JP6505508B2 - 鉛含有耐放射線ガラス及びその製造 - Google Patents
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Description
SiO2 5−65
B2O3 0−40
Al2O3 0−12
PbO 25−50
Na2O 0− 8
K2O 0−20
耐放射線ガラスの正確な組成の調節は、0.9乃至2.5のPbOに対するSiO2の比率の質量比が実現される場合、好ましい態様では、非常に容易に行うことができる。更に好ましくは、PbOに対するSiO2の比率のこの質量比は、>1から2.5までであるべきである。この質量比があまりにも高いと、所望の屈折率をしばしば達成できず、一方、低すぎる比は、しばしば、耐放射線ガラスを適切な安定性で製造することを可能としない。
As2O3 0.02
Sb2O3 0.3
SnO2 0.5
CeO2 0.5
As2O3 0
Sb2O3 0.25
SnO2 0.3である。
CeO2 0.35
As2O3 0
Sb2O3 0.2
SnO2 0.2である。
Ag2O 0.2
CuO 0.0015
Ag2O 0.15である。
CuO 0
Ag2O 0.1である。
Bi2O3 0.5
WO3 2
MoO3 0.3
Bi2O3 0.3
WO3 0.5である。
MoO3 0.2
Bi2O3 0.2
WO3 0.3である。
SiO2 40−65
B2O3 0− 4
Al2O3 0− 2
PbO 25−50
Na2O 0− 8
K2O 0−20
CeO2 0− 1
Sb2O3 0− 1
ここで、成分Sb2O3,As2O3,CuO,Ag2O,Bi2O3,WO3及びSnO2の比率の合計は0.1乃至2質量%であり、成分CeO2,MoO3,Bi2O3,WO3,Ag2O,SnO2,Sb2O3及びAs2O3の比率の合計は0.1乃至2質量%であり、Bi2O3,WO3及びMoO3の含有量は合計で1000ppmより高い。
・ガラス成分を混合すること、
・混合物を1050乃至1200℃の温度で溶融させること、及び
・溶融物を1230乃至1350℃の温度で清澄すること
を含む。
比較のために多数の実験が行われた。1.5krdのドーズ(10時間に亘るX線放射40kV)での放射後に、透過率は約10%のオーダーで低下し、一方、ドーピング剤なしのガラスの場合、透過率低下は約25%であったことを確認した。
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
[1]
質量%で次の成分:
SiO2 5−65
B2O3 0−40
Al2O3 0−12
PbO 25−50
Na2O 0− 8
K2O 0−20
を含む宇宙用ガラスであって、
前記ガラスはCeO2,MoO3,Bi2O3,WO3,AgO,SnO2,Sb2O3及びAs2O3からなる群より選ばれる少なくとも3つのドーピング剤を含み、これらのドーピング剤は合計で前記宇宙用ガラスの少なくとも0.1質量%である宇宙用ガラス。
[2]
前記宇宙用ガラスは500ppmより高いTiO2含有量を更に有する項1に記載の宇宙用ガラス。
[3]
TiO2含有量は1質量%を超えない先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[4]
前記ガラスは少なくとも40質量%のSiO2を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[5]
前記ガラスは多くても62質量%のSiO2を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[6]
前記ガラスは多くても4質量%のB2O3を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[7]
前記ガラスは多くても2質量%のAl2O3を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[8]
前記ガラスは多くても5質量%のZrO2を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[9]
前記ガラスは多くても5質量%のZnOを含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[10]
前記ガラスは多くても5質量%のCaOを含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[11]
前記ガラスは多くても45質量%のPbOを含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[12]
前記ガラスは多くても6.5質量%のNa2Oを含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[13]
前記ガラスは多くても10質量%のK2Oを含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[14]
前記ガラスは合計で多くても75乃至95質量%のSiO2及びPbOを含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[15]
前記ガラスは0乃至2.5のPbOに対するSiO2の比率の質量比を有する先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[16]
前記ガラスは合計で多くても0乃至28質量%のアルカリ金属酸化物を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[17]
前記ガラスは合計で多くても0乃至5質量%のアルカリ土類金属酸化物を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[18]
前記ガラスは少なくとも0.15質量%の総量で群CeO2,As2O3,Sb2O3及びSnO2の1つ以上のドーピング剤を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[19]
次のドーピング剤は以下に与えられる値以下である質量%の割合で添加されている先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
CeO2 1
As2O3 0.02
Sb2O3 0.3
SnO2 0.5
[20]
前記ガラスは少なくとも0.001質量%の総量で群CuO及びAg2Oの1つ以上のドーピング剤を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[21]
次のドーピング剤は以下に与えられる値以下である質量%の割合で添加されている先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
CuO 0.002
Ag2O 0.2
[22]
前記ガラスは少なくとも0.1質量%の総量で群MoO3,Bi2O3及びWO3の1つ以上のドーピング剤を含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[23]
次のドーピング剤は以下に与えられる値以下である質量%の割合で添加されている先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
MoO3 0.5
Bi2O3 0.5
WO3 2
[24]
前記ガラスは硝酸塩化合物を追加の清澄剤として含む先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[25]
前記ガラスは鉄、ニッケル及びコバルト化合物フリーである先行する項の1以上に記載の宇宙用ガラス。
[26]
宇宙での光学システムの成分としての項1乃至24の何れか1項に記載の宇宙用ガラスの使用。
[27]
a.前述の成分を混合する工程と、
b.それによって得られた混合物を溶融させる工程と
を含む項1乃至24の何れか1項に記載のガラスの製造方法。
Claims (15)
- 質量%で次の成分:
SiO2 5−65
B2O3 0−40
Al2O3 0−12
PbO 25−50
Na2O 0− 8
K2O 0−20
を含む300乃至800nmの範囲内で高透過率を有する耐放射線ガラスであって、
前記ガラスはCeO2,MoO3,Bi2O3,WO3,Ag2O,SnO2,Sb2O3及びAs2O3からなる群より選ばれる少なくとも3つのドーピング剤を含み、これらのドーピング剤は合計で前記ガラスの少なくとも0.1質量%であり、
MoO3,Bi2O3及びWO3の質量%での量の上限は、
MoO3 0.3
Bi2O3 0.3
WO3 0.5
であり、
TiO2の量は多くても1質量%であり、CeO 2 の最大量は1質量%であり、As2O3の最大量は0.02質量%であり、ガラスは、少なくとも65.2重量%が、成分SiO 2 ,B 2 O 3 ,Al 2 O 3 ,PbO,Na 2 O,K 2 O,CeO 2 ,Sb 2 O 3 ,As 2 O 3 ,CuO,Ag 2 O,Bi 2 O 3 ,WO 3 ,SnO 2 ,MoO 3 及びTiO 2からなる耐放射線ガラス。 - 着色性イオンフリーである請求項1に記載のガラス。
- 鉄、ニッケル及びコバルトフリーである請求項1に記載のガラス。
- アルカリ土類金属酸化物の量は0乃至5質量%である請求項1乃至3の何れか1項に記載のガラス。
- アルカリ土類金属酸化物の量は0乃至1質量%である請求項1乃至3の何れか1項に記載のガラス。
- アルカリ金属酸化物の量は0質量%超28質量%以下である請求項1乃至5の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは多くても4質量%のB2O3を含む請求項1乃至6の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは多くても2質量%のAl2O3を含む請求項1乃至7の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは多くても5質量%のZnOを含む請求項1乃至8の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは多くても5質量%のCaOを含む請求項1乃至9の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは合計で75乃至95質量%のSiO2及びPbOを含む請求項1乃至10の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは0.9乃至2.5のPbOに対するSiO2の比率の質量比を有する請求項1乃至11の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは少なくとも0.15質量%の総量で群CeO2,As2O3,Sb2O3及びSnO2の1つ以上のドーピング剤を含む請求項1乃至12の何れか1項に記載のガラス。
- 前記ガラスは硝酸塩化合物を追加の清澄剤として含む請求項1乃至13の何れか1項に記載のガラス。
- a.前述の成分を混合する工程と、
b.それによって得られた混合物を溶融させる工程と
を含む請求項1乃至14の何れか1項に記載の耐放射線ガラスの製造方法。
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JP6829548B2 (ja) * | 2016-04-20 | 2021-02-10 | 株式会社オハラ | 光学ガラス |
CN106587596B (zh) * | 2016-10-31 | 2019-08-27 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 重火石zf系列空间耐辐照光学玻璃及其制备方法 |
CN107140826A (zh) * | 2017-05-19 | 2017-09-08 | 江苏东昇光伏科技有限公司 | 一种薄膜太阳能电池用玻璃板及其制备方法 |
JP7353099B2 (ja) * | 2019-08-19 | 2023-09-29 | キヤノン電子株式会社 | 光源角度測定装置及び人工衛星 |
CN112250303A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-01-22 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种高强度防辐射玻璃及其制备方法和应用 |
CN117602822A (zh) * | 2023-12-06 | 2024-02-27 | 中建材光子科技有限公司 | 一种高透过率强伽马射线屏蔽玻璃及其制备方法和应用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE973350C (de) | 1940-06-10 | 1960-01-28 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Optische Silikatglaeser mit einer Brechungszahl, die, bezogen auf die mittlere Zerstreuung bzw. den ª†-Wert, niedrig ist |
DE2603450A1 (de) | 1975-03-14 | 1976-09-16 | Saale Glas Gmbh | Optische bleisilikatglaeser |
JPS5350217A (en) * | 1976-10-19 | 1978-05-08 | Hoya Glass Works Ltd | Optical glass having high refraction index |
US4211569A (en) * | 1979-03-09 | 1980-07-08 | Corning Glass Works | High index ophthalmic glasses |
JPS57179050A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-04 | Ohara Inc | Optical glass |
FR2508433A1 (fr) * | 1981-06-24 | 1982-12-31 | Corning Glass Works | Verres ophtalmiques a indice de refraction eleve |
JPS58167445A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-10-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体被覆用ガラス |
JPS59174544A (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体被覆用ガラス |
JPS6183644A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-28 | Hoya Corp | カラ−コントラストフイルタ−用ガラス |
DE3504558A1 (de) * | 1985-02-11 | 1986-08-14 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Optisches glas mit spannungsoptischem koeffizienten, der proportional zur wellenlaenge elektromagnetischer strahlung ist |
US4737475A (en) * | 1985-10-07 | 1988-04-12 | General Electric Company | Arsenic-free lead silicate vacuum tube glass |
JP2668049B2 (ja) * | 1988-02-26 | 1997-10-27 | 株式会社オハラ | 光学ガラス |
DE3917614C1 (ja) * | 1989-05-31 | 1990-06-07 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
US5015909A (en) * | 1989-12-29 | 1991-05-14 | Circon Corporation | Glass composition and method for manufacturing a high performance microchannel plate |
DE4301057C1 (de) * | 1993-01-16 | 1994-03-31 | Schott Glaswerke | Cadmiumfreie, farbige Anlaufgläser auf Basis eines PbO-SiO¶2¶ -Grundglases und deren Verwendung |
DE4336122C1 (de) * | 1993-10-22 | 1995-04-27 | Deutsche Spezialglas Ag | Hochbrechendes ophtalmisches Glas und Verwendung des Glases |
JPH09208255A (ja) * | 1996-02-08 | 1997-08-12 | Nikon Corp | 放射線遮蔽ガラス |
JP5349721B2 (ja) * | 2000-06-05 | 2013-11-20 | 株式会社オハラ | 光照射による屈折率変化の小さい光学ガラス |
DE10203226A1 (de) * | 2002-01-28 | 2003-09-04 | Schott Glas | Optisches Glas |
DE10207732B4 (de) * | 2002-02-22 | 2008-07-24 | Schott Ag | Glas mit deutlich verbesserter Stabilität gegen Strahlenbeschädigungen, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Verwendung |
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DE102004001458B4 (de) * | 2004-01-08 | 2012-01-19 | Schott Ag | Glas mit deutlich verbesserter Stabilität gegen Strahlenbeschädigungen, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie dessen Verwendung |
DE202005004459U1 (de) * | 2004-07-12 | 2005-11-24 | Schott Ag | Glas für Leuchtmittel mit außenliegenden Elektroden |
DE102005031657B4 (de) | 2005-07-05 | 2011-02-03 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Al-Silikat-Glasrohren zur Verwendung als Halbzeug zur Herstellung von Glaskeramik-Rohren |
DE102009027109B4 (de) * | 2009-06-23 | 2012-02-16 | Schott Ag | Bleihaltiges Weltraumglas, seine Herstellung und Verwendung |
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