JP2012145786A - Exposure device and exposure method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶ディスプレイ装置の製造において、高分子化合物から成る配向膜へ直線偏光の露光光を照射して、配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光装置及び露光方法に係り、特に、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する配向膜の露光装置及び露光方法に関する。 In the manufacture of a liquid crystal display device, the present invention relates to an alignment film exposure apparatus and exposure device that irradiates an alignment film made of a polymer compound with linearly polarized exposure light to give the alignment film alignment characteristics that align the liquid crystal alignment direction. In particular, the present invention relates to an alignment film exposure apparatus and exposure method for forming a plurality of different alignment regions in an alignment film on a single substrate.
アクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイ装置は、TFT(Thin Film Transistor)基板とカラーフィルタ基板との間に液晶を封入して製造され、TFT基板及びカラーフィルタ基板の表面には、液晶の配列方向を整えるための配向膜が形成されている。配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する処理は、従来、配向膜の表面を布で擦る「ラビング法」により行われていたが、近年、ポリイミド等の高分子化合物から成る配向膜へ直線偏光の紫外光を照射し、偏光方向の高分子鎖を選択的に反応させて、異方性を発生させる「光配向法」が開発されている。光配向法において、配向膜にプレチルト角を発現させる方法の1つとして、直線偏光の紫外光を配向膜へ斜めに照射する方法がある。 2. Description of the Related Art An active matrix liquid crystal display device is manufactured by enclosing liquid crystal between a TFT (Thin Film Transistor) substrate and a color filter substrate, and arranging the liquid crystal alignment direction on the surface of the TFT substrate and the color filter substrate. An alignment film is formed. The process of imparting alignment characteristics to align the alignment direction of the liquid crystal on the alignment film has been conventionally performed by a “rubbing method” in which the surface of the alignment film is rubbed with a cloth, but recently, an alignment film made of a polymer compound such as polyimide. A “photo-alignment method” has been developed in which anisotropy is generated by irradiating a linearly polarized ultraviolet light to selectively react a polymer chain in the polarization direction. In the photo-alignment method, as one method for causing the alignment film to exhibit a pretilt angle, there is a method of obliquely irradiating the alignment film with linearly polarized ultraviolet light.
特許文献1には、液晶表示装置の視野角拡大、表示品位の向上及びコントラストの向上を図るために、液晶層を挟む一対の基板において、各基板上の配向膜を、プレチルト方向が約180°異なる2つの配向領域に各々分割し、一方の基板上の配向領域の境界と他方の基板上の配向領域の境界とが略直交するように両基板を貼り合わせて、4つの配向状態の領域を形成する技術が開示されている。
In
特許文献1に記載の様に、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成するためには、直線偏光の紫外光を、配向領域毎に異なる方向から斜めに照射する必要がある。そのため、従来は、フォトリソグラフィー技術で用いられる、マスクと基板との間に微小な間隙(プロキシミティギャップ)を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置と同様の構成を用い、露光する配向領域以外の領域を覆うマスクを設けて、露光光照射装置からマスクへ直線偏光の露光光を斜めに照射していた。
As described in
しかしながら、マスクを用いた従来の方式は、露光する基板の種類毎にマスクを交換する必要がある。また、マスクには自重によってたわみが生じるため、マスクと基板との間のギャップが場所によって異なり、露光光をマスクから基板へ斜めに照射すると、露光光が基板へ照射される位置がマスクと基板との間のギャップに応じて変動し、露光精度が低下するという問題がある。 However, in the conventional method using a mask, it is necessary to exchange the mask for each type of substrate to be exposed. Also, since the mask is deflected by its own weight, the gap between the mask and the substrate differs depending on the location. When exposure light is irradiated obliquely from the mask to the substrate, the position where the exposure light is irradiated onto the substrate is the mask and the substrate. There is a problem that the exposure accuracy is lowered due to fluctuations depending on the gap between the two.
本発明の課題は、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を精度良く形成することである。 An object of the present invention is to accurately form a plurality of different alignment regions in an alignment film on one substrate without using a mask.
本発明の配向膜の露光装置は、基板を支持するチャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、移動手段によりチャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光装置であって、チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出する検出手段と、検出手段により検出された基板の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する手段とを備えたものである。 An alignment film exposure apparatus according to the present invention includes a chuck that supports a substrate, a spatial light modulator that modulates a light beam by changing angles of a plurality of mirrors arranged in two directions, and spatial light based on drawing data. A drive circuit that drives the modulator and an irradiation optical system that irradiates the light beam modulated by the spatial light modulator, and obliquely irradiates the linearly polarized light beam from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck. And a moving means for relatively moving the chuck and the light beam irradiating device, and the moving means relatively moves the chuck and the light beam irradiating device so as to be inclined from the light beam irradiating device. An alignment film exposure apparatus that scans a substrate with an irradiated linearly polarized light beam and provides alignment characteristics applied to the alignment film applied to the substrate to align the alignment direction of the liquid crystal. The detection means for detecting the displacement of the height of the surface, and the coordinates of the drawing data supplied to the drive circuit of the light beam irradiation apparatus are corrected according to the displacement of the height of the surface of the substrate detected by the detection means. And means for supplying the drawing data of the coordinates to the drive circuit of the light beam irradiation apparatus.
また、本発明の配向膜の露光方法は、基板をチャックで支持し、チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光方法であって、チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、検出した基板の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給するものである。 The alignment film exposure method of the present invention also includes a spatial light modulator that supports the substrate with a chuck, changes the angle of the chuck and a plurality of mirrors arranged in two directions, and modulates the light beam. And a drive circuit for driving the spatial light modulator based on the light source and an irradiation optical system for irradiating the light beam modulated by the spatial light modulator, and linearly polarized light from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck. The light beam irradiation device that irradiates the beam obliquely moves relatively, scans the substrate with the linearly polarized light beam obliquely emitted from the light beam irradiation device, and the liquid crystal is applied to the alignment film applied to the substrate. An alignment film exposure method that imparts alignment characteristics that aligns the alignment direction of the substrate, wherein the displacement of the height of the surface of the substrate supported by the chuck is detected, and according to the detected displacement of the height of the surface of the substrate, Driving times of light beam irradiation equipment Correcting the coordinate of the drawing data supplied to the drawing data of the corrected coordinates, and supplies to the drive circuit of a light beam irradiation device.
あるいは、本発明の配向膜の露光装置は、基板を支持するチャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、移動手段によりチャックと光ビーム照射装置とを相対的に移動し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光装置であって、チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出する検出手段と、検出手段により検出された基板の表面の高さの変位分だけ、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に基板の表面に垂直な方向へ移動する手段とを備えたものである。 Alternatively, the alignment film exposure apparatus of the present invention includes a chuck that supports a substrate, a spatial light modulator that modulates a light beam by changing the angles of a plurality of mirrors arranged in two directions, and a spatial space based on drawing data. A driving circuit that drives the optical light modulator and an irradiation optical system that irradiates the light beam modulated by the spatial light modulator. The linearly polarized light beam is obliquely applied from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck. A light beam irradiating apparatus for irradiating the chuck and a moving means for relatively moving the chuck and the light beam irradiating apparatus, and the moving means relatively moves the chuck and the light beam irradiating apparatus to move the chuck from the light beam irradiating apparatus. An alignment film exposure apparatus that scans a substrate with a linearly polarized light beam irradiated obliquely and gives alignment characteristics applied to the alignment film applied to the substrate to align the alignment direction of the liquid crystal. Detecting means for detecting the displacement of the height of the surface of the substrate, and the chuck and the light beam irradiation device are relatively perpendicular to the surface of the substrate by the amount of displacement of the height of the surface of the substrate detected by the detecting means. Means for moving in the direction.
また、本発明の配向膜の露光方法は、基板をチャックで支持し、チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光方法であって、チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、検出した基板の表面の高さの変位分だけ、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に基板の表面に垂直な方向へ移動するものである。 The alignment film exposure method of the present invention also includes a spatial light modulator that supports the substrate with a chuck, changes the angle of the chuck and a plurality of mirrors arranged in two directions, and modulates the light beam. And a drive circuit for driving the spatial light modulator based on the light source and an irradiation optical system for irradiating the light beam modulated by the spatial light modulator, and linearly polarized light from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck. The light beam irradiation device that irradiates the beam obliquely moves relatively, scans the substrate with the linearly polarized light beam obliquely emitted from the light beam irradiation device, and the liquid crystal is applied to the alignment film applied to the substrate. An alignment film exposure method that imparts alignment characteristics for adjusting the alignment direction of the substrate, wherein the displacement of the height of the surface of the substrate supported by the chuck is detected, and the amount of displacement of the detected surface height of the substrate is detected by the chuck. And light beam irradiation device It is intended to move in the direction perpendicular relative the surface of the substrate.
光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与するので、光ビーム照射装置の空間的光変調器を駆動する駆動回路へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。このとき、光ビーム照射装置から基板へ光ビームを斜めに照射するため、チャックの表面の高さのばらつきや基板の厚さのばらつきにより、チャックに支持された基板の表面の高さが場所によって異なると、そのままでは、光ビームが基板へ照射される位置が変動する。本発明では、チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、検出した基板の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給し、あるいは、検出した基板の表面の高さの変位分だけ、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に基板の表面に垂直な方向へ移動するので、チャックに支持された基板の表面の高さが場所により異なっても、光ビームが基板へ照射される位置が変動せず、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域が精度良く形成される。 The substrate is scanned with a linearly polarized light beam emitted obliquely from the light beam irradiation device, and the alignment characteristic applied to the alignment film applied to the substrate is imparted with alignment characteristics that align the liquid crystal alignment direction. The drawing data supplied to the driving circuit for driving the optical modulator can be changed to expose a desired position and an oriented region having a desired shape. At this time, since the light beam is irradiated obliquely onto the substrate from the light beam irradiation device, the height of the surface of the substrate supported by the chuck varies depending on the location due to variations in the height of the chuck surface and the substrate thickness. If they are different, the position where the light beam is irradiated onto the substrate changes as it is. In the present invention, the displacement of the height of the surface of the substrate supported by the chuck is detected, and the coordinates of the drawing data supplied to the drive circuit of the light beam irradiation apparatus are determined in accordance with the detected displacement of the height of the surface of the substrate. The corrected drawing data of the coordinate is supplied to the drive circuit of the light beam irradiation device, or the chuck and the light beam irradiation device are relatively moved relative to the substrate by the detected displacement of the surface height of the substrate. Since the substrate moves in a direction perpendicular to the surface, the position where the light beam is applied to the substrate does not change even if the height of the surface of the substrate supported by the chuck varies depending on the location. A plurality of different alignment regions are formed with high accuracy.
さらに、本発明の配向膜の露光装置は、検出手段が、検出光をチャックに支持された基板へ斜めに照射する投光部と、検出光が基板の表面で反射された反射光を受光する受光部とを有し、受光部で受光した反射光の位置の変化から、基板の表面の高さの変位を検出するものである。また、本発明の配向膜の露光方法は、検出光をチャックに支持された基板へ斜めに照射し、検出光が基板の表面で反射された反射光を受光し、受光した反射光の位置の変化から、基板の表面の高さの変位を検出するものである。光学的手法を用いて基板の表面の高さの変位が精度良く検出され、配向領域がさらに精度良く形成される。 Further, in the alignment film exposure apparatus of the present invention, the detection means receives a light projecting unit that irradiates the detection light obliquely to the substrate supported by the chuck, and the reflected light that is reflected by the surface of the substrate. And detecting the displacement of the height of the surface of the substrate from the change in the position of the reflected light received by the light receiving portion. Further, the alignment film exposure method of the present invention irradiates the detection light obliquely onto the substrate supported by the chuck, receives the reflected light reflected by the surface of the substrate, and detects the position of the received reflected light. The displacement of the height of the surface of the substrate is detected from the change. The displacement of the height of the surface of the substrate is detected with high accuracy using an optical method, and the alignment region is formed with higher accuracy.
本発明によれば、光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与することにより、光ビーム照射装置の空間的光変調器を駆動する駆動回路へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。従って、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することができる。 According to the present invention, by scanning the substrate with a linearly polarized light beam obliquely irradiated from the light beam irradiation device, and imparting the alignment characteristics to align the alignment direction of the liquid crystal to the alignment film applied to the substrate, The drawing data supplied to the driving circuit that drives the spatial light modulator of the light beam irradiation apparatus can be changed to expose the alignment region having a desired position and a desired shape. Therefore, a plurality of different alignment regions can be formed in the alignment film on one substrate without using a mask.
そして、チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、検出した基板の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給し、あるいは、検出した基板の表面の高さの変位分だけ、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に基板の表面に垂直な方向へ移動することにより、チャックに支持された基板の表面の高さが場所により異なっても、光ビームが基板へ照射される位置が変動するのを防止して、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を精度良く形成することができる。 Then, the displacement of the height of the surface of the substrate supported by the chuck is detected, and the coordinates of the drawing data supplied to the drive circuit of the light beam irradiation apparatus are corrected according to the detected displacement of the height of the surface of the substrate. Then, the corrected coordinate drawing data is supplied to the drive circuit of the light beam irradiation device, or the chuck and the light beam irradiation device are relatively placed on the substrate surface by the detected displacement of the substrate surface height. By moving in the vertical direction, even if the height of the surface of the substrate supported by the chuck varies from place to place, the position where the light beam is irradiated onto the substrate is prevented from fluctuating. A plurality of different alignment regions can be accurately formed in the alignment film.
さらに、本発明によれば、検出光をチャックに支持された基板へ斜めに照射し、検出光が基板の表面で反射された反射光を受光し、受光した反射光の位置の変化から、基板の表面の高さの変位を検出することにより、光学的手法を用いて基板の表面の高さの変位を精度良く検出して、配向領域をさらに精度良く形成することができる。 Furthermore, according to the present invention, the detection light is obliquely applied to the substrate supported by the chuck, the reflected light reflected by the surface of the substrate is received, and the change in the position of the received reflected light is detected. By detecting the displacement of the surface height of the substrate, it is possible to accurately detect the displacement of the height of the surface of the substrate using an optical method and form the alignment region with higher accuracy.
図1は、本発明の一実施の形態による配向膜の露光装置の概略構成を示す図である。また、図2は本発明の一実施の形態による配向膜の露光装置の側面図、図3は本発明の一実施の形態による配向膜の露光装置の正面図である。露光装置は、ベース3、Xガイド4、Xステージ5、Yガイド6、Yステージ7、θステージ8、チャック10、ゲート11、光ビーム照射装置20、リニアスケール31,33、エンコーダ32,34、レーザー測長系、レーザー測長系制御装置40、ステージ駆動回路60、及び主制御装置70を含んで構成されている。なお、図2及び図3では、レーザー測長系のレーザー光源41、レーザー測長系制御装置40、ステージ駆動回路60、及び主制御装置70が省略されている。露光装置は、これらの他に、基板1をチャック10へ搬入し、また基板1をチャック10から搬出する基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an alignment film exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a side view of an alignment film exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a front view of the alignment film exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. The exposure apparatus includes a
なお、以下に説明する実施の形態におけるXY方向は例示であって、X方向とY方向とを入れ替えてもよい。 Note that the XY directions in the embodiments described below are examples, and the X direction and the Y direction may be interchanged.
図1及び図2において、チャック10は、基板1の受け渡しを行う受け渡し位置にある。受け渡し位置において、図示しない基板搬送ロボットにより基板1がチャック10へ搬入され、また図示しない基板搬送ロボットにより基板1がチャック10から搬出される。チャック10は、基板1の裏面を真空吸着して支持する。基板1の表面には、ポリイミド等の高分子化合物から成る配向膜が塗布されている。
1 and 2, the
基板1の露光を行う露光位置の上空に、ベース3をまたいでゲート11が設けられている。ゲート11には、複数の光ビーム照射装置20が搭載されている。なお、本実施の形態は、8つの光ビーム照射装置20を用いた露光装置の例を示しているが、光ビーム照射装置の数はこれに限らず、本発明は1つ又は2つ以上の光ビーム照射装置を用いた露光装置に適用される。
A
図4は、光ビーム照射装置の概略構成を示す図である。光ビーム照射装置20は、光ファイバー22、レンズ23、ミラー24、DMD(Digital Micromirror Device)25、投影レンズ26a,26b、DMD駆動回路27、偏光子28、調節装置50、及びレーザー変位計を含んで構成されている。光ファイバー22は、レーザー光源ユニット21から発生された紫外光の光ビームを、光ビーム照射装置20内へ導入する。光ファイバー22から射出された光ビームは、レンズ23を透過した後、偏光子28を透過して直線偏光となり、ミラー24で反射されてDMD25へ照射される。DMD25は、光ビームを反射する複数の微小なミラーを直交する二方向に配列して構成された空間的光変調器であり、各ミラーの角度を変更して光ビームを変調する。DMD25により変調された光ビームは、投影レンズ26a,26bを含むヘッド部20aから照射される。DMD駆動回路27は、主制御装置70から供給された描画データに基づいて、DMD25の各ミラーの角度を変更する。
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of the light beam irradiation apparatus. The light
なお、偏光子28は、レンズ23とミラー24の間に限らず、光ビーム照射装置20内で光ビームの光路中の任意の位置に設置することができる。
The
図2及び図3において、チャック10は、θステージ8に搭載されており、θステージ8の下にはYステージ7及びXステージ5が設けられている。Xステージ5は、ベース3に設けられたXガイド4に搭載され、Xガイド4に沿ってX方向へ移動する。Yステージ7は、Xステージ5に設けられたYガイド6に搭載され、Yガイド6に沿ってY方向へ移動する。θステージ8は、Yステージ7に搭載され、θ方向へ回転する。Xステージ5、Yステージ7、及びθステージ8には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図1のステージ駆動回路60により駆動される。
2 and 3, the
θステージ8のθ方向への回転により、チャック10に搭載された基板1は、直交する二辺がX方向及びY方向へ向く様に回転される。Xステージ5のX方向への移動により、チャック10は、受け渡し位置と露光位置との間を移動される。露光位置において、Xステージ5のX方向への移動により、各光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射された光ビームが、基板1をX方向へ走査する。また、Yステージ7のY方向への移動により、各光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射された光ビームによる基板1の走査領域が、Y方向へ移動される。図1において、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、θステージ8のθ方向へ回転、Xステージ5のX方向への移動、及びYステージ7のY方向への移動を行う。
By rotation of the θ stage 8 in the θ direction, the
図5は、DMDのミラー部の一例を示す図である。光ビーム照射装置20のDMD25は、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査方向(X方向)に対して、所定の角度θだけ傾いて配置されている。DMD25を、走査方向に対して傾けて配置すると、直交する二方向に配列された複数のミラー25aのいずれかが、隣接するミラー25a間の隙間に対応する箇所をカバーするので、配向膜の露光を隙間無く行うことができる。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a DMD mirror unit. The
なお、本実施の形態では、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動することによって、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査を行っているが、光ビーム照射装置20を移動することにより、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査を行ってもよい。また、本実施の形態では、Yステージ7によりチャック10をY方向へ移動することによって、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査領域を変更しているが、光ビーム照射装置20を移動することにより、光ビーム照射装置20からの光ビームによる基板1の走査領域を変更してもよい。
In the present embodiment, the
例えば、チャック10を固定し、各光ビーム照射装置20を搭載したゲート11をXY方向へ移動するステージを設け、各光ビーム照射装置20をXY方向へ移動する構成としてもよい。その場合、ゲート11の位置を3軸で検出するレーザー測長系を設け、後述する主制御装置70の描画制御部71は、レーザー測長系の検出結果に基づき、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データのXY座標を決定する。
For example, the
図1及び図2において、ベース3には、X方向へ伸びるリニアスケール31が設置されている。リニアスケール31には、Xステージ5のX方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。また、Xステージ5には、Y方向へ伸びるリニアスケール33が設置されている。リニアスケール33には、Yステージ7のY方向への移動量を検出するための目盛が付けられている。
1 and 2, the
図1及び図3において、Xステージ5の一側面には、リニアスケール31に対向して、エンコーダ32が取り付けられている。エンコーダ32は、リニアスケール31の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置70へ出力する。また、図1及び図2において、Yステージ7の一側面には、リニアスケール33に対向して、エンコーダ34が取り付けられている。エンコーダ34は、リニアスケール33の目盛を検出して、パルス信号を主制御装置70へ出力する。主制御装置70は、エンコーダ32のパルス信号をカウントして、Xステージ5のX方向への移動量を検出し、エンコーダ34のパルス信号をカウントして、Yステージ7のY方向への移動量を検出する。
1 and 3, an
図6は、レーザー測長系の動作を説明する図である。なお、図6においては、図1に示したゲート11、及び光ビーム照射装置20が省略されている。レーザー測長系は、公知のレーザー干渉式の測長系であって、レーザー光源41、レーザー干渉計42,44、及びバーミラー43,45を含んで構成されている。バーミラー43は、チャック10のY方向へ伸びる一側面に取り付けられている。また、バーミラー45は、チャック10のX方向へ伸びる一側面に取り付けられている。
FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the laser length measurement system. In FIG. 6, the
レーザー干渉計42は、レーザー光源41からのレーザー光をバーミラー43へ照射し、バーミラー43により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源41からのレーザー光とバーミラー43により反射されたレーザー光との干渉を測定する。この測定は、Y方向の2箇所で行う。レーザー測長系制御装置40は、主制御装置70の制御により、レーザー干渉計42の測定結果から、チャック10のX方向の位置及び回転を検出する。
The
一方、レーザー干渉計44は、レーザー光源41からのレーザー光をバーミラー45へ照射し、バーミラー45により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光源41からのレーザー光とバーミラー45により反射されたレーザー光との干渉を測定する。レーザー測長系制御装置40は、主制御装置70の制御により、レーザー干渉計44の測定結果から、チャック10のY方向の位置を検出する。
On the other hand, the
以下、本発明の一実施の形態による配向膜の露光方法について説明する。図4において、光ビーム照射装置20の調節装置50は、支持台51及びリニアモータを含んで構成されている。支持台51は、ミラー24を支持して回転する回転機構51aを有し、回転機構51aを回転してミラー24の角度を変更する。リニアモータは、コイルを内蔵した可動子52aと、磁石を内蔵した固定子52bとから成る。可動子52aのコイルに電流を流すと、コイルの電流と固定子52bの磁石の磁界とから、フレミングの左手の法則によって、可動子52aに推力(ローレンツ力)が働き、可動子52aが固定子52bに沿って移動する。可動子52aには、支持台51が搭載されている。なお、調節装置50には、リニアモータに限らず、ボールねじ及びモータ等の他の移動機構を用いてもよい。
Hereinafter, an alignment film exposure method according to an embodiment of the present invention will be described. In FIG. 4, the adjusting
調節装置50は、主制御装置70の制御により、支持台51の回転機構51aを回転して、ミラー24の角度を変更すると共に、リニアモータの可動子52aを移動して、ミラー24の位置を変更し、ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度を調節する。ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度が変わると、DMD25の各ミラー25aにより反射される光ビームの反射角度が変化する。図4は、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームの中心軸が、投影レンズ26a,26bの光軸と平行な状態を示している。このとき、投影レンズ26a,26bを透過した光ビームの中心軸は、チャック10に支持された基板1の表面に対して、垂直となる。
Under the control of the
図7及び図8は、本発明の一実施の形態による配向膜の露光方法を説明する図である。図7は、調節装置50が、支持台51の回転機構51aを矢印で示す様に反時計回りへ回転し、支持台51を矢印で示す様に図面右方向へ移動して、ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度を大きくした例を示している。このとき、図7に示す様に、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームは、右斜め上方から、投影レンズ26aへその光軸に対して斜めに入射する。そして、投影レンズ26bを通過した光ビームは、チャック10に支持された基板1に対して、左斜め上方から照射される。
7 and 8 are views for explaining an alignment film exposure method according to an embodiment of the present invention. In FIG. 7, the adjusting
露光装置は、チャック10と光ビーム照射装置20とを相対的に移動し、光ビーム照射装置20から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を矢印で示す走査方向へ走査する。このとき、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、プレチルト方向が露光光の進行方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面右側となる配向特性が付与される。また、プレチルト方向が露光光の進行方向と逆方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面左側となる配向特性が付与される。
The exposure apparatus relatively moves the
図8は、調節装置50が、支持台51の回転機構51aを矢印で示す様に時計回りへ回転し、支持台51を矢印で示す様に図面左方向へ移動して、ミラー24からDMD25へ照射される光ビームの入射角度を小さくした例を示している。このとき、図8に示す様に、DMD25の各ミラー25aにより反射された光ビームは、左斜め上方から、投影レンズ26aへその光軸に対して斜めに入射する。そして、投影レンズ26bを通過した光ビームは、チャック10に支持された基板1に対して、右斜め上方から照射される。
In FIG. 8, the adjusting
露光装置は、チャック10と光ビーム照射装置20とを相対的に移動し、光ビーム照射装置20から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を矢印で示す走査方向へ走査する。このとき、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、プレチルト方向が露光光の進行方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面左側となる配向特性が付与される。また、プレチルト方向が露光光の進行方向と逆方向に沿う場合、基板1の配向膜には、プレチルト方向が図面右側となる配向特性が付与される。
The exposure apparatus relatively moves the
なお、光ビームを基板1へ照射する方向と、光ビームによる基板1の走査方向の組合せは、図7及び図8に示した例に限らず、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、適宜決定される。
The combination of the direction in which the light beam is applied to the
光ビーム照射装置20から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を走査して、基板1に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与するので、光ビーム照射装置20のDMD25を駆動するDMD駆動回路27へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。従って、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することができる。
Since the
そして、調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更することができる。従って、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、各配向領域を露光する度に基板をチャックから取り外して基板の向きを回転させる必要が無いので、タクトタイムが短縮されて、スループットが向上する。
Then, by adjusting the incident angle of the light beam supplied to the
また、調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの入射角度を変更し、配向膜に付与する配向特性のプレチルト角を制御することができる。
In addition, the adjusting
さらに、光ビーム照射装置20の調節装置50によりDMD25へ供給される光ビームの入射角度を調節して、チャック10に支持された基板1へ照射される光ビームの方向を変え、かつ、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、配向膜に付与する配向特性のプレチルト方向を変更するので、露光光のパターンや基板1に塗布された配向膜の性質等に応じて、光ビームによる基板1の走査方向が配向膜に付与される配向特性のプレチルト方向に影響する場合、光ビームの方向の変更と、チャック10と光ビーム照射装置20との相対的な移動方向の変更とを組み合わせて、所望のプレチルト方向を得ることができる。
Further, by adjusting the incident angle of the light beam supplied to the
本発明では、光ビーム照射装置20から基板1へ光ビームを斜めに照射するため、チャック10の表面の高さのばらつきや基板1の厚さのばらつきにより、チャック10に支持された基板1の表面の高さが場所によって異なると、そのままでは、光ビームが基板1へ照射される位置が変動する。図9は、基板の表面の高さの変位による光ビームの照射位置の変動を説明する図である。基板1の表面の高さが実線1aである場合と、基板1の表面の高さが破線1bである場合とで、基板1の表面の高さの変位をΔZとする。光ビームの基板1の表面への入射角がαであるとき、基板1の表面の高さが実線1aである場合と、基板1の表面の高さが破線1bである場合とで、光ビームが基板1の表面へ照射される位置の変動ΔPは、
ΔP=ΔZ・tanα (式1)
となる。
In the present invention, since the light beam is radiated obliquely from the light
ΔP = ΔZ · tan α (Formula 1)
It becomes.
図4において、レーザー変位計は、投光部81と受光部82とから成る。投光部81は、レーザー光源81aとレンズ81bとを含んで構成され、レーザー光源81aから発生した検出光を、レンズ81bからチャック10に支持された基板1へ斜めに照射する。受光部82は、レンズ82aとCCDラインセンサー82bとを含んで構成され、検出光が基板1の表面で反射された反射光を、レンズ82aにより集光して、CCDラインセンサー82bで受光する。
In FIG. 4, the laser displacement meter includes a
図9において、検出光の基板1の表面への入射角がβであるとき、基板1の表面の高さが実線1aである場合と、基板1の表面の高さが破線1bである場合とで、CCDラインセンサー82bにより受光される反射光の受光位置の変化Δεは、
Δε=M・(ΔZ/cosβ) (Mは、レンズ82aの倍率)
となる。従って、基板1の表面の高さの変位ΔZは、
ΔZ=(1/M)・Δε・cosβ
となり、レーザー変位計の受光部82は、CCDラインセンサー82bで受光した反射光の位置の変化から、基板1の表面の高さの変位を検出する。
In FIG. 9, when the incident angle of the detection light to the surface of the
Δε = M · (ΔZ / cos β) (M is the magnification of the
It becomes. Accordingly, the displacement ΔZ of the height of the surface of the
ΔZ = (1 / M) · Δε · cosβ
Thus, the
図4において、主制御装置70は、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ描画データを供給する描画制御部を有する。図10は、描画制御部の概略構成を示す図である。描画制御部71は、メモリ72、バンド幅設定部73、中心点座標決定部74、及び座標決定部75を含んで構成されている。なお、図10では、1つの光ビーム照射装置20のレーザー変位計の受光部82のみが示され、他の7つの光ビーム照射装置20のレーザー変位計の受光部82が省略されている。メモリ72は、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データを、そのXY座標をアドレスとして記憶している。
In FIG. 4, the
バンド幅設定部73は、メモリ72から読み出す描画データのY座標の範囲を決定することにより、光ビーム照射装置20のヘッド部20aから照射される光ビームのY方向のバンド幅を設定する。
The
レーザー測長系制御装置40は、露光位置における基板1の露光を開始する前のチャック10のXY方向の位置を検出する。中心点座標決定部74は、レーザー測長系制御装置40が検出したチャック10のXY方向の位置から、基板1の露光を開始する前のチャック10の中心点のXY座標を決定する。図1において、光ビーム照射装置20からの光ビームにより基板1の走査を行う際、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、Xステージ5によりチャック10をX方向へ移動させる。基板1の走査領域を移動する際、主制御装置70は、ステージ駆動回路60を制御して、Yステージ7によりチャック10をY方向へ移動させる。図10において、中心点座標決定部74は、エンコーダ32,34からのパルス信号をカウントして、Xステージ5のX方向への移動量及びYステージ7のY方向への移動量を検出し、チャック10の中心点のXY座標を決定する。
The laser length measurement
座標決定部75は、中心点座標決定部74が決定したチャック10の中心点のXY座標に基づき、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データのXY座標を決定する。そして、座標決定部75は、レーザー変位計の受光部82が検出した基板1の表面の高さの変位に応じて、決定したXY座標を、上述の「式1」を用いて算出したΔP分だけ補正する。メモリ72は、座標決定部75が補正したXY座標をアドレスとして入力し、入力したXY座標のアドレスに記憶された描画データを、各光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ出力する。
The coordinate
なお、レーザー変位計の投光部81及び受光部82は、光ビーム照射装置20から照射される光ビームが傾斜するX方向に配置し、算出したΔPを、この配置に応じて、チャック10のXY座標に変換して、描画データのXY座標の補正を行う。
Note that the
チャック10に支持された基板1の表面の高さの変位を検出し、検出した基板1の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給するので、チャック10に支持された基板1の表面の高さが場所により異なっても、光ビームが基板1へ照射される位置が変動せず、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域が精度良く形成される。
The displacement of the height of the surface of the
また、検出光をチャック10に支持された基板1へ斜めに照射し、検出光が基板1の表面で反射された反射光を受光し、受光した反射光の位置の変化から、基板1の表面の高さの変位を検出するので、光学的手法を用いて基板1の表面の高さの変位が精度良く検出され、配向領域がさらに精度良く形成される。
Further, the
また、レーザー変位計の投光部81及び受光部82を、各光ビーム照射装置20に設置し、描画データの座標の補正を光ビーム照射装置20毎に行うので、基板の表面が複雑に起伏する場合に対応することができる。
Further, since the
図11は、本発明の他の実施の形態による配向膜の露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、θステージ8とチャック10との間に昇降機構9を設け、チャック10の底面にガイドブロック10aを取り付け、昇降機構9を駆動する昇降機構駆動回路61を備えたものである。その他の構成要素は、図1に示した実施の形態と同様である。
FIG. 11 is a view showing a schematic configuration of an alignment film exposure apparatus according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, an elevating mechanism 9 is provided between the θ stage 8 and the
昇降機構9は、Zガイド9aと直動モータ9bとを含んで構成されている。Zガイド9aは、チャック10の底面に設けたガイドブロック10aを上下(Z方向)に案内する。直動モータ9bは、昇降機構駆動回路61により駆動され、ロッド9cがチャック10の底面に接触しながら昇降して、チャック10を上下(Z方向)に移動する。主制御装置70は、レーザー変位計の受光部82が検出した基板1の表面の高さの変位に応じて、昇降機構駆動回路61を制御し、基板1の表面の高さの変位分だけチャック10を上下(Z方向)に移動させて、光ビーム照射装置20からチャック10に支持された基板1の表面までの距離を一定に保つ。
The elevating mechanism 9 includes a
なお、本実施の形態では、チャック10をZ方向へ移動することにより、各光ビーム照射装置20からチャック10に支持された基板1の表面までの距離を一定に保っているが、ゲート11に昇降機構を設けて、各光ビーム照射装置20をZ方向へ移動することにより、各光ビーム照射装置20からチャック10に支持された基板1の表面までの距離を一定に保ってもよい。
In this embodiment, the distance from each light
チャック10に支持された基板1の表面の高さの変位を検出し、検出した基板1の表面の高さの変位分だけ、チャック10と光ビーム照射装置20とを相対的に基板1の表面に垂直な方向へ移動するので、チャック10に支持された基板1の表面の高さが場所により異なっても、光ビームが基板1へ照射される位置が変動せず、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域が精度良く形成される。
The displacement of the surface height of the
なお、以上説明した実施の形態では、レーザー変位計の投光部81及び受光部82を、各光ビーム照射装置20に設置していたが、レーザー変位計の投光部81及び受光部82を、ゲート11の下方の1箇所又は複数箇所に設置して、基板上の代表点1箇所又は任意の複数箇所で基板の表面の高さの変位を検出する構成としてもよい。その場合、チャック10のX方向への移動に従い、検出した基板1の表面の高さの変位を、各光ビーム照射装置20に対する平均変位に置き換えて、各光ビーム照射装置20へ供給する描画データのXY座標の補正、またはチャック10のZ方向への移動を行う。また、基板1の表面の高さの変位の検出は、露光時にリアルタイムで行ってもよく、予め露光前に行ってもよい。
In the embodiment described above, the
また、以上説明した実施の形態では、基板の配向膜にプレチルト方向が180度異なる2種類の配向領域群を形成していたが、プレチルト方向がほぼ90度ずつ異なる4種類の配向領域群を形成する場合には、図7及び図8に示す様にして光ビームによる基板の走査を行った後、基板をほぼ90度回転させてから、再び、図7及び図8に示す様にして光ビームによる基板の走査を行えばよい。 In the embodiment described above, two types of alignment region groups having different pretilt directions by 180 degrees are formed in the alignment film of the substrate. However, four types of alignment region groups having different pretilt directions by approximately 90 degrees are formed. In this case, after the substrate is scanned with the light beam as shown in FIGS. 7 and 8, the substrate is rotated by approximately 90 degrees, and then again as shown in FIGS. The substrate may be scanned by
また、以上説明した実施の形態では、プレチルト方向が基板の長辺又は短辺に平行であったが、表示用パネルの特性として、プレチルト方向を基板の長辺又は短辺に対して斜めにする必要がある場合は、基板をXY方向に対して回転させた状態で光ビームによる基板の走査を行うことにより、所望のプレチルト方向を得ることができる。 In the embodiment described above, the pretilt direction is parallel to the long side or short side of the substrate. However, as a characteristic of the display panel, the pretilt direction is inclined with respect to the long side or short side of the substrate. If necessary, a desired pretilt direction can be obtained by scanning the substrate with a light beam while rotating the substrate with respect to the XY directions.
以上説明した実施の形態によれば、光ビーム照射装置20から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板1を走査して、基板1に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与することにより、光ビーム照射装置20のDMD25を駆動するDMD駆動回路27へ供給する描画データを変更して、所望の位置及び所望の形状の配向領域を露光することができる。従って、マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成することができる。
According to the embodiment described above, the alignment is performed by adjusting the alignment direction of the liquid crystal on the alignment film applied to the
そして、チャック10に支持された基板1の表面の高さの変位を検出し、検出した基板1の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置20のDMD駆動回路27へ供給し、あるいは、検出した基板1の表面の高さの変位分だけ、チャック10と光ビーム照射装置20とを相対的に基板1の表面に垂直な方向へ移動することにより、チャック10に支持された基板1の表面の高さが場所により異なっても、光ビームが基板1へ照射される位置が変動するのを防止して、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を精度良く形成することができる。
Then, the displacement of the height of the surface of the
さらに、検出光をチャック10に支持された基板1へ斜めに照射し、検出光が基板1の表面で反射された反射光を受光し、受光した反射光の位置の変化から、基板1の表面の高さの変位を検出することにより、光学的手法を用いて基板1の表面の高さの変位を精度良く検出して、配向領域をさらに精度良く形成することができる。
Further, the detection light is obliquely irradiated onto the
1 基板
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
9 昇降機構
9a Zガイド
9b 直動モータ
9c ロッド
10 チャック
10a ガイドブロック
11 ゲート
20 光ビーム照射装置
20a ヘッド部
21 レーザー光源ユニット
22 光ファイバー
23 レンズ
24 ミラー
25 DMD(Digital Micromirror Device)
26a,26b 投影レンズ
27 DMD駆動回路
28 偏光子
31,33 リニアスケール
32,34 エンコーダ
40 レーザー測長系制御装置
41 レーザー光源
42,44 レーザー干渉計
43,45 バーミラー
50 調節装置
51 支持台
51a 回転機構
52a 可動子
52b 固定子
60 ステージ駆動回路
61 昇降機構駆動回路
70 主制御装置
71 描画制御部
72 メモリ
73 バンド幅設定部
74 中心点座標決定部
75 座標決定部
81 投光部
81a レーザー光源
81b レンズ
82 受光部
82a レンズ
82b CCDラインセンサー
DESCRIPTION OF
26a,
Claims (8)
二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系から前記チャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、
前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、
前記移動手段により前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動し、前記光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光装置であって、
前記チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された基板の表面の高さの変位に応じて、前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、前記光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する手段とを備えたことを特徴とする配向膜の露光装置。 A chuck for supporting the substrate;
It is modulated by a spatial light modulator that modulates the light beam by changing the angle of a plurality of mirrors arranged in two directions, a drive circuit that drives the spatial light modulator based on drawing data, and a spatial light modulator. A light beam irradiation device that irradiates a linearly polarized light beam obliquely from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck;
A moving means for relatively moving the chuck and the light beam irradiation device;
An alignment film applied to the substrate by relatively moving the chuck and the light beam irradiation device by the moving means, scanning the substrate with a linearly polarized light beam obliquely irradiated from the light beam irradiation device. An alignment film exposure apparatus that imparts alignment characteristics to align the alignment direction of the liquid crystal,
Detecting means for detecting the displacement of the height of the surface of the substrate supported by the chuck;
In accordance with the displacement of the height of the surface of the substrate detected by the detection means, the coordinates of the drawing data supplied to the drive circuit of the light beam irradiation device are corrected, and the drawing data of the corrected coordinates is applied to the light beam irradiation. An alignment film exposure apparatus comprising: means for supplying to a drive circuit of the apparatus.
チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、
光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光方法であって、
チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、
検出した基板の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給することを特徴とする配向膜の露光方法。 Support the substrate with a chuck,
A spatial light modulator that modulates a light beam by changing the angles of a chuck and a plurality of mirrors arranged in two directions, a drive circuit that drives the spatial light modulator based on drawing data, and a spatial light modulator A light beam irradiation device that irradiates a linearly polarized light beam obliquely from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck, and relatively moves the irradiation optical system that irradiates the light beam modulated by
An alignment film exposure method for imparting alignment characteristics to align an alignment direction of liquid crystals on an alignment film applied to the substrate by scanning the substrate with a linearly polarized light beam obliquely irradiated from a light beam irradiation device,
Detects the height displacement of the surface of the substrate supported by the chuck,
In accordance with the detected displacement of the surface height of the substrate, the coordinates of the drawing data supplied to the drive circuit of the light beam irradiation apparatus are corrected, and the drawing data of the corrected coordinates is supplied to the drive circuit of the light beam irradiation apparatus. An alignment film exposure method characterized by the above.
検出光が基板の表面で反射された反射光を受光し、
受光した反射光の位置の変化から、基板の表面の高さの変位を検出することを特徴とする請求項3に記載の配向膜の露光方法。 Irradiate the detection light obliquely to the substrate supported by the chuck,
The detection light receives the reflected light reflected by the surface of the substrate,
4. The alignment film exposure method according to claim 3, wherein the displacement of the height of the surface of the substrate is detected from a change in the position of the received reflected light.
二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系から前記チャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置と、
前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、
前記移動手段により前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動し、前記光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光装置であって、
前記チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された基板の表面の高さの変位分だけ、前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に基板の表面に垂直な方向へ移動する手段とを備えたことを特徴とする配向膜の露光装置。 A chuck for supporting the substrate;
It is modulated by a spatial light modulator that modulates the light beam by changing the angle of a plurality of mirrors arranged in two directions, a drive circuit that drives the spatial light modulator based on drawing data, and a spatial light modulator. A light beam irradiation device that irradiates a linearly polarized light beam obliquely from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck;
A moving means for relatively moving the chuck and the light beam irradiation device;
An alignment film applied to the substrate by relatively moving the chuck and the light beam irradiation device by the moving means, scanning the substrate with a linearly polarized light beam obliquely irradiated from the light beam irradiation device. An alignment film exposure apparatus that imparts alignment characteristics to align the alignment direction of the liquid crystal,
Detecting means for detecting the displacement of the height of the surface of the substrate supported by the chuck;
And a means for moving the chuck and the light beam irradiation device in a direction relatively perpendicular to the surface of the substrate by a displacement of the height of the surface of the substrate detected by the detection means. An alignment film exposure apparatus.
チャックと、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有し、照射光学系からチャックに支持された基板へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する光ビーム照射装置とを、相対的に移動し、
光ビーム照射装置から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する配向膜の露光方法であって、
チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、
検出した基板の表面の高さの変位分だけ、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に基板の表面に垂直な方向へ移動することを特徴とする配向膜の露光方法。 Support the substrate with a chuck,
A spatial light modulator that modulates a light beam by changing the angles of a chuck and a plurality of mirrors arranged in two directions, a drive circuit that drives the spatial light modulator based on drawing data, and a spatial light modulator A light beam irradiation device that irradiates a linearly polarized light beam obliquely from the irradiation optical system to the substrate supported by the chuck, and relatively moves the irradiation optical system that irradiates the light beam modulated by
An alignment film exposure method for imparting alignment characteristics to align an alignment direction of liquid crystals on an alignment film applied to the substrate by scanning the substrate with a linearly polarized light beam obliquely irradiated from a light beam irradiation device,
Detects the height displacement of the surface of the substrate supported by the chuck,
An alignment film exposure method, wherein the chuck and the light beam irradiation device are moved in a direction relatively perpendicular to the surface of the substrate by the detected displacement of the height of the surface of the substrate.
検出光が基板の表面で反射された反射光を受光し、
受光した反射光の位置の変化から、基板の表面の高さの変位を検出することを特徴とする請求項7に記載の配向膜の露光方法。 Irradiate the detection light obliquely to the substrate supported by the chuck,
The detection light receives the reflected light reflected by the surface of the substrate,
8. The alignment film exposure method according to claim 7, wherein the displacement of the height of the surface of the substrate is detected from a change in the position of the received reflected light.
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---|---|---|---|---|
JP2017003876A (en) * | 2015-06-12 | 2017-01-05 | 東芝ライテック株式会社 | Optical alignment polarization light irradiation device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11352486A (en) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Sharp Corp | Liquid crystal electrooptical device |
JP2003318096A (en) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Light beam radiation device |
JP2008242147A (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Sei Tsunezo | Laser irradiation optical system |
-
2011
- 2011-01-13 JP JP2011004471A patent/JP2012145786A/en not_active Ceased
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11352486A (en) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Sharp Corp | Liquid crystal electrooptical device |
JP2003318096A (en) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Light beam radiation device |
JP2008242147A (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Sei Tsunezo | Laser irradiation optical system |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017003876A (en) * | 2015-06-12 | 2017-01-05 | 東芝ライテック株式会社 | Optical alignment polarization light irradiation device |
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