JP6492994B2 - Polarized light irradiation device for photo-alignment - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、光配向用偏光光照射装置に関する。   Embodiments described herein relate generally to a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment.

液晶パネル等の製造工程では、液晶パネルの配向膜や視野角補償フィルムの配向層等の被照射物の配向処理が行われている。配向処理では、配向膜に所定の波長の偏光光を照射することによって配向を行う、いわゆる光配向を行うために用いる光配向用偏光光照射装置が知られている。   In a manufacturing process of a liquid crystal panel or the like, an alignment treatment of an irradiated object such as an alignment film of the liquid crystal panel or an alignment layer of a viewing angle compensation film is performed. In the alignment treatment, there is known a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment that is used to perform so-called photo-alignment, in which alignment is performed by irradiating polarized light with a predetermined wavelength to an alignment film.

この種の光配向用偏光光照射装置としては、例えば、偏光光を照射する照射面が設けられた照射ユニットと、配向膜が形成された基板が搭載されるステージと、ステージを搬送する搬送機構と、を備える構成がある。照射ユニットは、照射面から偏光光を照射する照射領域を有する。搬送機構は、ステージ上の基板が照射ユニットの照射領域を照射面と平行に通過するようにステージを搬送する。   As this type of polarized light irradiation device for photo-alignment, for example, an irradiation unit provided with an irradiation surface for irradiating polarized light, a stage on which a substrate on which an alignment film is formed, and a transport mechanism for transporting the stage There exists a structure provided with these. The irradiation unit has an irradiation region for irradiating polarized light from the irradiation surface. The transport mechanism transports the stage so that the substrate on the stage passes through the irradiation area of the irradiation unit in parallel with the irradiation surface.

また、上述した光配向用偏光光照射装置に類似する装置としては、基板が搭載された第１及び第２のステージが、基板に対して露光光を照射する露光部を通過するように、第１及び第２のステージを搬送する露光装置が知られている。   In addition, as an apparatus similar to the above-described polarized light irradiation apparatus for photo-alignment, the first and second stages on which the substrate is mounted pass through an exposure unit that irradiates the substrate with exposure light. An exposure apparatus that conveys the first and second stages is known.

特開２００８−１９１３０２号公報JP 2008-191302 A

ところで、液晶パネルの製造工程では、被照射物である配向膜に照射する偏光光の光軸の位置ずれを、±０．１°程度の許容値内に収める精度が要求される場合がある。一方、上述した光配向用偏光光照射装置では、搬送機構によって搬送されるステージの移動中に、搬送機構の搬送状態の経時変化や搬送機構の劣化等に伴ってステージに振動が生じるおそれがある。移動中のステージに振動が生じた場合、基板が照射領域を通過するときに配向膜に対する偏光光の照射状態が変動するので、配向膜の品質の低下を招いてしまう問題がある。特に、照射ユニットの照射面に直交する軸回りに対するステージの位置ずれや振動は、配向膜の品質に大きな影響を及ぼす傾向がある。   By the way, in the manufacturing process of the liquid crystal panel, there is a case where the accuracy in which the positional deviation of the optical axis of the polarized light irradiated to the alignment film that is the object to be irradiated falls within an allowable value of about ± 0.1 ° may be required. On the other hand, in the above-described polarized light irradiation apparatus for photo-alignment, there is a risk that the stage may vibrate due to a change in the transport state of the transport mechanism over time, deterioration of the transport mechanism, or the like while the stage transported by the transport mechanism is moving. . When vibration occurs in the moving stage, the irradiation state of the polarized light on the alignment film changes when the substrate passes through the irradiation region, which causes a problem that the quality of the alignment film is deteriorated. In particular, the position displacement and vibration of the stage with respect to the axis orthogonal to the irradiation surface of the irradiation unit tend to have a great influence on the quality of the alignment film.

そこで、本発明は、被照射物に対する偏光光の照射状態を適正に管理し、品質が低下した被照射物の製造を抑えることができる光配向用偏光光照射装置を提供することを目的とする。   Then, this invention aims at providing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment which can manage appropriately the irradiation state of the polarized light with respect to a to-be-irradiated object, and can suppress manufacture of the to-be-irradiated object with which quality fell. .

実施形態に係る光配向用偏光光照射装置は、被照射物に偏光光を照射する照射面が設けられた照射ユニットと、前記被照射物が搭載されるステージと、前記ステージ上の前記被照射物が、前記照射面から照射される偏光光の照射領域を前記照射面と平行に通過するように前記ステージを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送される前記ステージの移動中に、前記ステージまたは前記被照射物の位置を検出する位置検出手段と、前記位置検出手段が検出した検出結果に基づいて所定の制御を行う制御手段と、を具備する。   The polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the embodiment includes an irradiation unit provided with an irradiation surface for irradiating an irradiation object with polarized light, a stage on which the irradiation object is mounted, and the irradiation on the stage. A moving mechanism that transports the stage so that an object passes through an irradiation region of polarized light irradiated from the irradiation surface in parallel with the irradiation surface; Position detecting means for detecting the position of the stage or the object to be irradiated, and control means for performing predetermined control based on the detection result detected by the position detecting means.

本発明によれば、被照射物に対する偏光光の照射状態を適正に管理し、品質が低下した被照射物の製造を抑えることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the irradiation state of the polarized light with respect to a to-be-irradiated object can be managed appropriately, and manufacture of the to-be-irradiated object in which quality fell can be suppressed.

図１は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. 図２は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. 図３は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. 図４は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置において、光センサの検出結果に基づく処理を説明するためのフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart for explaining processing based on the detection result of the optical sensor in the polarized light irradiation device for photo-alignment according to the first embodiment. 図５は、第１の実施形態に係る変形例１の光配向用偏光光照射装置を示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment of the first modification according to the first embodiment. 図６は、第１の実施形態に係る変形例２の光配向用偏光光照射装置を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to Modification 2 according to the first embodiment. 図７は、第１の実施形態に係る変形例２の光配向用偏光光照射装置を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment of the second modification according to the first embodiment. 図８は、第１の実施形態に係る変形例３の光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。FIG. 8 is a side view schematically showing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment of the third modification according to the first embodiment. 図９は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. 図１０は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. 図１１は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を示す側面図である。FIG. 11 is a side view showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. 図１２は、第２の実施形態に係る変形例１の光配向用偏光光照射装置を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment of Modification 1 according to the second embodiment. 図１３は、第２の実施形態に係る変形例１の光配向用偏光光照射装置を示す側面図である。FIG. 13: is a side view which shows the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment of the modification 1 which concerns on 2nd Embodiment.

以下で説明する実施形態に係る光配向用偏光光照射装置（以下、偏光光照射装置と称する）１は、照射ユニット１３と、ステージ１５と、搬送機構１６と、位置検出手段としての光センサ１８と、制御手段としての制御部１９と、を備える。照射ユニット１３には、照射面Ｂが設けられている。照射面Ｂは、被照射物としての基板１１に偏光光を照射する照射領域Ａを有する。ステージ１５には、基板１１が搭載される。搬送機構１６は、ステージ１５上の基板１１が照射領域Ａを照射面Ｂと平行に通過するようにステージ１５を搬送する。光センサ１８は、搬送機構１６によって搬送されるステージ１５の移動中に、ステージ１５または基板１１の位置を検出する。制御部１９は、光センサ１８が検出した検出結果に基づいて所定の制御を行う。   A polarized light irradiation apparatus for photo-alignment (hereinafter referred to as a polarized light irradiation apparatus) 1 according to an embodiment described below includes an irradiation unit 13, a stage 15, a transport mechanism 16, and an optical sensor 18 as a position detection unit. And a control unit 19 as control means. The irradiation unit 13 is provided with an irradiation surface B. The irradiation surface B has an irradiation area A for irradiating the substrate 11 as an irradiation object with polarized light. A substrate 11 is mounted on the stage 15. The transport mechanism 16 transports the stage 15 so that the substrate 11 on the stage 15 passes through the irradiation area A in parallel with the irradiation surface B. The optical sensor 18 detects the position of the stage 15 or the substrate 11 while the stage 15 transported by the transport mechanism 16 is moving. The control unit 19 performs predetermined control based on the detection result detected by the optical sensor 18.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置１が有する光センサ１８は、照射面Ｂに直交する軸回りにおいて、ステージ１５の搬送方向に対するステージ１５または基板１１の回転角を検出する。   Further, the optical sensor 18 included in the polarized light irradiation apparatus 1 according to the embodiment described below detects the rotation angle of the stage 15 or the substrate 11 with respect to the transport direction of the stage 15 around an axis orthogonal to the irradiation surface B.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置１が有する光センサ１８は、照射領域Ａ内、照射領域Ａに対してステージ１５の搬送方向における一方側及び他方側の少なくとも１か所に配置されている。   In addition, the optical sensor 18 included in the polarized light irradiation apparatus 1 according to the embodiment described below is provided in at least one place on the one side and the other side in the conveyance direction of the stage 15 in the irradiation area A and the irradiation area A. Has been placed.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置１が有する光センサ１８は、照射面Ｂに直交する方向及び照射面Ｂに平行な方向の少なくとも一方におけるテージ１５または基板１１の位置を検出するように配置されている。   In addition, the optical sensor 18 included in the polarized light irradiation device 1 according to the embodiment described below detects the position of the stage 15 or the substrate 11 in at least one of the direction orthogonal to the irradiation surface B and the direction parallel to the irradiation surface B. Are arranged to be.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置１は、照射ユニット１３を有する照射部１２を備える。光センサ１８は、照射部１２に設けられている。   The polarized light irradiation apparatus 1 according to the embodiment described below includes an irradiation unit 12 having an irradiation unit 13. The optical sensor 18 is provided in the irradiation unit 12.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置３は、照射ユニット１３を有する照射部１２を備える。搬送機構１６は、第１の搬送路１７ａと、第２の搬送路１７ｂと、を有する。第１の搬送路１７ａは、ステージ１５が照射領域Ａに向けて移動を開始する開始位置Ｐ１と照射部１２との間に設けられている。第２の搬送路１７ｂは、照射領域Ａを通過したステージ１５が停止する停止位置Ｐ２と照射部１２との間に設けられている。光センサ１８は、第１の搬送路１７ａ及び第２の搬送路１７ｂの少なくも一方に沿う位置に設けられている。   Moreover, the polarized light irradiation device 3 according to the embodiment described below includes an irradiation unit 12 having an irradiation unit 13. The transport mechanism 16 includes a first transport path 17a and a second transport path 17b. The first transport path 17 a is provided between the start position P <b> 1 where the stage 15 starts moving toward the irradiation region A and the irradiation unit 12. The second transport path 17b is provided between the irradiation unit 12 and the stop position P2 where the stage 15 that has passed through the irradiation region A stops. The optical sensor 18 is provided at a position along at least one of the first transport path 17a and the second transport path 17b.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置５が有する光センサ１８は、ステージ１５に設けられている。   The optical sensor 18 included in the polarized light irradiation device 5 according to the embodiment described below is provided on the stage 15.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置５が有する光センサ１８は、照射面Ｂに直交する方向及び照射面Ｂに平行な方向の少なくとも一方に対するステージ１５の位置を検出するように配置されている。   The optical sensor 18 included in the polarized light irradiation device 5 according to the embodiment described below detects the position of the stage 15 with respect to at least one of the direction orthogonal to the irradiation surface B and the direction parallel to the irradiation surface B. Has been placed.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置５は、照射ユニット１３を有する照射部１２を備える。照射部１２は、光センサ１８によって、照射面Ｂに直交する方向及び照射面Ｂに平行な方向に対するステージ１５の位置を検出するための基準面２９ａを有する。   Moreover, the polarized light irradiation device 5 according to the embodiment described below includes an irradiation unit 12 having an irradiation unit 13. The irradiation unit 12 has a reference surface 29 a for detecting the position of the stage 15 with respect to the direction orthogonal to the irradiation surface B and the direction parallel to the irradiation surface B by the optical sensor 18.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置５が有する照射ユニット１３は、偏光素子としての偏光板１３ｃと、保持部材１３ｄと、を有する。偏光板１３ｃは、偏光光を出射する。保持部材１３ｄは、偏光板１３ｃを保持する。保持部材１３ｄには、光センサ１８によって、照射面Ｂに直交する方向に対するステージ１５の位置を検出するための基準面２９ａが設けられている。   Moreover, the irradiation unit 13 included in the polarized light irradiation device 5 according to the embodiment described below includes a polarizing plate 13c as a polarizing element and a holding member 13d. The polarizing plate 13c emits polarized light. The holding member 13d holds the polarizing plate 13c. The holding member 13d is provided with a reference surface 29a for detecting the position of the stage 15 with respect to the direction orthogonal to the irradiation surface B by the optical sensor 18.

また、以下で説明する実施形態に係る偏光光照射装置６は、照射ユニット１３を有する照射部１２を備える。搬送機構１６は、第１の搬送路１７ａと、第２の搬送路１７ｂと、を有する。第１の搬送路１７ａは、ステージ１５が照射領域Ａに向けて移動を開始する開始位置Ｐ１と照射部１２との間に設けられている。第２の搬送路１７ｂは、照射領域Ａを通過したステージ１５が停止する停止位置Ｐ２と照射部１２との間に設けられている。第１の搬送路１７ａ及び第２の搬送路１７ｂの少なくとも一方に沿う位置には、光センサ１８によって照射面Ｂに直交する方向及び照射面Ｂに平行な方向に対するステージ１５の位置を検出するための基準面２９ａが設けられている。   Moreover, the polarized light irradiation device 6 according to the embodiment described below includes an irradiation unit 12 having an irradiation unit 13. The transport mechanism 16 includes a first transport path 17a and a second transport path 17b. The first transport path 17 a is provided between the start position P <b> 1 where the stage 15 starts moving toward the irradiation region A and the irradiation unit 12. The second transport path 17b is provided between the irradiation unit 12 and the stop position P2 where the stage 15 that has passed through the irradiation region A stops. In order to detect the position of the stage 15 in the direction perpendicular to the irradiation surface B and the direction parallel to the irradiation surface B by the optical sensor 18 at a position along at least one of the first conveyance path 17a and the second conveyance path 17b. The reference surface 29a is provided.

（第１の実施形態）
以下、実施形態に係る偏光光照射装置について、図面を参照して説明する。本実施形態に係る偏光光照射装置は、被照射物である配向膜が形成された基板に直線偏光光等の偏光光を照射することで、光配向を行うために用いられる。本実施形態に係る偏光光照射装置は、例えば液晶パネルの配向膜や、視野角補償フィルム等の光学フィルムの配向層の製造に用いられる。 (First embodiment)
Hereinafter, a polarized light irradiation apparatus according to an embodiment will be described with reference to the drawings. The polarized light irradiation apparatus according to this embodiment is used for performing photo-alignment by irradiating polarized light such as linearly polarized light onto a substrate on which an alignment film, which is an object to be irradiated, is formed. The polarized light irradiation apparatus according to the present embodiment is used, for example, for manufacturing an alignment layer of an optical film such as an alignment film of a liquid crystal panel or a viewing angle compensation film.

（偏光光照射装置の構成）
図１は、第１の実施形態に係る偏光光照射装置を示す斜視図である。図２は、第１の実施形態に係る偏光光照射装置を示す平面図である。図３は、第１の実施形態に係る偏光光照射装置を示す側面図である。 (Configuration of polarized light irradiation device)
FIG. 1 is a perspective view showing a polarized light irradiation apparatus according to the first embodiment. FIG. 2 is a plan view showing the polarized light irradiation apparatus according to the first embodiment. FIG. 3 is a side view showing the polarized light irradiation apparatus according to the first embodiment.

第１の実施形態の偏光光照射装置１は、図１〜図３に示すように、照射ユニット１３を有する照射部１２と、ステージ１５と、搬送機構１６と、位置検出手段としての複数の光センサ１８と、を備える。また、偏光光照射装置１は、制御手段としての制御部１９を備える。   As shown in FIGS. 1 to 3, the polarized light irradiation apparatus 1 according to the first embodiment includes an irradiation unit 12 having an irradiation unit 13, a stage 15, a transport mechanism 16, and a plurality of lights as position detection means. And a sensor 18. Moreover, the polarized light irradiation apparatus 1 includes a control unit 19 as a control unit.

図２及び図３に示すように、照射部１２は、照射ユニット１３と、照射ユニット１３を支持するフレーム１４と、を有する。照射ユニット１３は、図３に示すように、被照射物としての配向膜が形成された矩形状の基板１１（以下、単に基板１１と称する。）に、偏光光を照射する照射領域Ａを有する照射面Ｂが向けられている。照射面Ｂは、図２中に示すＸ−Ｙ平面と平行に配置されており、照射面Ｂの面積が照射領域Ａに相当する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the irradiation unit 12 includes an irradiation unit 13 and a frame 14 that supports the irradiation unit 13. As shown in FIG. 3, the irradiation unit 13 has an irradiation region A for irradiating polarized light onto a rectangular substrate 11 (hereinafter simply referred to as the substrate 11) on which an alignment film as an object to be irradiated is formed. The irradiation surface B is directed. The irradiation surface B is arranged in parallel with the XY plane shown in FIG. 2, and the area of the irradiation surface B corresponds to the irradiation region A.

また、照射ユニット１３は、図３に示すように、紫外線を含む光を発する管状の光源１３ａと、光源１３ａが発した光を反射する反射板１３ｂと、を有する。また、照射ユニット１３は、光源１３ａが発した光と、反射板１３ｂで反射された光とが入射して偏光光を出射する偏光素子としての偏光板１３ｃと、偏光板１３ｃを保持する枠状の保持部材１３ｄと、を有する。   Moreover, the irradiation unit 13 has the tubular light source 13a which emits the light containing an ultraviolet-ray, and the reflecting plate 13b which reflects the light which the light source 13a emitted as shown in FIG. In addition, the irradiation unit 13 includes a polarizing plate 13c as a polarizing element that emits polarized light when light emitted from the light source 13a and light reflected by the reflecting plate 13b enter, and a frame shape that holds the polarizing plate 13c. Holding member 13d.

なお、ここでいう「照射領域Ａ」とは、照射ユニット１３の最下面の開口、すなわち、照射ユニット１３において、最も被照射物に近い位置に配置された開口から偏光光が照射される範囲を指す。また、「照射面Ｂ」とは、照射ユニット１３の最下面に配置された光学素子において、偏光光を出射する出射面を指す。例えば、照射ユニット１３の最下面に偏光板１３ｃが配置されている場合、偏光板１３ｃが配置された開口から偏光光が照射される範囲が照射領域Ａに相当し、偏光板１３ｃの出射面が照射面Ｂに相当する。また、偏光板１３ｃよりも被照射物側に遮光板（不図示）が配置されている場合、遮光板が配置された開口から偏光光が照射される範囲が照射領域Ａに相当し、遮光板の出射面が照射面Ｂに相当する。更に、遮光板に保護ガラス（不図示）が配置されている場合、保護ガラスが配置された開口から偏光光が照射される範囲が照射領域Ａに相当し、保護ガラスの出射面が照射面Ｂに相当する。   The “irradiation area A” as used herein refers to a range in which polarized light is irradiated from the opening on the lowermost surface of the irradiation unit 13, that is, in the irradiation unit 13 at the position closest to the irradiated object. Point to. The “irradiation surface B” refers to an exit surface that emits polarized light in the optical element disposed on the lowermost surface of the irradiation unit 13. For example, when the polarizing plate 13c is disposed on the lowermost surface of the irradiation unit 13, the range in which the polarized light is irradiated from the opening where the polarizing plate 13c is disposed corresponds to the irradiation region A, and the exit surface of the polarizing plate 13c is It corresponds to the irradiation surface B. Further, when a light shielding plate (not shown) is disposed on the irradiated object side with respect to the polarizing plate 13c, the range in which the polarized light is irradiated from the opening where the light shielding plate is disposed corresponds to the irradiation region A, and the light shielding plate. The emission surface corresponds to the irradiation surface B. Further, when a protective glass (not shown) is disposed on the light shielding plate, the range in which the polarized light is irradiated from the opening where the protective glass is disposed corresponds to the irradiation region A, and the exit surface of the protective glass is the irradiation surface B. It corresponds to.

光源１３ａは、例えば、紫外線透過性のガラス管内に、水銀、アルゴン、キセノンなどの希ガスが封入された高圧水銀ランプや、高圧水銀ランプに鉄やヨウ素等のメタルハライドが更に封入されたメタルハライドランプ等の管型放電ランプが用いられており、直線状の発光部を有する。光源１３ａは、発光部の長手方向が、照射ユニット１３に対するステージ１５の搬送方向と直交しており、発光部の長さが、基板１１の一辺の長さよりも長くされている。光源１３ａは、直線状の発光部から、例えば波長が２００ｎｍ程度から４００ｎｍ程度までの紫外線を含む光を発することが可能とされている。光源１３ａが発する光は、さまざまな偏光軸成分を有する、いわゆる非偏光の光である。   The light source 13a is, for example, a high-pressure mercury lamp in which a rare gas such as mercury, argon, or xenon is sealed in a glass tube that transmits ultraviolet light, a metal halide lamp in which a metal halide such as iron or iodine is further sealed in a high-pressure mercury lamp, or the like. The tube-type discharge lamp is used and has a linear light-emitting portion. In the light source 13 a, the longitudinal direction of the light emitting unit is orthogonal to the conveying direction of the stage 15 with respect to the irradiation unit 13, and the length of the light emitting unit is longer than the length of one side of the substrate 11. The light source 13a can emit light including ultraviolet rays having a wavelength of about 200 nm to about 400 nm, for example, from a linear light emitting unit. The light emitted from the light source 13a is so-called non-polarized light having various polarization axis components.

反射板１３ｂは、光源１３ａに対向する面に、光源１３ａが発した光を反射する反射面を有しており、反射面が楕円の一部をなす形状に形成されている。これにより、反射板１３ｂは、光源１３ａが発した光を集光する、いわゆる集光型の反射板として構成されている。偏光板１３ｃは、光源１３ａが発し、一様にあらゆる方向に振動したさまざまな偏光軸成分を含む光から基準方向のみに振動した偏光軸の光を取り出すことが可能とされている。なお、基準方向のみに振動した偏光軸の光を、一般に直線偏光光という。また、偏光軸とは、光の電場及び磁場の振動方向である。   The reflecting plate 13b has a reflecting surface that reflects light emitted from the light source 13a on the surface facing the light source 13a, and the reflecting surface is formed in a shape that forms part of an ellipse. Thereby, the reflecting plate 13b is configured as a so-called condensing type reflecting plate that condenses the light emitted from the light source 13a. The polarizing plate 13c can extract light having a polarization axis oscillated only in the reference direction from light including various polarization axis components emitted from the light source 13a and uniformly oscillating in all directions. Note that light having a polarization axis that vibrates only in the reference direction is generally referred to as linearly polarized light. The polarization axis is the vibration direction of the electric field and magnetic field of light.

照射部１２のフレーム１４は、図２及び図３に示すように、搬送機構１６の後述するガイドレール１６ａを跨いで配置されている。フレーム１４の内部の上方には、照射ユニット１３が支持されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the frame 14 of the irradiation unit 12 is disposed across a guide rail 16 a (described later) of the transport mechanism 16. An irradiation unit 13 is supported above the inside of the frame 14.

ステージ１５は、矩形状の板状に形成されており、配向膜が形成された基板１１が搭載される。図２及び図３に示すように、ステージ１５は、搬送機構１６によってＹ軸方向に移動可能に支持されている。また、ステージ１５の外形寸法は、後述する複数の光センサ１８の検出光がそれぞれ同時に照射される大きさに設定されることが好ましいが、１つの光センサ１８の構成に応じて適宜設定される。   The stage 15 is formed in a rectangular plate shape, and the substrate 11 on which the alignment film is formed is mounted. As shown in FIGS. 2 and 3, the stage 15 is supported by the transport mechanism 16 so as to be movable in the Y-axis direction. Further, the outer dimension of the stage 15 is preferably set to a size at which detection lights of a plurality of optical sensors 18 described later are simultaneously irradiated, but is appropriately set according to the configuration of one optical sensor 18. .

搬送機構１６は、図２及び図３に示すように、直線状のガイドレール１６ａと、ガイドレール１６ａ上に沿って移動する駆動ユニット１６ｂと、を有する。ガイドレール１６ａは、ステージ１５が照射部１２の照射領域Ａに向かって移動を開始する開始位置Ｐ１と、照射部１２を通過したステージ１５が停止する停止位置Ｐ２との間でステージ１５が往復移動するように設けられている。ガイドレール１６ａによって、ステージ１５をＹ軸方向に沿って搬送する直線状の搬送路１７が構成されている。また、駆動ユニット１６ｂ上には、ステージ１５が固定されている。そして、搬送機構１６は、駆動ユニット１６ｂをガイドレール１６ａに沿って移動させることで、ステージ１５上の基板１１が照射領域Ａを通過するようにステージ１５を照射面Ｂと平行に搬送する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the transport mechanism 16 includes a linear guide rail 16 a and a drive unit 16 b that moves along the guide rail 16 a. The guide rail 16a is moved back and forth between a start position P1 where the stage 15 starts moving toward the irradiation area A of the irradiation unit 12 and a stop position P2 where the stage 15 which has passed through the irradiation unit 12 stops. It is provided to do. The guide rail 16a constitutes a linear conveyance path 17 that conveys the stage 15 along the Y-axis direction. A stage 15 is fixed on the drive unit 16b. And the conveyance mechanism 16 conveys the stage 15 in parallel with the irradiation surface B so that the board | substrate 11 on the stage 15 may pass the irradiation area A by moving the drive unit 16b along the guide rail 16a.

搬送路１７は、開始位置Ｐ１と照射部１２との間の第１の搬送路１７ａと、照射部１２と停止位置Ｐ２との間の第２の搬送路１７ｂと、第１の搬送路１７ａと第２の搬送路１７ｂとの間で照射部１２内に配置された第３の搬送路１７ｃと、を含む。   The conveyance path 17 includes a first conveyance path 17a between the start position P1 and the irradiation unit 12, a second conveyance path 17b between the irradiation unit 12 and the stop position P2, and a first conveyance path 17a. And a third transport path 17c disposed in the irradiation unit 12 between the second transport path 17b and the second transport path 17b.

複数の光センサ１８は、搬送機構１６によって搬送されるステージ１５の移動中に、ステージ１５の位置を検出するように配置されている。図示しないが、光センサ１８は、検出光を発する発光部と、ステージ１５によって反射された検出光を受光する受光部と、を有する。   The plurality of optical sensors 18 are arranged so as to detect the position of the stage 15 during the movement of the stage 15 transported by the transport mechanism 16. Although not shown, the optical sensor 18 includes a light emitting unit that emits detection light and a light receiving unit that receives the detection light reflected by the stage 15.

第１の実施形態において、照射部１２の内部には、照射ユニット１３の照射面Ｂと同一面上（Ｘ−Ｙ平面上）に、３つの光センサ１８が所定の間隔をあけて配置されている。３つの光センサ１８は、照射部１２内を通過するステージ１５の搭載面に対向する位置に、検出光を下方に向けて出射する向きに配置されている。Ｘ−Ｙ平面上に配置された３つの光センサ１８のうち、Ｙ軸方向に間隔をあけて配置された各光センサ１８によって、Ｘ軸回りに対するステージ１５の振動が検出される。また、Ｘ−Ｙ平面上に配置された３つの光センサ１８のうち、Ｘ軸方向に間隔をあけて配置された各光センサ１８によって、Ｙ軸回りに対するステージ１５の振動が検出される。   In the first embodiment, inside the irradiation unit 12, three optical sensors 18 are arranged on the same surface as the irradiation surface B of the irradiation unit 13 (on the XY plane) with a predetermined interval. Yes. The three optical sensors 18 are disposed in positions facing the mounting surface of the stage 15 that passes through the irradiation unit 12 and in a direction in which the detection light is emitted downward. Of the three optical sensors 18 arranged on the XY plane, vibrations of the stage 15 about the X axis are detected by the optical sensors 18 arranged at intervals in the Y-axis direction. Of the three optical sensors 18 arranged on the XY plane, the vibration of the stage 15 around the Y axis is detected by the optical sensors 18 arranged at intervals in the X-axis direction.

また、３つの光センサ１８は、照射ユニット１３の偏光板１３ｃを保持する保持部材１３ｄに固定されている。この構成によれば、光センサ１８を支持する支持体を介して光センサ１８を照射部１２に取り付ける必要がなくなり、取付け構造の簡素化が図られる。また、光センサ１８は、照射ユニット１３の照射面Ｂを基準面としてステージ１５の位置を検出することができるので、適正な検出精度を容易に確保することができる。   The three optical sensors 18 are fixed to a holding member 13 d that holds the polarizing plate 13 c of the irradiation unit 13. According to this configuration, it is not necessary to attach the optical sensor 18 to the irradiating unit 12 via the support that supports the optical sensor 18, and the mounting structure can be simplified. Further, since the optical sensor 18 can detect the position of the stage 15 using the irradiation surface B of the irradiation unit 13 as a reference surface, it is possible to easily ensure appropriate detection accuracy.

また、照射部１２の内部には、側面（Ｙ−Ｚ平面）に、２つの光センサ１８が、ステージ１５の搬送方向（Ｙ軸方向）に所定の間隔をあけて配置されている。２つの光センサ１８は、支持体２１を介してフレーム１４に固定されており、ステージ１５の搬送方向に対する照射領域Ａの両側に配置されている。また、２つの光センサ１８は、ステージ１５の側面が通過する位置に対向して、検出光をステージ１５の側面に向けて出射する向きに配置されている。Ｙ−Ｚ平面上にＹ軸方向に対して間隔をあけて配置された各光センサ１８によって、Ｚ軸回りに対するステージ１５の振動が検出される。   Further, inside the irradiation unit 12, two optical sensors 18 are arranged on the side surface (YZ plane) at a predetermined interval in the conveyance direction (Y-axis direction) of the stage 15. The two optical sensors 18 are fixed to the frame 14 via the support 21 and are arranged on both sides of the irradiation area A with respect to the transport direction of the stage 15. Further, the two optical sensors 18 are arranged to face the position where the side surface of the stage 15 passes and to emit detection light toward the side surface of the stage 15. The vibrations of the stage 15 about the Z axis are detected by the optical sensors 18 arranged on the YZ plane with an interval in the Y axis direction.

また、Ｘ−Ｙ平面上に配置される３つの光センサ１８は、ステージ１５の上方に配置する構成に限定されるものではなく、図３に示すように、ステージ１５の下方に配置されてもよい。この構成の場合、３つの光センサ１８は、例えば、ガイドレール１６ａに隣接する位置に所定の間隔をあけて、検出光を上方に向けて出射する向きに配置される。   Further, the three optical sensors 18 arranged on the XY plane are not limited to the configuration arranged above the stage 15, and may be arranged below the stage 15 as shown in FIG. 3. Good. In the case of this configuration, for example, the three optical sensors 18 are arranged in a direction to emit detection light upward at a predetermined interval at a position adjacent to the guide rail 16a.

複数の光センサ１８を用いて、ステージ１５の移動中に、図１に示すＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の３軸回りに関するステージ１５の位置をそれぞれ検出することで、３軸回りに対するステージ１５の振動が検出される。言い換えると、複数の光センサ１８を用いることで、Ｙ軸方向に対して移動中のステージ１５について、Ｘ軸回りであるヨー軸回りに対する振動、Ｙ軸回りであるロール軸回りに対する振動、Ｚ軸回りであるピッチ軸回りに対する振動がそれぞれ検出される。本実施形態では、Ｘ軸及びＹ軸の方向が、照射ユニット１３の照射面Ｂに平行な方向に相当しており、水平方向である。また、本実施形態では、Ｚ軸が、照射面Ｂに直交する軸に相当しており、鉛直方向である。   The stage 15 about the three axes is detected by detecting the position of the stage 15 about the three axes of the X axis, the Y axis, and the Z axis shown in FIG. Vibration is detected. In other words, by using a plurality of optical sensors 18, the stage 15 moving in the Y-axis direction is vibrated about the yaw axis around the X axis, vibrated around the roll axis around the Y axis, Z axis Vibrations around the pitch axis, which is a rotation, are respectively detected. In the present embodiment, the directions of the X axis and the Y axis correspond to the direction parallel to the irradiation surface B of the irradiation unit 13 and are horizontal directions. In the present embodiment, the Z axis corresponds to an axis orthogonal to the irradiation surface B, and is the vertical direction.

また、３軸回りに対する各振動のうち、特に、照射ユニット１３の照射面Ｂに直交するＺ軸回りに対して発生するステージ１５の位置ずれや振動が、配向膜の品質に大きな影響を及ぼす傾向がある。このため、Ｙ−Ｚ平面上にＹ軸方向に沿って配置された２つの光センサ１８を用いて、少なくともＺ軸回りに対するステージ１５の振動において、Ｙ軸方に対するステージ１５の回転角を検出することで、品質が低下した配向膜の製造を抑えることが可能になる。   In addition, among the vibrations around the three axes, in particular, the position shift and vibration of the stage 15 that occur around the Z axis orthogonal to the irradiation surface B of the irradiation unit 13 tend to have a great influence on the quality of the alignment film. There is. For this reason, the rotation angle of the stage 15 with respect to the Y-axis direction is detected at least in the vibration of the stage 15 about the Z-axis by using the two optical sensors 18 arranged along the Y-axis direction on the YZ plane. As a result, it is possible to suppress the production of the alignment film having a deteriorated quality.

なお、第１の実施形態では、５つの光センサ１８を用いるが、光センサ１８の個数を限定するものではない。光センサ１８を用いた位置の検出では、移動中のステージ１５の位置を同時に検出する光センサ１８の個数を増やし、ステージ１５の位置を同時に検出する各光センサ１８間の間隔を大きくすることで検出精度を高めることが可能である。このため、光センサ１８の個数や配置は、３軸方向においてステージ１５の振動を検出する方向や検出精度の要求に応じて適宜設定される。   In the first embodiment, five optical sensors 18 are used, but the number of optical sensors 18 is not limited. In the position detection using the optical sensor 18, the number of the optical sensors 18 that simultaneously detect the position of the moving stage 15 is increased, and the interval between the optical sensors 18 that simultaneously detect the position of the stage 15 is increased. Detection accuracy can be increased. For this reason, the number and arrangement of the optical sensors 18 are appropriately set according to the request for the direction in which the vibration of the stage 15 is detected in the three-axis directions and the detection accuracy.

図１に示すように、制御部１９は、複数の光センサ１８及び操作部２０と電気的に接続されており、複数の光センサ１８が検出した検出結果に基づいて操作部２０を制御する。操作部２０は、警告を含む各種の情報を表示する表示パネル２０ａを有する。   As shown in FIG. 1, the control unit 19 is electrically connected to the plurality of optical sensors 18 and the operation unit 20, and controls the operation unit 20 based on detection results detected by the plurality of optical sensors 18. The operation unit 20 includes a display panel 20a that displays various types of information including warnings.

制御部１９は、複数の光センサ１８によって検出されたステージ１５の振動が所定の範囲内であるかを判定する。ステージ１５の振動が所定の範囲内よりも大きくなった場合、制御部１９は、操作部２０を制御し、表示パネル２０ａに警告を表示させる。このとき、表示パネル２０ａには、例えば、ステージ１５の変位量に関する検出値や、検出値を用いて算出した算出値等の情報を含めた警告が表示される。また、制御部１９は、必要に応じて、警告灯を点灯したり、警報機が警告音を鳴らしたりする制御を行うことで、他の警告を発してもよい。   The control unit 19 determines whether the vibration of the stage 15 detected by the plurality of optical sensors 18 is within a predetermined range. When the vibration of the stage 15 becomes larger than the predetermined range, the control unit 19 controls the operation unit 20 to display a warning on the display panel 20a. At this time, for example, a warning including information such as a detected value related to the displacement amount of the stage 15 and a calculated value calculated using the detected value is displayed on the display panel 20a. Moreover, the control part 19 may emit another warning by performing the control which a warning lamp is lighted or an alarm machine sounds a warning sound as needed.

また、ステージ１５の振動を判定するための所定の範囲は、例えば、基板１１の配向膜の品質が適正に得られる振幅の上限値及び下限値に設定することで、品質が不良の配向膜が製造される前に、適切なタイミングでメンテナンス作業を行うことが可能になる。   Further, the predetermined range for determining the vibration of the stage 15 is set to, for example, an upper limit value and a lower limit value of an amplitude at which the quality of the alignment film of the substrate 11 can be appropriately obtained, so that an alignment film with poor quality can be obtained. It becomes possible to perform maintenance work at an appropriate timing before being manufactured.

なお、本実施形態では、複数の光センサ１８を用いてステージ１５の振動を検出するように構成されたが、ステージ１５上の基板１１の振動を検出するように構成されてもよい。基板１１の振動を直に検出する場合は、ステージ１５上に位置決めされる基板１１の搭載位置のバラつきの影響を排除できるので、配向膜の位置の検出精度を更に高めることができる。   In the present embodiment, the vibration of the stage 15 is detected using the plurality of optical sensors 18, but the vibration of the substrate 11 on the stage 15 may be detected. When the vibration of the substrate 11 is directly detected, the influence of the variation in the mounting position of the substrate 11 positioned on the stage 15 can be eliminated, so that the detection accuracy of the alignment film position can be further improved.

（偏光光の照射時の動作）
図２及び図３に示すように、偏光光照射装置１では、開始位置Ｐ１においてステージ１５上に基板１１が搭載されて、搬送機構１６によってステージ１５が、開始位置Ｐ１と停止位置Ｐ２との間を往復移動する。ステージ１５が開始位置Ｐ１と停止位置Ｐ２との間を往復移動するとき、ステージ１５上の基板１１が照射面Ｂと平行に搬送されて、照射領域Ａを通過することで、基板１１上の配向膜に対して所望の光配向が行われる。 (Operation during irradiation with polarized light)
As shown in FIGS. 2 and 3, in the polarized light irradiation apparatus 1, the substrate 11 is mounted on the stage 15 at the start position P1, and the stage 15 is moved between the start position P1 and the stop position P2 by the transport mechanism 16. Move back and forth. When the stage 15 reciprocates between the start position P1 and the stop position P2, the substrate 11 on the stage 15 is transported in parallel with the irradiation surface B and passes through the irradiation region A, so that the orientation on the substrate 11 is achieved. The desired photo-alignment is performed on the film.

このように搬送機構１６によって搬送されるステージ１５の移動中に、ステージ１５が、複数の光センサ１８が検出する検出位置を通過することで、ステージ１５の３軸回りに対する振動がそれぞれ検出される。図４は、第１の実施形態の偏光光照射装置１において、複数の光センサ１８の検出結果に基づく処理を説明するためのフローチャートである。   Thus, during the movement of the stage 15 transported by the transport mechanism 16, the stage 15 passes through detection positions detected by the plurality of optical sensors 18, thereby detecting vibrations about the three axes of the stage 15. . FIG. 4 is a flowchart for explaining processing based on the detection results of the plurality of optical sensors 18 in the polarized light irradiation device 1 of the first embodiment.

図４に示すように、複数の光センサ１８は、ステージ１５上の基板１１が照射部１２内に進入し、基板１１が照射領域Ａを通過するときに、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸回りに対するステージ１５の各振動が検出される（ステップＳ１）。制御部１９は、複数の光センサ１８が検出したＸ、Ｙ、Ｚ軸回りに対するステージ１５の各振動に関して、それぞれ所定の範囲内であるか、例えば、ステージ１５の変位量である振幅が所定の上限値と下限値の範囲内であるか否かを判定する（ステップＳ２）。また、光センサ１８を用いて、Ｚ軸回りに対するステージ１５の回転角を検出する場合、制御部１９は、Ｘ−Ｙ平面上におけるＹ軸方向に対するステージ１５の回転角が所定の範囲内であるか否かを判定する。   As shown in FIG. 4, the plurality of optical sensors 18 are arranged in stages around the X, Y, and Z axes when the substrate 11 on the stage 15 enters the irradiation unit 12 and the substrate 11 passes through the irradiation region A. Fifteen vibrations are detected (step S1). The control unit 19 is within a predetermined range with respect to each vibration of the stage 15 about the X, Y, and Z axes detected by the plurality of optical sensors 18, for example, an amplitude that is a displacement amount of the stage 15 is predetermined. It is determined whether it is within the range between the upper limit value and the lower limit value (step S2). Further, when the rotation angle of the stage 15 with respect to the Z axis is detected using the optical sensor 18, the control unit 19 has the rotation angle of the stage 15 with respect to the Y axis direction on the XY plane within a predetermined range. It is determined whether or not.

そして、制御部１９は、ステップＳ２において、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸回りに対するステージ１５の振幅、または上述したステージ１５の回転角が所定の範囲を外れた場合（ステップＳ２，Ｎｏ）、操作部２０の表示パネル２０ａを用いて警告を発するように制御を行う（ステップＳ３）。また、ステップＳ２において、ステージ１５の振動が所定の範囲内である場合（ステップＳ２，Ｙｅｓ）、例えば、ステージ１５の振幅が所定の範囲内である場合には、ステップＳ１に戻り、複数の光センサ８を用いてステージ１５の振動の検出を続ける。   Then, in step S2, when the amplitude of the stage 15 around the X, Y, and Z axes or the rotation angle of the stage 15 described above is out of a predetermined range (step S2, No), the control unit 19 operates the operation unit 20. Control is performed to issue a warning using the display panel 20a (step S3). In step S2, when the vibration of the stage 15 is within a predetermined range (step S2, Yes), for example, when the amplitude of the stage 15 is within the predetermined range, the process returns to step S1, and a plurality of light beams The sensor 8 is used to continue detecting the vibration of the stage 15.

ステップＳ３において制御部１９が警告を発した場合、移動中のステージ１５上の基板１１への偏光光の照射を終了した後、使用者が操作部２０を操作し、搬送機構１６が停止される。また、制御部１９は、警告を発すると共に、移動中のステージ１５上の基板１１への偏光光の照射を終了した後、搬送機構１６を停止するように制御を行ってもよい。また、この場合、搬送機構１６の搬送状態やステージ１５の固定位置等に関するメンテナンス作業が行われ、移動中のステージ１５の振幅または上述の回転角が所定の範囲内になるように調整される。   When the control unit 19 issues a warning in step S3, after the irradiation of the polarized light to the substrate 11 on the moving stage 15 is finished, the user operates the operation unit 20 and the transport mechanism 16 is stopped. . Further, the control unit 19 may issue a warning and may perform control so that the transport mechanism 16 is stopped after the irradiation of the polarized light to the substrate 11 on the moving stage 15 is finished. Further, in this case, maintenance work relating to the transport state of the transport mechanism 16 and the fixed position of the stage 15 is performed, and the amplitude of the moving stage 15 or the above-described rotation angle is adjusted to be within a predetermined range.

第１の実施形態の偏光光照射装置１は、ステージ１５の移動中にステージ１５の位置を検出する光センサ１８と、光センサ１８が検出した検出結果に基づいて警告を発する制御部１９及び表示パネル２０ａと、を有する。これにより、光センサ１８によってステージ１５の移動中に生じる振動を検出することが可能になり、基板１１の配向膜に対する偏光光の照射状態を適正に管理し、品質が低下した配向膜の製造を抑えることができる。その結果、配向膜の製造工程における歩留りを向上することができる。   The polarized light irradiation apparatus 1 according to the first embodiment includes an optical sensor 18 that detects the position of the stage 15 while the stage 15 is moving, a control unit 19 that issues a warning based on the detection result detected by the optical sensor 18, and a display. A panel 20a. Thereby, it becomes possible to detect the vibration generated during the movement of the stage 15 by the optical sensor 18, appropriately manage the irradiation state of the polarized light to the alignment film of the substrate 11, and manufacture the alignment film with a lowered quality. Can be suppressed. As a result, the yield in the alignment film manufacturing process can be improved.

また、偏光光照射装置１は、光センサ１８が、照射面Ｂに直交するＺ軸回りに対するステージ１５の回転角を検出することで、配向膜の品質への影響が大きい位置ずれ成分に基づいて、配向膜の品質を効果的に管理することが可能になる。   Further, in the polarized light irradiation apparatus 1, the optical sensor 18 detects the rotation angle of the stage 15 with respect to the Z axis orthogonal to the irradiation surface B, so that it is based on a position shift component that greatly affects the quality of the alignment film. The quality of the alignment film can be effectively managed.

以下、第１の実施形態に係る変形例、第２の実施形態及び第２の実施形態に係る変形例の偏光光照射装置について図面を参照して説明する。なお、第１の実施形態の変形例、第２の実施形態及びその変形例において、第１の実施形態と同一の構成部材には、第１の実施形態と同一符号を付して説明を省略する。   Hereinafter, a polarized light irradiation apparatus of a modification according to the first embodiment, a second embodiment, and a modification according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. Note that, in the modified example of the first embodiment, the second embodiment, and the modified example thereof, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment, and description thereof is omitted. To do.

（第１の実施形態に係る変形例１）
図５は、第１の実施形態に係る変形例１の偏光光照射装置を示す側面図である。この変形例１は、光センサ１８の配置が、第１の実施形態と異なる。 (Modification 1 according to the first embodiment)
FIG. 5 is a side view showing the polarized light irradiation apparatus of Modification 1 according to the first embodiment. In the first modification, the arrangement of the optical sensor 18 is different from that of the first embodiment.

図５に示すように、変形例１の偏光光照射装置２が有する複数の光センサ１８は、照射部１２の外側に配置されている。Ｘ軸及びＹ軸回り対するステージ１５の振動を検出する各光センサ１８は、ステージ１５の上方に配置されており、照射ユニット１３の照射面Ｂと同一平面上（Ｘ−Ｙ平面上）に位置するように、照射部１２のフレーム１４の側面に設けられている。また、Ｚ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する各光センサ１８は、ステージ１５の側面が通過する位置に対向して配置されており、照射面Ｂに直交するＹ−Ｚ平面上にＹ軸方向に間隔をあけて、支持体２１を介してフレーム１４の側面に設けられている。   As shown in FIG. 5, the plurality of optical sensors 18 included in the polarized light irradiation device 2 of Modification 1 are arranged outside the irradiation unit 12. Each optical sensor 18 for detecting the vibration of the stage 15 about the X axis and the Y axis is disposed above the stage 15 and is located on the same plane (on the XY plane) as the irradiation surface B of the irradiation unit 13. As shown, the side surface of the frame 14 of the irradiation unit 12 is provided. In addition, each optical sensor 18 that detects the vibration of the stage 15 around the Z axis is disposed so as to face the position where the side surface of the stage 15 passes, and the Y axis is on the YZ plane orthogonal to the irradiation surface B. It is provided on the side surface of the frame 14 via the support 21 with an interval in the direction.

また、ステージ１５の搬送方向に対して間隔をあけて配置された各光センサ１８の検出光は、ステージ１５上の基板１１に照射光が照射される間、ステージ１５上に同時に照射されるように、ステージ１５の外形寸法等が設定されている。なお、各図中に示す光センサ１８の位置に、複数の光センサ１８が配置されてもよく、ステージ１５の大きさにかかわらずにステージ１５の振動を検出することも可能である。あるいは、複数の発光部及び受光部を有する光センサ１８を用いることで、１つの光センサ１８が単独でステージ１５の振動を検出可能に構成されてもよい。   Further, the detection light of each optical sensor 18 arranged at an interval with respect to the conveyance direction of the stage 15 is simultaneously irradiated onto the stage 15 while the irradiation light is irradiated onto the substrate 11 on the stage 15. In addition, the outer dimensions and the like of the stage 15 are set. A plurality of optical sensors 18 may be arranged at the position of the optical sensor 18 shown in each drawing, and the vibration of the stage 15 can be detected regardless of the size of the stage 15. Alternatively, the optical sensor 18 having a plurality of light emitting units and light receiving units may be used so that one optical sensor 18 can detect the vibration of the stage 15 independently.

なお、変形例１においても、Ｘ−Ｙ平面上に配置される複数の光センサ１８は、ステージ１５の下方に配置されてもよい。この場合、光センサ１８は、検出光を上方に向けて出射する向きに配置される。   Also in the first modification, the plurality of optical sensors 18 arranged on the XY plane may be arranged below the stage 15. In this case, the optical sensor 18 is arranged in a direction in which the detection light is emitted upward.

以上のように構成された変形例１においても、第１の実施形態と同様に、複数の光センサ１８によって３軸回りに対するステージ１５の振動を検出することができるので、配向膜の品質を適正に管理し、品質が低下した配向膜の製造を抑えることができる。   Also in the modified example 1 configured as described above, the vibration of the stage 15 about the three axes can be detected by the plurality of optical sensors 18 as in the first embodiment, so that the quality of the alignment film is appropriate. Therefore, it is possible to suppress the production of the alignment film having a deteriorated quality.

加えて、変形例１によれば、照射部１２の内側に各光センサ１８が配置された第１の実施形態と比べて、ステージ１５の搬送方向（Ｙ軸方向）に対する各光センサ１８の間隔を広げることが可能になる。このため、変形例１は、特にＺ軸回りに対するステージ１５の振動の検出精度を高めることが可能になる。   In addition, according to the first modification, compared to the first embodiment in which the respective optical sensors 18 are arranged inside the irradiation unit 12, the distance between the optical sensors 18 with respect to the conveyance direction (Y-axis direction) of the stage 15. Can be expanded. For this reason, the modification 1 can improve the detection accuracy of the vibration of the stage 15 especially around the Z axis.

（第１の実施形態に係る変形例２）
図６は、第１の実施形態に係る変形例２の偏光光照射装置を示す平面図である。図７は、第１の実施形態に係る変形例２の偏光光照射装置を示す側面図である。この変形例２は、光センサ１８の配置が、第１の実施形態及び変形例１と異なる。 (Modification 2 according to the first embodiment)
FIG. 6 is a plan view showing a polarized light irradiation apparatus of Modification 2 according to the first embodiment. FIG. 7 is a side view showing the polarized light irradiation apparatus of Modification 2 according to the first embodiment. The second modification is different from the first embodiment and the first modification in the arrangement of the optical sensors 18.

図６及び図７に示すように、変形例２の偏光光照射装置３は、光センサ１８が設けられた一組のセンサ支持部２３を有する。一組のセンサ支持部２３は、ステージ１５の搬送方向（Ｙ軸方向）において、搬送機構１６における第１の搬送路１７ａ及び第２の搬送路１７ｂに沿う位置に配置されている。言い換えると、変形例２における各光センサ１８は、開始位置Ｐ１と照射部１２との間の第１の搬送路１７ａに沿う位置と、照射部１２と停止位置Ｐ２との間の第２の搬送路１７ｂに沿う位置とにそれぞれ配置されている。   As shown in FIGS. 6 and 7, the polarized light irradiation device 3 of Modification 2 includes a set of sensor support portions 23 provided with the optical sensor 18. The pair of sensor support portions 23 are disposed at positions along the first conveyance path 17a and the second conveyance path 17b in the conveyance mechanism 16 in the conveyance direction (Y-axis direction) of the stage 15. In other words, each optical sensor 18 in the modified example 2 includes a position along the first conveyance path 17a between the start position P1 and the irradiation unit 12, and a second conveyance between the irradiation unit 12 and the stop position P2. It arrange | positions at the position along the path | route 17b, respectively.

一組のセンサ支持部２３は、各光センサ１８を支持するフレーム２３ａを有する。フレーム２３ａは、搬送路１７のガイドレール１６ａに跨って配置されている。フレーム２３ａの上部には、Ｘ及びＹ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する光センサ１８が、第１及び第２の搬送路１７ａ，１７ｂに沿って移動するステージ１５の上方に配置されている。また、フレーム２３ａの側部には、Ｚ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する光センサ１８が、第１及び第２の搬送路１７ａ，１７ｂに沿って移動するステージ１５の側面に対向して配置されている。この光センサ１８は、支持体２１を介してフレーム２３ａの側部に設けられている。   The set of sensor support portions 23 includes a frame 23 a that supports each optical sensor 18. The frame 23 a is disposed across the guide rail 16 a of the conveyance path 17. An optical sensor 18 that detects vibration of the stage 15 about the X and Y axes is disposed above the stage 15 that moves along the first and second transport paths 17a and 17b. . Also, on the side of the frame 23a, an optical sensor 18 that detects the vibration of the stage 15 about the Z axis faces the side surface of the stage 15 that moves along the first and second transport paths 17a and 17b. Has been placed. The optical sensor 18 is provided on the side portion of the frame 23 a via the support 21.

なお、各図では、光センサ１８を簡略的に示すが、例えば、１つの光センサ１８が、複数の発光部及び受光部を有しており、単独でＸ，Ｙ及びＺ軸回りに対するステージ１５の振動を検出可能に構成されている。   In each figure, the optical sensor 18 is simply shown. For example, one optical sensor 18 includes a plurality of light emitting units and light receiving units, and the stage 15 with respect to the X, Y, and Z axes alone. It is configured to be able to detect vibrations.

以上のように構成された変形例２においても、第１の実施形態と同様に、複数の光センサ１８によって３軸回りに対するステージ１５の振動を検出することができるので、配向膜の品質を適正に管理し、品質が低下した配向膜の製造を抑えることができる。   Also in the modified example 2 configured as described above, the vibration of the stage 15 about the three axes can be detected by the plurality of optical sensors 18 as in the first embodiment, so that the quality of the alignment film is appropriate. Therefore, it is possible to suppress the production of the alignment film having a deteriorated quality.

（第１の実施形態に係る変形例３）
図８は、第１の実施形態に係る変形例３の偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。この変形例３は、光センサ１８の検出結果に基づいてステージ１５の位置を補正する点が、第１の実施形態と異なる。 (Modification 3 according to the first embodiment)
FIG. 8 is a side view schematically showing the polarized light irradiation apparatus of the third modification according to the first embodiment. This modification 3 is different from the first embodiment in that the position of the stage 15 is corrected based on the detection result of the optical sensor 18.

図８に示すように、変形例３の偏光光照射装置４は、ステージ１５をＸ、Ｙ及びＺ軸回りに対して移動可能に支持する位置補正機構２５と、各光センサ１８が検出した検出結果に基づいて位置補正機構２５を制御する制御手段としての制御部１９と、を備える。   As shown in FIG. 8, the polarized light irradiation device 4 of Modification 3 includes a position correction mechanism 25 that supports the stage 15 movably around the X, Y, and Z axes, and detection detected by each optical sensor 18. And a control unit 19 as control means for controlling the position correction mechanism 25 based on the result.

変形例３における各光センサ１８は、例えば、上述した第１の実施形態及びその変形例１，２と同様に配置されている。位置補正機構２５は、制御部１９と電気的に接続されている。制御部１９は、各光センサ１８の検出結果に基づいて、位置補正機構２５を制御することで、位置補正機構２５によって、移動中のステージ１５の位置が適正な位置に補正される。制御部１９は、例えば、ステージ１５の移動中に光センサ１８が検出したステージ１５の振動に基づいて、ステージ１５の振幅が所定の範囲内になるように位置補正機構２５を制御する。   Each optical sensor 18 in the modification 3 is arrange | positioned similarly to 1st Embodiment mentioned above and its modifications 1, 2, for example. The position correction mechanism 25 is electrically connected to the control unit 19. The control unit 19 controls the position correction mechanism 25 based on the detection result of each optical sensor 18, so that the position of the moving stage 15 is corrected to an appropriate position by the position correction mechanism 25. For example, the control unit 19 controls the position correction mechanism 25 so that the amplitude of the stage 15 falls within a predetermined range based on the vibration of the stage 15 detected by the optical sensor 18 during the movement of the stage 15.

また、位置補正機構２５がステージ１５の位置を補正するタイミングは、搬送機構１６によって搬送されるステージ１５の移動中に限定されず、他のタイミングで制御が行われてもよい。例えば、ステージ１５上の基板１１への偏光光の照射が終了し、ステージ１５が開始位置Ｐ１に戻った後、先行したステージ１５の移動中に光センサ１８が検出した検出結果に基づいて、待機中のステージ１５の位置を補正するように、制御部１９が位置補正機構２５の制御を行ってもよい。   The timing at which the position correction mechanism 25 corrects the position of the stage 15 is not limited to the movement of the stage 15 transported by the transport mechanism 16, and control may be performed at other timings. For example, after the irradiation of the polarized light to the substrate 11 on the stage 15 is completed and the stage 15 returns to the start position P1, the standby is performed based on the detection result detected by the optical sensor 18 during the movement of the preceding stage 15. The control unit 19 may control the position correction mechanism 25 so as to correct the position of the stage 15 inside.

以上のように構成された変形例３によれば、光センサ１８の検出結果に基づいて、位置補正機構２５によってステージ１５の位置を補正することで、配向膜の品質が低下することを更に抑えることが可能になる。したがって、変形例３においても、第１の実施形態と同様に、配向膜の品質を適正に管理し、品質が低下した配向膜の製造を抑えることができる。   According to Modification 3 configured as described above, the position correction mechanism 25 corrects the position of the stage 15 based on the detection result of the optical sensor 18, thereby further suppressing deterioration in the quality of the alignment film. It becomes possible. Therefore, also in the modified example 3, similarly to the first embodiment, the quality of the alignment film can be appropriately managed, and the manufacture of the alignment film having a deteriorated quality can be suppressed.

第１の実施形態及びその変形例１〜３では、位置検出手段として光センサ１８が用いられたが、例えば、超音波位置センサ等の他の非接触式の位置センサが用いられてもよい。また、位置検出手段は、非接触式の位置センサに限定されるものではなく、例えば、ステージ１５に接触する接触子を有する接触式の変位センサが用いられてもよい。また、光センサ１８としては、上述した反射型センサに限定されるものではなく、透過型センサが用いられてもよい。この場合には、例えば、ステージ１５に設けられた光透過部を透過した検出光を受光することでステージ１５の位置を検出してもよい。   In the first embodiment and the first to third modifications thereof, the optical sensor 18 is used as the position detection unit. However, for example, another non-contact type position sensor such as an ultrasonic position sensor may be used. Further, the position detection means is not limited to the non-contact type position sensor, and for example, a contact type displacement sensor having a contactor that contacts the stage 15 may be used. Further, the optical sensor 18 is not limited to the reflection type sensor described above, and a transmission type sensor may be used. In this case, for example, the position of the stage 15 may be detected by receiving detection light transmitted through a light transmission portion provided on the stage 15.

接触式の変位センサを用いる場合には、例えば、ステージ１５の搬送路に沿った位置に、移動中のステージ１５に接するように複数の変位センサが配置される。また、このような変位センサを用いる場合には、所定のタイミングで変位センサをステージ１５に押し付けることでステージ１５の位置を検出してもよい。   In the case of using a contact-type displacement sensor, for example, a plurality of displacement sensors are arranged at positions along the conveyance path of the stage 15 so as to be in contact with the moving stage 15. When such a displacement sensor is used, the position of the stage 15 may be detected by pressing the displacement sensor against the stage 15 at a predetermined timing.

（第２の実施形態）
図９は、第２の実施形態に係る偏光光照射装置を示す斜視図である。図１０は、第２の実施形態に係る偏光光照射装置を示す平面図である。図１１は、第２の実施形態に係る偏光光照射装置を示す側面図である。第２の実施形態は、光センサ１８がステージ１５側に配置される点が、第１の実施形態及びその変形例と異なる。 (Second Embodiment)
FIG. 9 is a perspective view showing a polarized light irradiation apparatus according to the second embodiment. FIG. 10 is a plan view showing a polarized light irradiation apparatus according to the second embodiment. FIG. 11 is a side view showing a polarized light irradiation apparatus according to the second embodiment. The second embodiment is different from the first embodiment and its modification in that the optical sensor 18 is arranged on the stage 15 side.

図９〜図１１に示すように、第２の実施形態の偏光光照射装置５が有する複数の光センサ１８は、ステージ１５に設けられている。偏光光照射装置５は、位置検出手段として、光センサ１８と、光センサ１８が位置を検出するための基準面２９ａを有する反射板２９と、を有する。光センサ１８は、ステージ１１の移動中に基準面２９ａで反射された検出光を受光することで、ステージ１１の振動を検出する。   As shown in FIGS. 9 to 11, the plurality of optical sensors 18 included in the polarized light irradiation device 5 of the second embodiment are provided on the stage 15. The polarized light irradiation device 5 includes, as position detection means, an optical sensor 18 and a reflecting plate 29 having a reference surface 29a for the optical sensor 18 to detect the position. The optical sensor 18 detects the vibration of the stage 11 by receiving the detection light reflected by the reference surface 29 a during the movement of the stage 11.

図９以降においては、簡略的に３つの光センサ１８のみを図示しており、１つの光センサ１８が単独でステージ１５の振動を検出可能に構成されている。また、３軸の各軸回りに対する振動（振幅）を検出するために、例えば５つの光センサ１８がステージ１５に設けられてもよい。ステージ１５に設けられる光センサ１８の位置や個数は、本実施形態に限定されず、振動を検出する方向や検出精度等に関する必要に応じて適宜設定される。   In FIG. 9 and subsequent figures, only three optical sensors 18 are illustrated in a simplified manner, and one optical sensor 18 is configured to be able to detect the vibration of the stage 15 independently. Further, for example, five optical sensors 18 may be provided on the stage 15 in order to detect vibration (amplitude) around each of the three axes. The position and the number of the optical sensors 18 provided on the stage 15 are not limited to those in the present embodiment, and are appropriately set as necessary regarding the direction in which vibration is detected, the detection accuracy, and the like.

図１０及び図１１に示すように、ステージ１５には、開始位置Ｐ１から照射部１２に向かって進行するときの前方の側面の両側に、Ｘ及びＹ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する各光センサ１８が設けられている。これらの光センサ１８は、検出光をステージ１５の下方に出射する向きに設けられている。また、これらの光センサ１８に対応して、照射部１２の内部には、照射ユニット１３の照射面Ｂと同一面上（Ｘ−Ｙ平面上）に基準面２９ａが位置するように複数の反射板２９が設けられている。   As shown in FIGS. 10 and 11, each stage 15 detects vibrations of the stage 15 about the X and Y axes on both sides of the front side surface when traveling from the start position P1 toward the irradiation unit 12. An optical sensor 18 is provided. These optical sensors 18 are provided in a direction to emit detection light below the stage 15. Corresponding to these optical sensors 18, a plurality of reflections are made in the irradiation unit 12 so that the reference plane 29 a is located on the same plane (on the XY plane) as the irradiation plane B of the irradiation unit 13. A plate 29 is provided.

また、ステージ１５には、搬送方向に平行な側面に、Ｚ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する光センサ１８が設けられている。この光センサ１８は、ステージ１５上の基板１１が照射領域Ａ内を移動する間に照射部１２内の側面に検出光を照射する向きに設けられている。また、この光センサ１８に対応して、照射部１２の内部には、側面上（Ｙ−Ｚ平面上）に基準面２９ａが位置するように反射板２９が設けられている。この反射板２９は、ステージ１５上の基板１１が照射領域Ａ内を移動する間に光センサ１８が通過する位置に基準面２９ａが対向するように配置されている。   The stage 15 is provided with an optical sensor 18 that detects vibration of the stage 15 about the Z axis on a side surface parallel to the transport direction. The optical sensor 18 is provided in such a direction that the side surface in the irradiation unit 12 is irradiated with detection light while the substrate 11 on the stage 15 moves in the irradiation region A. Corresponding to the optical sensor 18, a reflector 29 is provided inside the irradiating unit 12 so that the reference surface 29 a is located on the side surface (on the YZ plane). The reflection plate 29 is arranged so that the reference surface 29a faces a position where the optical sensor 18 passes while the substrate 11 on the stage 15 moves in the irradiation area A.

また、Ｘ及びＹ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する各光センサ１８は、検出光をステージ１５の下方に出射する向きに設けられたが、図１１に示すように、検出光をステージ１５の上方に出射する向きに設けられてもよい。ステージ１５の下方に検出光を出射するように光センサ１８が設けられる場合、ステージ１５の下方に、光センサ１８に対向するように反射板２９が配置される。この反射板２９は、照射部１２の内部の下方に、ガイドレール１６ａに沿って設けられており、光センサ１８に対向する基準面２９ａが、照射面Ｂに平行なＸ−Ｙ平面上に位置するように配置される。   Further, each optical sensor 18 for detecting the vibration of the stage 15 about the X and Y axes is provided in a direction to emit the detection light below the stage 15, but as shown in FIG. It may be provided in the direction of emitting upward. When the optical sensor 18 is provided so as to emit detection light below the stage 15, a reflecting plate 29 is disposed below the stage 15 so as to face the optical sensor 18. The reflecting plate 29 is provided along the guide rail 16 a below the inside of the irradiation unit 12, and a reference surface 29 a facing the optical sensor 18 is positioned on an XY plane parallel to the irradiation surface B. To be arranged.

また、光センサ１８の個数や配置、基準面２９ａの個数、ステージ１５の搬送方向に対する基準面２９ａの寸法は、光センサ１８及び基準面２９ａによって、ステージ１５上の基板１１が照射領域Ａ内を移動する間にわたってステージ１５の振動を検出可能となるように設定されることが望ましい。   Further, the number and arrangement of the optical sensors 18, the number of the reference surfaces 29 a, and the dimensions of the reference surface 29 a with respect to the conveyance direction of the stage 15 are determined so that the substrate 11 on the stage 15 moves within the irradiation area A by the optical sensor 18 and the reference surface 29 a. It is desirable to set so that the vibration of the stage 15 can be detected during the movement.

以上のように構成された第２の実施形態においても、第１の実施形態及びその変形例１〜３と同様に、複数の光センサ１８及び反射板２９によって３軸回りに対するステージ１５の振動を検出することができるので、配向膜の品質を適正に管理し、品質が低下した配向膜の製造を抑えることができる。   Also in the second embodiment configured as described above, the vibration of the stage 15 about the three axes is caused by the plurality of photosensors 18 and the reflection plate 29 as in the first embodiment and the first to third modifications thereof. Since it can be detected, the quality of the alignment film can be properly managed, and the production of the alignment film with a reduced quality can be suppressed.

（第２の実施形態に係る変形例１）
図１２は、第２の実施形態に係る変形例１の偏光光照射装置を示す平面図である。図１３は、第２の実施形態に係る変形例１の偏光光照射装置を示す側面図である。第２の実施形態の変形例１は、光センサ１８が利用する基準面２９ａの配置が、第１の実施形態と異なる。 (Modification 1 according to the second embodiment)
FIG. 12 is a plan view showing a polarized light irradiation apparatus of Modification 1 according to the second embodiment. FIG. 13 is a side view showing a polarized light irradiation apparatus of Modification 1 according to the second embodiment. The first modification of the second embodiment differs from the first embodiment in the arrangement of the reference surface 29a used by the optical sensor 18.

図１２及び図１３に示すように、第２の実施形態の変形例１の偏光光照射装置６は、反射板２９が設けられた一組の反射板支持部３３を有する。一組の反射板支持部３３は、ステージ１５の搬送方向（Ｙ軸方向）において、搬送機構１６における第１の搬送路１７ａ及び第２の搬送路１７ｂに沿う位置に配置されている。言い換えると、この変形例１における各反射板２９の基準面２９ａは、開始位置Ｐ１と照射部１２との間の第１の搬送路１７ａに沿う位置と、照射部１２と停止位置Ｐ２との間の第２の搬送路１７ｂに沿う位置とにそれぞれ配置されている。   As illustrated in FIGS. 12 and 13, the polarized light irradiation device 6 according to the first modification of the second embodiment includes a pair of reflector support portions 33 provided with a reflector 29. The pair of reflecting plate support portions 33 are arranged at positions along the first conveyance path 17 a and the second conveyance path 17 b in the conveyance mechanism 16 in the conveyance direction (Y-axis direction) of the stage 15. In other words, the reference surface 29a of each reflector 29 in the first modification is between the position along the first transport path 17a between the start position P1 and the irradiation unit 12, and between the irradiation unit 12 and the stop position P2. Are disposed at positions along the second transport path 17b.

一組の反射板支持部３３は、各反射板２９を支持するフレーム３３ａを有する。フレーム３３ａは、搬送路１７のガイドレール１６ａに跨って配置されている。フレーム３３ａの上部には、Ｘ及びＹ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する光センサ１８の検出光を、基準面２９ａで反射するように、反射板２９が、第１及び第２の搬送路１７ａ，１７ｂに沿って移動するステージ１５の上方に配置されている。また、フレーム３３ａの側部には、Ｚ軸回りに対するステージ１５の振動を検出する光センサ１８の検出光を、基準面２９ａで反射するように、反射板２９が、第１及び第２の搬送路１７ａ，１７ｂに沿って移動するステージ１５の側面に対向して配置されている。   The pair of reflecting plate support portions 33 includes a frame 33 a that supports each reflecting plate 29. The frame 33 a is disposed across the guide rail 16 a of the transport path 17. On the upper part of the frame 33a, the reflection plate 29 has first and second transport paths so that the detection light of the optical sensor 18 that detects the vibration of the stage 15 about the X and Y axes is reflected by the reference surface 29a. It is disposed above the stage 15 that moves along 17a and 17b. In addition, on the side of the frame 33a, the reflection plate 29 has the first and second transports so that the detection light of the optical sensor 18 that detects the vibration of the stage 15 about the Z axis is reflected by the reference surface 29a. It is arranged to face the side surface of the stage 15 that moves along the paths 17a and 17b.

以上のように構成された第２の実施形態に係る変形例１においても、第１の実施形態等と同様に、光センサ１８及び反射板２９によって３軸回りに対するステージ１５の振動を検出することができるので、配向膜の品質を適正に管理し、品質が低下した配向膜の製造を抑えることができる。   In Modification 1 according to the second embodiment configured as described above, the vibration of the stage 15 about the three axes is detected by the optical sensor 18 and the reflection plate 29 as in the first embodiment. Therefore, it is possible to appropriately manage the quality of the alignment film and to suppress the production of the alignment film having a deteriorated quality.

（第２の実施形態に係る変形例２）
位置検出手段として、上述した光センサ１８及び基準面２９ａを有する反射板２９を用いる代わりに、ステージ１５に、ジャイロセンサが設けられてもよい。図示しないが、１つのジャイロセンサによって、３軸回りに対するステージ１５の各振動を検出することが可能になり、位置検出手段の構成を簡素化することができる。 (Modification 2 according to the second embodiment)
Instead of using the optical sensor 18 and the reflection plate 29 having the reference surface 29a as described above, a gyro sensor may be provided on the stage 15. Although not shown, each gyro sensor can detect each vibration of the stage 15 about three axes, and the configuration of the position detection unit can be simplified.

また、ジャイロセンサを例えば、ステージ１５の内部に組み込むことで、ジャイロセンサが照射ユニット１３の照射領域Ａに晒されることが避けられるので、ジャイロセンサの耐久性や検出動作の信頼性を高めることが可能になる。また、ジャイロセンサが無線通信にて制御部１９に検出信号を送信するように構成されてもよく、ステージ１５の位置を検出するための構成の自由度が高められる。   Further, by incorporating the gyro sensor inside the stage 15, for example, the gyro sensor can be prevented from being exposed to the irradiation area A of the irradiation unit 13, thereby improving the durability of the gyro sensor and the reliability of the detection operation. It becomes possible. Further, the gyro sensor may be configured to transmit a detection signal to the control unit 19 by wireless communication, and the degree of freedom of the configuration for detecting the position of the stage 15 is increased.

以上のように構成された第２の実施形態に係る変形例２においても、第１の実施形態等と同様に、ジャイロセンサによって３軸回りに対するステージ１５の振動を検出することができるので、配向膜の品質を適正に管理し、品質が低下した配向膜の製造を抑えることができる。   Also in the second modified example according to the second embodiment configured as described above, the vibration of the stage 15 about the three axes can be detected by the gyro sensor in the same manner as in the first embodiment. It is possible to appropriately manage the quality of the film and to suppress the production of an alignment film having a deteriorated quality.

また、第２の実施形態及びその変形例１，２においても、光センサ１８及び反射板２９の代わりに、例えば、超音波位置センサ等の他の非接触式の位置センサや、接触式の変位センサが用いられてもよい。   Also in the second embodiment and its modifications 1 and 2, instead of the optical sensor 18 and the reflecting plate 29, for example, other non-contact type position sensors such as an ultrasonic position sensor, or contact type displacements. A sensor may be used.

また、第２の実施形態及びその変形例１，２においても、第１の実施形態に係る変形例３と同様に、位置検出手段としての光センサ１８及び反射板２９やジャイロセンサが検出した検出結果に基づいて、ステージ１５の位置が位置補正機構２５によって補正されるように構成されてもよい。   Also, in the second embodiment and its first and second modifications, similarly to the third modification according to the first embodiment, the detection detected by the optical sensor 18 and the reflecting plate 29 as the position detecting means and the gyro sensor. Based on the result, the position of the stage 15 may be corrected by the position correction mechanism 25.

また、上述した実施形態及び変形例では、搬送機構１６が１つのステージ１５を搬送するように構成されたが、照射ユニット１３の照射領域Ａに対して複数のステージ１５を交互に搬送するように構成されてもよい。この構成の場合においても、位置検出手段によって移動中の各ステージ１５の位置を検出することで、上述した実施形態及び変形例と同様の効果を得ることができる。   In the embodiment and the modification described above, the transport mechanism 16 is configured to transport one stage 15. However, the plurality of stages 15 are alternately transported to the irradiation area A of the irradiation unit 13. It may be configured. Even in the case of this configuration, by detecting the position of each moving stage 15 by the position detecting means, the same effects as those of the above-described embodiment and modification can be obtained.

また、実施形態では、照射ユニット１３が偏光光を鉛直下方に照射するように配置されたが、偏光光の照射方向を限定するものではない。例えば、ステージ１５の搬送方向が水平方向に対して傾斜され、ステージ１５上の基板１１に照射される偏光光の光軸が鉛直方向に傾斜されてもよい。   In the embodiment, the irradiation unit 13 is disposed so as to irradiate the polarized light vertically downward. However, the irradiation direction of the polarized light is not limited. For example, the conveyance direction of the stage 15 may be inclined with respect to the horizontal direction, and the optical axis of the polarized light irradiated on the substrate 11 on the stage 15 may be inclined in the vertical direction.

上述した各実施形態では、１つの照射ユニット１３を備えて構成されたが、この構成に限定するものではない。例えば、複数の照射ユニット１３が所定の間隔をあけて設けられてもよい。この場合、照射領域Ａは、複数の照射ユニット１３の直下のみならず、一端に設けられた照射ユニット１３の最下面の開口の一端から、他端の照射ユニット１３の最下面の開口の他端までの間の領域としてもよい。   In each embodiment mentioned above, although it comprised with the one irradiation unit 13, it is not limited to this structure. For example, a plurality of irradiation units 13 may be provided with a predetermined interval. In this case, the irradiation region A is not only directly under the plurality of irradiation units 13 but also from one end of the lowermost opening of the irradiation unit 13 provided at one end to the other end of the lowermost opening of the other irradiation unit 13. It is good also as an area | region between.

本発明の実施形態を説明したが、実施形態は、例として提示したものであり、本発明の範囲を限定することを意図していない。実施形態は、その他の様々な形態で実施することが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。実施形態やその変形は、本発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。   Although the embodiments of the present invention have been described, the embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the present invention. The embodiment can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. The embodiments and modifications thereof are included in the scope of the present invention and the gist thereof, and are also included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

１ 光配向用偏光光照射装置
１１ 基板
１２ 照射部
１３ 照射ユニット
１５ ステージ
１６ 搬送機構
１７ 搬送路
１７ａ 第１の搬送路
１７ｂ 第２の搬送路
１８ 光センサ
１９ 制御部
２０ 操作部
２０ａ 表示パネル
Ａ 照射領域
Ｂ 照射面
Ｐ１ 開始位置
Ｐ２ 停止位置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polarizing light irradiation apparatus for light orientation 11 Board | substrate 12 Irradiation part 13 Irradiation unit 15 Stage 16 Conveyance mechanism 17 Conveyance path 17a 1st conveyance path 17b 2nd conveyance path 18 Optical sensor 19 Control part 20 Operation part 20a Display panel A irradiation Area B Irradiation surface P1 Start position P2 Stop position

Claims (8)

被照射物に偏光光を照射する照射面が設けられた照射ユニットを有する照射部と；
前記被照射物が搭載されるステージと；
前記ステージ上の前記被照射物が、前記照射面から照射される偏光光の照射領域を前記照射面と平行に通過するように前記ステージを搬送する搬送機構と；
前記搬送機構によって搬送される前記ステージの移動中に、前記ステージまたは前記被照射物の位置を検出する位置検出手段と；
前記位置検出手段が検出した検出結果に基づいて所定の制御を行う制御手段と；を具備し、
前記位置検出手段は、前記照射部に設けられている、光配向用偏光光照射装置。 An irradiation unit having an irradiation unit provided with an irradiation surface for irradiating the irradiated object with polarized light;
A stage on which the irradiated object is mounted;
A transport mechanism that transports the stage so that the irradiated object on the stage passes through an irradiation region of polarized light irradiated from the irradiation surface in parallel with the irradiation surface;
Position detecting means for detecting the position of the stage or the irradiated object during movement of the stage transported by the transport mechanism;
Comprising a; and a control unit performs a predetermined control based on a detection result of said position detecting means detects
The position detection means is a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment provided in the irradiation unit. 前記位置検出手段は、前記照射面に直交する軸回りにおいて、前記ステージの搬送方向に対する前記ステージまたは前記被照射物の回転角を検出する、請求項１に記載の光配向用偏光光照射装置。   2. The polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to claim 1, wherein the position detection unit detects a rotation angle of the stage or the irradiation object with respect to a conveyance direction of the stage around an axis orthogonal to the irradiation surface. 前記位置検出手段は、前記照射領域内、前記照射領域に対して前記ステージの搬送方向における一方側及び他方側の少なくとも１か所に配置されている、請求項１または２に記載の光配向用偏光光照射装置。   3. The photo-alignment device according to claim 1, wherein the position detection unit is arranged in at least one of the irradiation region and at one side and the other side in the transport direction of the stage with respect to the irradiation region. Polarized light irradiation device. 前記位置検出手段は、前記照射面に直交する方向及び前記照射面に平行な方向の少なくとも一方における前記ステージまたは前記被照射物の位置を検出するように配置されている、請求項３に記載の光配向用偏光光照射装置。   The said position detection means is arrange | positioned so that the position of the said stage or the said to-be-irradiated object in at least one of the direction orthogonal to the said irradiation surface and the direction parallel to the said irradiation surface may be detected. Polarized light irradiation device for photo-alignment. 前記搬送機構は、前記ステージが前記照射領域に向けて移動を開始する開始位置と前記照射部との間に設けられた第１の搬送路と、前記照射領域を通過した前記ステージが停止する停止位置と前記照射部との間に設けられた第２の搬送路と、を有し、
前記位置検出手段は、前記第１の搬送路及び前記第２の搬送路の少なくとも一方に沿う位置に設けられている、請求項３または４に記載の光配向用偏光光照射装置。 Before SL transport mechanism includes a first conveying path provided between the starting position and the irradiation portion where the stage starts moving toward the irradiation area, the stage that has passed through the irradiation region is stopped A second conveyance path provided between the stop position and the irradiation unit,
5. The polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to claim 3, wherein the position detection unit is provided at a position along at least one of the first transport path and the second transport path. 被照射物に偏光光を照射する照射面が設けられた照射ユニットを有する照射部と；
前記被照射物が搭載されるステージと；
前記ステージ上の前記被照射物が、前記照射面から照射される偏光光の照射領域を前記照射面と平行に通過するように前記ステージを搬送する搬送機構と；
前記搬送機構によって搬送される前記ステージの移動中に、前記ステージまたは前記被照射物の位置を検出する位置検出手段と；
前記位置検出手段が検出した検出結果に基づいて所定の制御を行う制御手段と；を具備し、
前記位置検出手段は、前記ステージに設けられ、
前記照射部は、前記位置検出手段によって、前記照射面に直交する方向及び前記照射面に平行な方向に対する前記ステージの位置を検出するための基準面を有する、光配向用偏光光照射装置。 An irradiation unit having an irradiation unit provided with an irradiation surface for irradiating the irradiated object with polarized light;
A stage on which the irradiated object is mounted;
A transport mechanism that transports the stage so that the irradiated object on the stage passes through an irradiation region of polarized light irradiated from the irradiation surface in parallel with the irradiation surface;
Position detecting means for detecting the position of the stage or the irradiated object during movement of the stage transported by the transport mechanism;
Control means for performing predetermined control based on a detection result detected by the position detection means,
The position detecting means is provided on the stage,
Before Symbol irradiation unit, by the position detecting means and a reference surface for detecting the position of the stage relative to the direction parallel to the direction and the irradiated surface perpendicular to the irradiation surface, the light orienting polarized light irradiation apparatus. 前記照射ユニットは、偏光光を出射する偏光素子と、前記偏光素子を保持する保持部材と、を有し、
前記保持部材には、前記基準面が設けられている、請求項６に記載の光配向用偏光光照射装置。 The irradiation unit includes a polarizing element that emits polarized light, and a holding member that holds the polarizing element,
Wherein the holding member, the reference surface is provided, the optical orienting polarized light irradiation apparatus according to claim 6. 被照射物に偏光光を照射する照射面が設けられた照射ユニットを有する照射部と；
前記被照射物が搭載されるステージと；
前記ステージ上の前記被照射物が、前記照射面から照射される偏光光の照射領域を前記照射面と平行に通過するように前記ステージを搬送する搬送機構と；
前記搬送機構によって搬送される前記ステージの移動中に、前記ステージまたは前記被照射物の位置を検出する位置検出手段と；
前記位置検出手段が検出した検出結果に基づいて所定の制御を行う制御手段と；を具備し、
前記位置検出手段は、前記ステージに設けられ、前記照射面に直交する方向及び前記照射面に平行な方向の少なくとも一方に対する前記ステージの位置を検出するように配置され、
前記搬送機構は、前記ステージが前記照射領域に向けて移動を開始する開始位置と前記照射部との間に設けられた第１の搬送路と、前記照射領域を通過した前記ステージが停止する停止位置と前記照射部との間に設けられた第２の搬送路と、を有し、
前記第１の搬送路及び前記第２の搬送路の少なくとも一方に沿う位置には、前記位置検出手段によって前記照射面に直交する方向及び前記照射面に平行な方向に対する前記ステージの位置を検出するための基準面が設けられている、光配向用偏光光照射装置。 An irradiation unit having an irradiation unit provided with an irradiation surface for irradiating the irradiated object with polarized light;
A stage on which the irradiated object is mounted;
A transport mechanism that transports the stage so that the irradiated object on the stage passes through an irradiation region of polarized light irradiated from the irradiation surface in parallel with the irradiation surface;
Position detecting means for detecting the position of the stage or the irradiated object during movement of the stage transported by the transport mechanism;
Control means for performing predetermined control based on a detection result detected by the position detection means,
The position detecting means is provided on the stage and is arranged to detect the position of the stage with respect to at least one of a direction orthogonal to the irradiation surface and a direction parallel to the irradiation surface,
Before SL transport mechanism includes a first conveying path provided between the starting position and the irradiation portion where the stage starts moving toward the irradiation area, the stage that has passed through the irradiation region is stopped A second conveyance path provided between the stop position and the irradiation unit,
At a position along at least one of the first transport path and the second transport path, the position detecting unit detects the position of the stage with respect to a direction orthogonal to the irradiation surface and a direction parallel to the irradiation surface. Polarizing light irradiation device for photo- alignment , provided with a reference plane for the purpose.
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CN107272267A (en) * 2017-08-10 2017-10-20 武汉华星光电技术有限公司 Light orientation complementing equipment and light orientation correction adjusting method
JP2019101226A (en) * 2017-12-01 2019-06-24 シャープ株式会社 Polarized light irradiation device, and, method of manufacturing substrate with photosensitive film
CN108761926A (en) * 2018-05-09 2018-11-06 深圳市华星光电技术有限公司 Orientation microcosmic detection equipment and orientation detection method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4451374B2 (en) * 2005-10-17 2010-04-14 住友重機械工業株式会社 Stage equipment
JP4887165B2 (en) 2007-02-02 2012-02-29 富士フイルム株式会社 Drawing apparatus and method
NL1036742A1 (en) * 2008-04-18 2009-10-20 Asml Netherlands Bv Stage system calibration method, stage system and lithographic apparatus including such stage system.
NL2006981A (en) * 2010-07-26 2012-01-30 Asml Netherlands Bv Position control system, lithographic apparatus, and method to control a position of a movable object.
JP2012145786A (en) * 2011-01-13 2012-08-02 Hitachi High-Technologies Corp Exposure device and exposure method
US9366908B2 (en) * 2013-06-03 2016-06-14 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Optical alignment device and the method thereof
JP5862616B2 (en) * 2013-07-17 2016-02-16 ウシオ電機株式会社 Polarizing light irradiation apparatus for photo-alignment and polarized light irradiation method for photo-alignment

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