JP6509696B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Claims (3)
- 上部空間を一方向に沿ってシート状の基材の部分が走行される真空チャンバ内に夫々配置される、シート状の基材の部分に対して所定の処理を施す処理ユニットとシート状の基材の部分に対する処理範囲を制限するシート状のマスク材を走行するマスク材走行ユニットとを備える真空処理装置であって、
シート状の基材が走行される方向をX軸方向、シート状の基材の幅方向をY軸方向とし、マスク材走行ユニットが、シート状の基材の部分に対してその下側に位置するシート状のマスク材の部分を平行に走行させるガイド手段と、所定の張力を加えつつシート状のマスク材をシート状の基材に同期させて走行させる駆動手段と、ガイド手段と駆動手段とを支持する支持体とを有するものにおいて、
支持体は、処理ユニットの配置を可能とする内部空間が画成されるように枠材を組み付けた枠組みを有し、Y軸方向一側に位置する枠組みの下枠部の部分に、X軸方向に間隔を置いて複数本の支柱が下方に向けて突設され、各支柱を介して、シート状の基材の部分とその下側のシート状のマスク材の部分とが平行になる起立姿勢で支持体が真空チャンバ内に設置されるように構成したことを特徴とする真空処理装置。 - 前記真空チャンバ内に前記支持体を設置した状態で、その設置面に設けた旋回軸を支点にしてY軸方向他側に位置する枠組みの下枠部に対して接離方向に旋回自在でかつ当該下枠部の部分に係合可能な支持竿を更に備えることを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
- 前記駆動手段は、母線方向をY軸方向に一致させて配置されるローラを備え、前記支持体への取付箇所を支点にして、この支持体に対して接離方向に旋回自在な一対の支持アーム間にローラを軸架したことを特徴とする請求項1または請求項2記載の真空処理装置。
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