JP6517165B2 - ビスマス電解澱物の処理方法 - Google Patents
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Description
図1は、Pb(鉛)などを不純物として含む粗BiメタルからBiを製造する工程を表すフロー図である。図1で例示するように、まず、粗Biメタルを塩化炉に投入する。塩化炉においては、塩素源から得られる塩素によって粗Biメタル中の不純物が塩化して揮発する。例えば、粗Biメタル中のPbが、塩化物として除去される。それにより、Biアノードが生成される。塩化によって得られたPbCl2(塩化鉛)は、鉛電気炉へと投入されることで、鉛製造工程に供される。なお、塩素源、塩化炉の条件等の詳細については後述する。
BiOCl+2HCl→BiCl3+H2O (1)
BiCl3+H2O→BiOCl(s)+2HCl (2)
2BiOCl+3Pb→2PbO+PbCl2 (3)
塩化炉条件
溶湯温度:450℃〜600℃、より好ましくは470℃〜520℃。
BiOClの添加時期:反応開始初期が好ましく、具体的には溶湯に鉛が1%以上含まれる状態で添加するのが良い。これは、0.8mass%以下では未反応のBiOClが残るためおそれがあるためである。
添加量及び添加順序:特に限定をしない。
Claims (4)
- ビスマス電解澱物を塩酸にてpH1以下に調整して浸出する工程と、
前記浸出後、固液分離を行う工程と、
前記固液分離によって得られた浸出後液のpHが1を超えるように水を添加することでオキシ塩化ビスマスを生成させる工程と、を含み、
前記浸出する工程において、浸出後液のCl濃度を60g/L〜80g/Lとすることを特徴とするビスマス電解澱物の処理方法。 - 前記オキシ塩化ビスマスを生成させた後の前記浸出後液に対して固液分離を行い、得られた溶液を塩酸溶液として用いることを特徴とする請求項1記載のビスマス電解澱物の処理方法。
- 前記浸出する工程において、前記塩酸溶液を用いることを特徴とする請求項2記載のビスマス電解澱物の処理方法。
- 粗ビスマスメタルを塩化炉に投入することでBiアノードを得る工程と、
前記BiアノードからBiを電解採取するBi電解工程と、を含み、
前記ビスマス電解澱物は、前記Bi電解工程で得られる電解澱物であり、
前記オキシ塩化ビスマスは、前記塩化炉に投入されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のビスマス電解澱物の処理方法。
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