理時間、及び制約条件を、グラフ・ネットワーク理論を用いてノード及びエッジにモデル化し、グラフ・ネットワークを作成し、各ノードへの最長経路長の計算を行うモデル化部と、
前記最長経路長に基づいて前記基板搬送スケジュールを計算する計算部と、を有し、
前記基板処理部は、基板ホルダに保持された前記基板にめっき処理するめっき処理部を有し、
前記搬送部は、前記基板を収容する基板収納容器と前記基板を前記基板ホルダに対して着脱するフィキシングステーションとの間で基板を搬送する前段搬送部と、前記フィキシングステーションと前記めっき処理部との間で基板を搬送する後段搬送部とを有し、
前記基板処理装置は、前記前段搬送部を含む装置前段部と、前記めっき処理部及び前記後段搬送部を含む装置後段部とを有し、
前記モデル化部は、前記装置前段部及び前記装置後段部の処理条件、処理時間、及び制約条件をそれぞれモデル化し、前記装置前段部における前段側グラフ・ネットワークと、前記装置後段部における後段側グラフ・ネットワークとを別々に作成し、
前記スケジューラは、さらに、前記前段側グラフ・ネットワークと、前記後段側グラフ・ネットワークとを結合する処理を行い、各ノードへの最長経路長の計算を行う結合部を有し、
前記計算部は、前記結合部で算出された前記各ノードへの最長経路長に基づいて、前記基板搬送スケジュールを計算する、スケジューラ。 - 請求項1に記載されたスケジューラにおいて、
指定された前記基板の処理枚数を任意の枚数のミニバッチに分割し、
前記モデル化部は、前記ミニバッチ分の前記前段側グラフ・ネットワークと、前記ミニ
バッチ分の前記後段側グラフ・ネットワークを作成し、
前記結合部は、前記ミニバッチ分の前記前段側グラフ・ネットワークと、前記ミニバッチ分の前記後段側グラフ・ネットワークとを結合し、
指定された処理枚数分まで前記ミニバッチ分の前記前段側グラフ・ネットワークと前記ミニバッチ分の前記後段側グラフ・ネットワークとの作成及び結合を繰り返す、スケジューラ。 - 請求項1又は2に記載されたスケジューラにおいて、
前記基板処理装置が非定常状態に移行したか否かを検知する検知部を有し、
前記モデル化部は、前記基板処理装置が非定常状態に移行したことを前記検知部が検知したとき、前記非定常状態における前記基板処理装置の処理条件、処理時間、及び制約条件を、グラフ・ネットワーク理論を用いてノード及びエッジにモデル化し、グラフ・ネットワークを作成し、各ノードへの最長経路長の計算を行い、
前記計算部は、前記非定常状態における前記各ノードへの最長経路長に基づいて、前記基板搬送スケジュールを計算するように構成される、スケジューラ。 - 請求項3に記載されたスケジューラにおいて、
前記非定常状態は、前記基板処理装置の故障時の状態、基板ホルダのメンテナンス時の状態、又はアノードホルダのメンテナンス時の状態を含む、スケジューラ。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載されたスケジューラを内蔵する前記制御部を備えた、基板処理装置であって、
前記制御部は、計算された前記基板搬送スケジュールに基づいて前記搬送部を制御するように構成される、基板処理装置。 - 基板の処理を行う複数の基板処理部と、前記基板を搬送する搬送部と、前記搬送部と前記基板処理部を制御する制御部を備えた基板処理装置を用いた基板搬送方法であって、
前記基板処理装置の処理条件、処理時間、及び制約条件を、グラフ・ネットワーク理論を用いてノード及びエッジにモデル化し、グラフ・ネットワークを作成し、各ノードへの最長経路長の計算を行うモデル化工程と、
前記最長経路長に基づいて基板搬送スケジュールを計算する計算工程と、
前記基板搬送スケジュールに基づいて前記基板を搬送する工程と、を有し、
前記基板処理部は、基板ホルダに保持された前記基板にめっき処理するめっき処理部を有し、
前記搬送部は、前記基板を収容する基板収納容器と前記基板を前記基板ホルダに対して着脱するフィキシングステーションとの間で基板を搬送する前段搬送部と、前記フィキシングステーションと前記めっき処理部との間で基板を搬送する後段搬送部とを有し、
前記基板処理装置は、前記前段搬送部を含む装置前段部と、前記めっき処理部及び前記後段搬送部を含む装置後段部とを有し、
前記モデル化工程は、前記装置前段部及び前記装置後段部の処理条件、処理時間、及び制約条件をそれぞれモデル化し、前記装置前段部における前段側グラフ・ネットワークと、前記装置後段部における後段側グラフ・ネットワークとを別々に作成し、
前記基板搬送方法は、さらに、前記前段側グラフ・ネットワークと、前記後段側グラフ・ネットワークとを結合する処理を行い、各ノードへの最長経路長の計算を行う結合工程を有し、
前記計算工程は、前記結合工程で算出された前記最長経路長に基づいて基板搬送スケジュールを計算する、基板搬送方法。 - 請求項6に記載された基板搬送方法において、
指定された前記基板の処理枚数を任意の枚数のミニバッチに分割する工程を有し、
前記モデル化工程は、前記ミニバッチ分の前記前段側グラフ・ネットワークと、前記ミニバッチ分の前記後段側グラフ・ネットワークを作成し、
前記結合工程は、前記ミニバッチ分の前記前段側グラフ・ネットワークと、前記ミニバッチ分の前記後段側グラフ・ネットワークとを結合し、
前記基板搬送方法は、さらに、指定された処理枚数分まで前記ミニバッチ分の前記前段側グラフ・ネットワークと前記ミニバッチ分の前記後段側グラフ・ネットワークとの作成及び結合を繰り返す工程を有する、基板搬送方法。 - 請求項6又は7に記載された基板搬送方法において、
前記基板処理装置が非定常状態に移行したか否かを検知する工程を有し、
前記モデル化工程は、前記基板処理装置が非定常状態に移行したことを検知したとき、前記非定常状態における前記基板処理装置の処理条件、処理時間、及び制約条件を、グラフ・ネットワーク理論を用いてノード及びエッジにモデル化し、グラフ・ネットワークを作成し、前記各ノードへの最長経路長の計算を行う工程を含み、
前記計算工程は、前記非定常状態の前記各ノードへの最長経路長に基づいて、前記基板搬送スケジュールを計算する工程を含む、基板搬送方法。 - 請求項8に記載された基板搬送方法において、
前記非定常状態は、前記基板処理装置の故障時の状態、前記基板ホルダのメンテナンス時の状態、又はアノードホルダのメンテナンス時の状態を含む、基板搬送方法。
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Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102363113B1 (ko) * | 2018-03-01 | 2022-02-15 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 스케줄러, 기판 처리 장치, 및 기판 반송 방법 |
| CN109742041B (zh) * | 2019-01-07 | 2020-11-24 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | 基板传送的控制方法及设备 |
| US12287624B2 (en) | 2020-07-27 | 2025-04-29 | Applied Materials, Inc. | Time constraint management at a manufacturing system |
| JP7311553B2 (ja) * | 2021-03-29 | 2023-07-19 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム |
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Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5442306A (en) | 1977-09-09 | 1979-04-04 | Osaka Shinku Kiki Seisakusho | Strong flange joint device in vacuum melting furnace |
| JPH1031504A (ja) * | 1996-07-15 | 1998-02-03 | Oji Paper Co Ltd | 最適生産スケジュールの自動作成方法および最適生産スケジュール作成装置 |
| JP3684056B2 (ja) * | 1996-11-15 | 2005-08-17 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置の基板搬送制御方法 |
| US6418356B1 (en) * | 1998-12-31 | 2002-07-09 | Silicon Valley Group, Inc. | Method and apparatus for resolving conflicts in a substrate processing system |
| EP1255294A4 (en) * | 2000-01-17 | 2009-01-21 | Ebara Corp | SEMI-SLIDE TRANSPORT CONTROL APPARATUS AND METHOD OF TRANSPORTING SEMICONDUCTED DISCS |
| JP2003086563A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム |
| US7099277B2 (en) * | 2002-02-20 | 2006-08-29 | Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. | Dynamic optimal path selection in multiple communications networks |
| JP3928962B2 (ja) * | 2003-08-21 | 2007-06-13 | 株式会社日立製作所 | 通信型車両ナビゲーションシステムのサーバ装置及び車載端末装置 |
| KR100831108B1 (ko) * | 2003-12-24 | 2008-05-20 | 신닛뽄세이테쯔 카부시키카이샤 | 생산·물류 스케줄 작성 장치 및 방법, 생산·물류 프로세스제어 장치 및 방법, 컴퓨터 프로그램, 및 컴퓨터 판독가능한 기록 매체 |
| US9166906B2 (en) * | 2008-12-15 | 2015-10-20 | Intergraph Corporation | Routing method in asymmetric networks |
| US8483861B2 (en) * | 2009-08-31 | 2013-07-09 | Applied Materials, Inc. | Scheduling modeling system for adaptive, automated data collection and performance analysis of manufacturing system for optimal scheduling |
| US8655472B2 (en) | 2010-01-12 | 2014-02-18 | Ebara Corporation | Scheduler, substrate processing apparatus, and method of transferring substrates in substrate processing apparatus |
| JP5620680B2 (ja) * | 2010-01-12 | 2014-11-05 | 株式会社荏原製作所 | スケジューラ、基板処理装置、及び基板処理装置の運転方法 |
| JP5415356B2 (ja) * | 2010-05-19 | 2014-02-12 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置の基板搬送方法、スケジューラ、及び基板処理装置の運転制御装置 |
| JP5375661B2 (ja) * | 2010-02-24 | 2013-12-25 | 富士通株式会社 | 経路割当装置および経路割当方法 |
| JP5939210B2 (ja) * | 2013-06-20 | 2016-06-22 | Jfeスチール株式会社 | スケジューリング方法及びスケジューリング装置 |
| JP2015060566A (ja) | 2013-09-20 | 2015-03-30 | 株式会社東芝 | 作業計画スケジューリング装置およびその方法 |
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