JP2005024567A - Location finding apparatus - Google Patents
Location finding apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005024567A JP2005024567A JP2004259605A JP2004259605A JP2005024567A JP 2005024567 A JP2005024567 A JP 2005024567A JP 2004259605 A JP2004259605 A JP 2004259605A JP 2004259605 A JP2004259605 A JP 2004259605A JP 2005024567 A JP2005024567 A JP 2005024567A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- axis
- measured
- axis direction
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
本発明は、例えば液晶基板や液晶表示素子の製造工程等において、その表面に形成されるマスク等の精密パターンを測定するために用いられる二次元測定装置に関する。 The present invention relates to a two-dimensional measuring apparatus used to measure a precision pattern such as a mask formed on the surface of a liquid crystal substrate or a liquid crystal display element, for example.
例えば、液晶基板や液晶表示素子の製造工程等では、その表面に形成されるマスク等の精密パターンの寸法を測定する必要がある。従来、かかる精密パターンを測定するための装置としては、一般に、被測定物である基板をＸ−Ｙステージ上で移動しながら、その表面の精密パターンをテレビ顕微鏡などで撮像して測定するものは、既に知られている。 For example, in the manufacturing process of a liquid crystal substrate or a liquid crystal display element, it is necessary to measure the size of a precision pattern such as a mask formed on the surface. Conventionally, as a device for measuring such a precision pattern, generally, a substrate that is an object to be measured is moved on an XY stage, and the surface precision pattern is imaged and measured with a television microscope or the like. Already known.
ところで、かかる液晶基板や液晶表示素子を利用した表示装置は、近年、その大形化や高精密化が強く要求されており、この要求に伴って、これら液晶基板や液晶表示素子上の精密パターンの寸法測定を行う二次元測定装置にも、これら大形化した基板や素子の表面上に高精密化して形成された精密パターンを、より正確に測定することが求められている。具体的には、最近では、数百ミリメータ〜千ミリメータ（数１００ｍｍ〜１０００ｍｍ）の範囲にわたって０．１μｍ以下の測定再現性（測定精度）が求められるようになっている（特許文献１参照）。 By the way, in recent years, display devices using such liquid crystal substrates and liquid crystal display elements have been strongly demanded to increase in size and precision, and along with this demand, precision patterns on these liquid crystal substrates and liquid crystal display elements are required. The two-dimensional measuring apparatus that measures the above dimensions is also required to more accurately measure the precise pattern formed on the surface of these enlarged substrates and elements with high precision. Specifically, recently, measurement reproducibility (measurement accuracy) of 0.1 μm or less has been required over a range of several hundred millimeters to 1,000 millimeters (several hundred mm to 1000 mm) (see Patent Document 1).
従来、このような測定には、例えば添付の図３に示すような二次元測定装置が用いられていた。すなわち、図にも示すように、ベース１上に、被測定物を位置決めするＸステージ２と、このＸステージ２を跨いで設けた門型のＹステージ２２とを設け、このＹステージ２２にはＺステージ２７を組み付け、さらに、このＺステージ上にテレビ顕微鏡２９を搭載する。そして、これらＸステージ２、Ｙステージ２２、Ｚステージ２７を移動しながら、検出装置であるテレビ顕微鏡２９を、被測定物である上記基板上で位置決めを行う。なお、これらＸステージ２及びＹステージ２２の移動量は、レーザ干渉計８ａ、８ｂ、８ｃと平面鏡７ａ、７ｂ、３７により高精度に測定する。これにより、上記テレビ顕微鏡２９及び図示しない画像処理装置によって測定した顕微鏡視野内の被測定点位置と、上記レーザ干渉計８ａ、８ｂ、８ｃによって測定したＸステージ及びＹステージの移動量とから、上記被測定物上での被測定点の二次元寸法（Ｘ方向及びＹ方向の位置）を測定する。 Conventionally, for such measurement, for example, a two-dimensional measuring apparatus as shown in FIG. 3 is used. That is, as shown in the figure, an X stage 2 for positioning an object to be measured and a gate-shaped Y stage 22 provided across the X stage 2 are provided on the base 1. A Z stage 27 is assembled, and a television microscope 29 is mounted on the Z stage. And while moving these X stage 2, Y stage 22, and Z stage 27, the television microscope 29 which is a detection apparatus is positioned on the said board | substrate which is a to-be-measured object. The movement amounts of the X stage 2 and the Y stage 22 are measured with high accuracy by the laser interferometers 8a, 8b and 8c and the plane mirrors 7a, 7b and 37. Thereby, from the position of the measurement point in the microscope visual field measured by the television microscope 29 and an image processing device (not shown) and the movement amounts of the X stage and the Y stage measured by the laser interferometers 8a, 8b, and 8c, A two-dimensional dimension (a position in the X direction and the Y direction) of the measurement point on the measurement object is measured.
ところで、上記従来技術になる二次元測定装置及びその方法では、例えば、寸法の測定における測定再現誤差に、ステージのＸ‐Ｙ軸方向での移動の際の真直誤差が加算される構造である。すなわち、例えば、ステージをＸ軸方向に移動する際、ステージの移動に伴うヨーイングやローリングなどの影響によりＹ軸（進行方向に垂直な方向）に変動が生じ、これが誤差の原因となる。そこで、このＸ‐Ｙ軸方向での移動の真直再現誤差を最大限に高める必要があり、従来では、例えば、このＸ‐Ｙ軸方向でのステージの案内には、静圧空気軸受５３ａ、５２ｂ、６３及び駆動リニアモータ５４、６４の組み合わせが用いられていた。 By the way, the two-dimensional measuring apparatus and method thereof according to the prior art have a structure in which, for example, a straightness error when the stage is moved in the XY axis direction is added to a measurement reproduction error in dimension measurement. That is, for example, when the stage is moved in the X-axis direction, fluctuations occur in the Y-axis (direction perpendicular to the traveling direction) due to the influence of yawing or rolling accompanying the movement of the stage, which causes an error. Therefore, it is necessary to maximize the straight reproduction error of the movement in the XY axis direction. Conventionally, for example, the static pressure air bearings 53a and 52b are used for guiding the stage in the XY axis direction. 63 and drive linear motors 54 and 64 were used.
しかしながら、これらの技術によれば、測定再現精度は０．１μｍ〜０．２μｍ程度となるため、これにより得られる真直案内再現性は０．２μｍ程度となっていた。しかし、上記したように、被測定物の大形化に伴い、数１００ｍｍ〜１０００ｍｍの移動量を有する静圧空気軸受は、その大きな寸法にわたって高精度な加工が必要とされるため、非常に高価なものとなってしまう。加えて、リニアモータもやはり高価であり、さらには、その発熱量も大きく、そのため、高い測定再現精度、真直案内再現性が求められる装置に熱変位による大きな測定誤差をもたらすこととなり、好ましくなった。 However, according to these techniques, since the measurement reproducibility is about 0.1 μm to 0.2 μm, the straight guide reproducibility obtained thereby is about 0.2 μm. However, as described above, with the increase in the size of the object to be measured, the hydrostatic air bearing having a moving amount of several hundred mm to 1000 mm is required to be processed with high accuracy over its large dimensions, and thus is very expensive. It will become something. In addition, linear motors are also expensive, and their calorific value is also large, which leads to large measurement errors due to thermal displacement in devices that require high measurement reproducibility and straight guide reproducibility. .
また、その他の二次元測定装置及び方法としては、添付の図４にも示すように、テレビ顕微鏡２９をＺ方向に位置決めし、次いで、被測定物１０１をＸＹステージ１０２（図では示されないが、上記同様、ＸステージとＹステージを重ねた構造）上でＸ‐Ｙ方向に位置決めするものが既に知られている。なお、このＸＹステージ１０２の被測定物の外側（側面）には、ＸＹ軸に平行な反射面を有する平面鏡１０７ａ、１０７ｂが設けられており、やはり、レーザ干渉計１０８ａ、１０８ｂにより、Ｘ‐Ｙ軸方向の移動量を高精度で測定するものである。 As another two-dimensional measuring apparatus and method, as shown in FIG. 4 attached, the television microscope 29 is positioned in the Z direction, and then the object to be measured 101 is placed on the XY stage 102 (not shown in the figure, Similar to the above, there is already known one that positions in the XY direction on a structure in which an X stage and a Y stage are overlapped. In addition, plane mirrors 107a and 107b having reflecting surfaces parallel to the XY axis are provided on the outside (side surface) of the object to be measured of the XY stage 102, and again, the laser interferometers 108a and 108b perform XY. The amount of movement in the axial direction is measured with high accuracy.
なお、この装置及び方法では、上記レーザ干渉計１０８ａ、１０８ｂから平面鏡１０７ａ、１０７ｂへ向けて出射するレーザ光線の交点が上記テレビ顕微鏡２９の光軸が一致するように設定しておき、かつ、被測定面（被測定物の上面）とほぼ同じＺ位置に設定することにより、原理的には、Ｘ‐Ｙ軸方向での移動の際、真直度の再現誤差をレーザ干渉計で検出できるものである。具体的には、例えば、Ｘ‐Ｙステージ１０２がＸ方向に移動する場合は、このＸ軸に平行な平面鏡１０７ａの変位をレーザ干渉計１０８ｂで測定すれば、Ｘ軸での移動の真直度（すなわち、Ｙ軸方向での変位）を測定することが可能となる。 In this apparatus and method, the intersection of the laser beams emitted from the laser interferometers 108a and 108b toward the plane mirrors 107a and 107b is set so that the optical axis of the television microscope 29 coincides, and By setting the Z position almost the same as the measurement surface (the upper surface of the object to be measured), in principle, the laser interferometer can detect straightness reproduction errors when moving in the XY direction. is there. Specifically, for example, when the XY stage 102 moves in the X direction, if the displacement of the plane mirror 107a parallel to the X axis is measured by the laser interferometer 108b, the straightness of movement on the X axis ( That is, the displacement in the Y-axis direction can be measured.
ところで、上述した従来技術になる二次元測定装置及び方法においても、レーザ干渉計を利用することにより、ステージ移動の際の真直度を測定することは可能であるが、しかしながら、以下のような問題点が指摘される。 By the way, also in the two-dimensional measuring apparatus and method according to the prior art described above, it is possible to measure the straightness at the stage movement by using the laser interferometer, however, the following problems are encountered. Points are pointed out.
すなわち、Ｘ‐Ｙ方向に移動する位置決めステージ１０２を跨いでＺステージ１０９が配設され、さらに、レーザ干渉計１０８ａ、１０８ｂが上記Ｘ‐Ｙステージ１０２の端部に配設される構造であるため、これらを取り付けるベース１１０の寸法が大きくなってしまう。そのため、Ｘ‐Ｙステージ１０２の移動に伴って、そのステージ重量による負荷重心点が移動してしまい、上記ベース１１０が歪んでしまい、それに伴って、ベース上に設けられたレーザ干渉計１０８ａ、１０８ｂと平面鏡１０７ａ、１０７ｂとの間の距離や位置関係が変動してしまい、各ステージの移動距離を正確かつ高精度に測定することが困難となる問題点があった。 That is, the Z stage 109 is disposed across the positioning stage 102 that moves in the XY direction, and the laser interferometers 108 a and 108 b are disposed at the end of the XY stage 102. The size of the base 110 to which these are attached becomes large. Therefore, as the XY stage 102 moves, the center of gravity of the load due to the weight of the stage moves, the base 110 is distorted, and accordingly, the laser interferometers 108a and 108b provided on the base. The distance and the positional relationship between the mirror and the flat mirrors 107a and 107b fluctuate, which makes it difficult to accurately measure the moving distance of each stage.
さらに、上記の構成では、レーザ干渉計１０８ａ、１０８ｂと平面鏡１０７ａ、１０７ｂとの間の距離は、被測定物の寸法（例えば、数１００ｍｍ〜１０００ｍｍ）より大きくなるため、各ステージの移動距離の測定が温度や気圧など、環境の影響を受けやすく、測定誤差が大きくなってしまうという問題点もあった。すなわち、例えば、平面鏡とレーザ干渉計との間を２００ｍｍ程度の距離を離して配置し、温度が０．５℃変化した場合、空気の屈折率の変化に伴って、測定距離は２００ｍｍ×０．５℃×１０-6／ｍｍ・℃＝１×１０-4ｍｍ＝０．１μｍだけ変化してしまい、これがそのまま測定誤差となってしまう。そのため、これでは必ずしも充分な測定再現精度や真直案内再現性を得ることは出来なかった。 Further, in the above configuration, since the distance between the laser interferometers 108a and 108b and the plane mirrors 107a and 107b is larger than the dimension of the object to be measured (for example, several hundred mm to 1000 mm), the movement distance of each stage is measured. However, there is a problem that the measurement error increases because it is easily affected by the environment such as temperature and pressure. That is, for example, when the plane mirror and the laser interferometer are arranged at a distance of about 200 mm and the temperature changes by 0.5 ° C., the measurement distance is 200 mm × 0. The temperature changes by 5 ° C. × 10 −6 / mm · ° C. = 1 × 10 −4 mm = 0.1 μm, which directly becomes a measurement error. For this reason, it has not always been possible to obtain sufficient measurement reproduction accuracy and straight guide reproduction.
すなわち、上述したように、被測定物の大形化及びそのパターンの高精密化に伴って、数１００ｍｍ〜１０００ｍｍの範囲にわたって０．１μｍ程度以下の測定再現性が求められるが、しかしながら、上述した従来技術では、Ｘ‐Ｙ軸方向の移動における真直再現誤差がそのまま測定誤差となり、また、ステージの駆動系からの発熱も大きいため、上述した超精密測定には適さず、かつ、その価格も非常に高価なものとなってしまう。 That is, as described above, with the increase in the size of the object to be measured and the high precision of the pattern, measurement reproducibility of about 0.1 μm or less over a range of several hundred mm to 1000 mm is required. In the conventional technology, the straight reproduction error in the movement in the XY axis direction becomes the measurement error as it is, and the heat generation from the stage drive system is also large, so it is not suitable for the above-mentioned ultra-precision measurement and its price is also very high It will be expensive.
そこで、本発明では、上記した従来技術における問題点を解消し、すなわち、上述したような高価な案内駆動系を使用することなく、Ｘ‐Ｙステージを移動の際の真直再現誤差を大幅に低減して充分な測定再現性を得ることが可能で、かつ、大形化に対しても装置を安価に構成することが可能な二次元測定装置を提供することを目的とする。 Therefore, in the present invention, the above-mentioned problems in the prior art are solved, that is, the straight reproduction error when moving the XY stage is greatly reduced without using the expensive guide driving system as described above. It is an object of the present invention to provide a two-dimensional measuring apparatus that can obtain sufficient measurement reproducibility and that can be constructed at a low cost even for an increase in size.
かかる上記の目的を達成するため、本発明によれば、まず、表面に被測定物を載置する被測定物保持部と、ベース上に配設されて前記被測定物保持部を二次元平面のＸ軸方向に移動するＸステージと、前記ベース上に配設されて前記Ｘ軸に垂直なＹ軸方向に延びて配置されたサブベースと、前記サブベース上を前記二次元平面のＹ軸方向に移動するＹステージと、前記Ｙステージに取り付けられて前記二次元平面に垂直なＺ軸方向に移動可能な画像検出手段と、前記Ｘステージを前記Ｙ軸方向に案内駆動するＸ軸案内駆動手段と、前記Ｙステージを前記Ｙ軸方向に案内駆動するＹ軸案内駆動手段とを備え、前記画像検出手段により検出した画像信号から前記被測定物の二次元寸法を測定する二次元測定装置において、さらに、前記被測定物保持部のＸ軸方向移動時のＹ軸方向における真直誤差を検出する手段を、前記被測定物保持部のＸ軸方向の側面に近接・対向して設け、かつ、前記被測定物保持部のＹ軸方向移動時のＸ軸方向における真直誤差を検出する手段を、前記被測定物保持部のＹ軸方向の側面に近接・対向して設けた二次元測定装置が提供される。 In order to achieve the above object, according to the present invention, firstly, a measured object holding part for placing the measured object on the surface, and the measured object holding part disposed on the base are arranged in a two-dimensional plane. An X stage that moves in the X-axis direction, a sub-base disposed on the base and extending in the Y-axis direction perpendicular to the X-axis, and the Y-axis of the two-dimensional plane on the sub-base A Y stage that moves in the direction, an image detection means that is attached to the Y stage and is movable in the Z axis direction perpendicular to the two-dimensional plane, and an X axis guide drive that guides and drives the X stage in the Y axis direction And a Y-axis guide driving means for guiding and driving the Y stage in the Y-axis direction, and a two-dimensional measuring apparatus for measuring a two-dimensional dimension of the object to be measured from an image signal detected by the image detecting means Furthermore, the measured object storage Means for detecting a straightness error in the Y-axis direction when the unit moves in the X-axis direction is provided close to and opposite to the side surface in the X-axis direction of the object holding part, and the Y of the object holding part is A two-dimensional measuring apparatus is provided in which means for detecting a straight error in the X-axis direction during axial movement is provided close to and opposite to the side surface in the Y-axis direction of the object holding part.
かかる構成の二次元測定装置によれば、上記真直誤差検出手段は、各ステージの真直誤差を高精度で検出することが可能となり、前記Ｘ軸案内駆動手段と前記Ｙ軸案内駆動手段を、それぞれ、比較的安価に構成することが可能な電動モータとボール循環形リニアガイドで構成しても、所望の測定再現性（測定精度）を得ることができる。また、前記真直誤差検出手段は、それぞれ、三角測量方式のレーザ変位計、または、レーザ干渉計により構成することが好ましい。 According to the two-dimensional measuring apparatus having such a configuration, the straight error detecting unit can detect the straight error of each stage with high accuracy, and the X-axis guide driving unit and the Y-axis guide driving unit are respectively The desired measurement reproducibility (measurement accuracy) can be obtained even with an electric motor and a ball circulation type linear guide that can be configured relatively inexpensively. The straight error detecting means is preferably constituted by a triangulation laser displacement meter or a laser interferometer.
また、前記真直誤差検出手段は、それぞれ、前記被測定物保持部のＸ軸方向及びＹ軸方向の側から数ｍｍ〜数十ｍｍの距離で対向配置することが好ましく、かつ、前記Ｘ軸案内駆動手段と前記Ｙ軸案内駆動手段は、それぞれ、数百ｍｍ〜千ｍｍの範囲で前記被測定物保持部をＸ−Ｙ軸方向に移動可能とすることにより、近年、その大形化や高精密化が強く要求されている液晶基板や液晶表示素子上のパターン寸法測定に対応することが出来る。 Further, the straight error detecting means are preferably arranged to face each other at a distance of several mm to several tens mm from the X-axis direction and Y-axis direction sides of the measured object holding portion, and the X-axis guide In recent years, the driving means and the Y-axis guide driving means can be moved in the XY-axis direction within the range of several hundred mm to 1,000 mm, respectively. It is possible to cope with pattern dimension measurement on liquid crystal substrates and liquid crystal display elements that are highly demanded for precision.
以上の詳細な説明からも明らかなように、本発明によれば、高価な案内駆動系を使用することなく、Ｘ‐Ｙステージを移動の際の真直再現誤差を大幅に低減して充分な測定再現性を得ることが可能で、かつ、大形化に対しても装置を安価に構成することが可能な二次元測定装置を提供することが出来るという優れた効果を発揮する。
を
As is apparent from the above detailed description, according to the present invention, sufficient measurement can be performed by greatly reducing the straight reproduction error when moving the XY stage without using an expensive guide drive system. An excellent effect is obtained that it is possible to provide a two-dimensional measuring apparatus capable of obtaining reproducibility and capable of constructing the apparatus at low cost even for an increase in size.
The
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施の形態になる二次元測定装置の斜視図であり、この図において、参照符号１は、本装置の基台となるベースを示しており、２はＸステージを示している。また、このベース１上には、上記Ｘステージ２を跨ぐように、門形（「コ」の字型）のサブベース２１が設けられ、このサブベース上にＹステージ２２が設けられている。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a two-dimensional measuring apparatus according to an embodiment of the present invention. In this figure, reference numeral 1 indicates a base serving as a base of the apparatus, and 2 indicates an X stage. Show. A gate-shaped (“U” -shaped) sub-base 21 is provided on the base 1 so as to straddle the X-stage 2, and a Y-stage 22 is provided on the sub-base.
一方、上記した門形のサブベース２１には、やはり、ボール循環形リニアガイド２３Ａ、２３Ｂ、Ｙ軸モータ２４等が設けられており、これらボール循環形リニアガイドに案内されながら、上記Ｙステージ２２は、Ｙ軸モータ２４に結合されたボールねじ２５により駆動されてＹ軸方向に移動する。なお、このＹステージ２２は、上記Ｘステージ２に直交するように配設されている。 On the other hand, the above-mentioned portal-shaped sub-base 21 is also provided with ball circulation type linear guides 23A and 23B, a Y-axis motor 24, and the like. The Y stage 22 is guided by these ball circulation type linear guides. Is driven by a ball screw 25 coupled to a Y-axis motor 24 and moves in the Y-axis direction. The Y stage 22 is disposed so as to be orthogonal to the X stage 2.
この門形のサブベース２１には、さらに、Ｚステージベース２６が取り付けられている。なお、このＺステージベース２６には、Ｚステージ２７が、Ｘ軸及びＹ軸に直交するように配設されている。そして、このＺステージ２７には検出器取付テーブル２８が配設されており、被測定物の表面を検出する検出器であるテレビ顕微鏡２９が、この検出器取付テーブル２８に取り付けられている。 A Z stage base 26 is further attached to the gate-shaped sub-base 21. The Z stage base 26 is provided with a Z stage 27 so as to be orthogonal to the X axis and the Y axis. The Z stage 27 is provided with a detector mounting table 28, and a television microscope 29 that is a detector for detecting the surface of the object to be measured is mounted on the detector mounting table 28.
また、このベース１には、ボール循環形リニアガイド３Ａ、３Ｂ、Ｘ軸モータ４、このＸ軸モータに結合されたボールねじ５が取り付けられ、これにより、上記Ｘステージ２は、ボール循環形リニアガイド３Ａ、３Ｂに案内されながら、Ｘ軸モータ４に結合されたボールねじ５によって、Ｘ軸方向に駆動される。すなわち、本実施の形態では、上述したように、大形化に伴って非常な高価なものとなってしまう静圧空気軸受や、やはり高価なリニアモータに代え、比較的安価に構成することが出来る機構、例えば、電動モータとボール循環形リニアガイド、を採用することが可能になる。 The base 1 is provided with ball circulation type linear guides 3A and 3B, an X-axis motor 4, and a ball screw 5 coupled to the X-axis motor. It is driven in the X-axis direction by a ball screw 5 coupled to the X-axis motor 4 while being guided by the guides 3A and 3B. In other words, in the present embodiment, as described above, a static pressure air bearing that becomes very expensive with an increase in size or a linear motor that is also expensive can be configured at a relatively low cost. It is possible to employ a mechanism that can be used, for example, an electric motor and a ball circulation linear guide.
一方、上記Ｘステージ２の上面には、被測定物保持部６が取り付けられている。すなわち、この被測定物保持部６の上面には、被測定物である液晶基板や液晶表示素子が搭載して固定される。また、図にも示すように、上記被測定物保持部６のＹ軸方向端面（側面）には、被測定面とほぼ同じ高さ位置に、円形の反射鏡７ａ、７ｂが取り付けられている。さらに、これら反射鏡７ａ、７ｂに対向する上記ベース１上の位置には、Ｘ軸レーザ干渉計８ａ、８ｂ及びレーザ管９（レーザ発振器）が取り付けられており、このレーザ管９から出射されたレーザ光はビームスプリッタ１０、ミラー１１ａ、１１ｂ（ハーフミラーを含む）を介して上記Ｘ軸レーザ干渉計８ａ、８ｂに入射される。これらのレーザ光は、これらＸ軸レーザ干渉計８ａ、８ｂを通って上記反射鏡７ａ、７ｂに入射して反射し、再び、上記Ｘ軸レーザ干渉計８ａ、８ｂに入り、そこでレーザ光の干渉を利用して上記Ｘステージ２のＸ軸方向における移動量が測定される。 On the other hand, a measured object holding unit 6 is attached to the upper surface of the X stage 2. That is, a liquid crystal substrate or a liquid crystal display element, which is a measurement object, is mounted and fixed on the upper surface of the measurement object holding unit 6. Further, as shown in the figure, circular reflecting mirrors 7a and 7b are attached to the end surface (side surface) in the Y-axis direction of the measured object holding portion 6 at substantially the same height as the measured surface. . Further, X-axis laser interferometers 8a and 8b and a laser tube 9 (laser oscillator) are attached at positions on the base 1 facing the reflecting mirrors 7a and 7b, and emitted from the laser tube 9. Laser light is incident on the X-axis laser interferometers 8a and 8b via the beam splitter 10 and mirrors 11a and 11b (including half mirrors). These laser beams pass through the X-axis laser interferometers 8a and 8b, enter the reflecting mirrors 7a and 7b, are reflected, enter the X-axis laser interferometers 8a and 8b again, and interfere with the laser beams there. Is used to measure the amount of movement of the X stage 2 in the X-axis direction.
加えて、上記被測定物保持部６のＸ軸方向端面（側面）には、被測定面とほぼ同じ高さ位置に、Ｘ軸と平行な平面１２を有する横長形状の反射鏡である、Ｘ軸真直バー１３が取り付けられている。そして、このＸ軸真直バー１３に近接かつ対向して、例えば、三角測量方式のレーザ変位計１４が取り付けられており、これにより、上記Ｘ軸と平行な平面１２、換言すれば、上記Ｘステージ２のＹ軸方向における変位量を計測できる。すなわち、これによれば、上記Ｘ‐Ｙステージ２を比較的安価な駆動・案内機構を利用してＸ‐Ｙ軸方向に移動する場合に発生する真直誤差、特に、ＸステージをＸ軸方向に移動する際のＹ軸方向での変位（変動）を高精度に計測できることとなる。 In addition, the X-axis direction end surface (side surface) of the object-to-be-measured holding unit 6 is a horizontally long reflecting mirror having a plane 12 parallel to the X axis at substantially the same height as the surface to be measured. A shaft straight bar 13 is attached. Further, for example, a triangulation type laser displacement meter 14 is attached in close proximity to and opposed to the X-axis straight bar 13, and thereby, the plane 12 parallel to the X-axis, in other words, the X-stage. 2 can be measured in the Y-axis direction. That is, according to this, the straight error generated when the XY stage 2 is moved in the XY axis direction by using a relatively inexpensive drive / guide mechanism, in particular, the X stage is moved in the X axis direction. The displacement (variation) in the Y-axis direction when moving can be measured with high accuracy.
さらに、上記Ｚステージベース２６には検出器であるテレビ顕微鏡２９にも、被測定面に近い位置に円形の反射鏡３７が取り付けられており、一方、上記ベース１上における上記反射鏡３７に対向した位置には、レーザ光がＹ軸に平行に出入射することが可能な高さ位置に、Ｙ軸レーザ干渉計３８が取り付けられている。具体的には、このＹ軸レーザ干渉計３８は、上記した三角測量方式のレーザ変位計１４の上部に配置されている。これによれば、上記レーザ管９から射出してビームスプリッタ１０で分離されたレーザ光は、ミラー３１ａ、３１ｂを介してＹ軸レーザ干渉計３７に入射する。その後、このレーザ光は、上記反射鏡３７上に入射して反射し、再び、上記Ｙ軸レーザ干渉計３７に入り、そこでレーザ光の干渉を利用してＹ軸方向の移動量を測定する。なお、厳密には、上記Ｘステージ２はＹ軸方向には移動しないが、ここでは、テレビ顕微鏡２９が、上記門形のサブベース２１のＺステージ２７上でＹ軸方向に移動することから、上記Ｘステージ２のＹ軸方向における相対的な変位量を測定することとなる。 Furthermore, a circular reflecting mirror 37 is attached to the Z stage base 26 at a position close to the surface to be measured also on the television microscope 29 as a detector, while facing the reflecting mirror 37 on the base 1. At this position, a Y-axis laser interferometer 38 is attached at a height position where the laser beam can enter and exit in parallel with the Y-axis. Specifically, the Y-axis laser interferometer 38 is disposed above the triangulation laser displacement meter 14 described above. According to this, the laser light emitted from the laser tube 9 and separated by the beam splitter 10 enters the Y-axis laser interferometer 37 via the mirrors 31a and 31b. Thereafter, the laser beam is incident on the reflecting mirror 37 and reflected, and enters the Y-axis laser interferometer 37 again, where the amount of movement in the Y-axis direction is measured using the interference of the laser beam. Strictly speaking, the X stage 2 does not move in the Y-axis direction, but here the TV microscope 29 moves in the Y-axis direction on the Z stage 27 of the portal sub-base 21. The relative displacement amount in the Y-axis direction of the X stage 2 is measured.
さらに、上記門形のサブベース２１の下面には、やはり上記被測定面に近い高さ位置に、Ｙ軸に平行な平面４２を有する横長形状の反射鏡である、Ｙ軸真直バー４３が配設されている。一方、このＹ軸に平行な平面４２に近接、かつ、対向して、図に破線で示すように、レーザ変位計４４（三角測量方式）が取り付けられている。これにより、上記Ｙ軸と平行な平面４２、換言すれば、上記Ｙステージ２２でのＸ軸方向における（より具体的には、上記Ｙ軸と平行な平面４２と上記検出器取付テーブル２８との間の）変位量を計測できる。すなわち、これによれば、上記Ｙステージ２２を比較的安価な駆動・案内機構（具体的には、ボール循環形リニアガイド２３Ａ、２３ＢやＹ軸モータ２４等）を利用してＹ軸方向に移動する場合における真直誤差を計測できることとなる。 Further, a Y-axis straight bar 43, which is a horizontally long reflecting mirror having a plane 42 parallel to the Y-axis, is disposed on the lower surface of the gate-shaped sub-base 21 at a height position close to the surface to be measured. It is installed. On the other hand, a laser displacement meter 44 (triangulation method) is attached close to and opposite to the plane 42 parallel to the Y axis, as indicated by a broken line in the figure. Thereby, the plane 42 parallel to the Y axis, in other words, the X stage direction in the Y stage 22 (more specifically, the plane 42 parallel to the Y axis and the detector mounting table 28 The amount of displacement can be measured. That is, according to this, the Y stage 22 is moved in the Y-axis direction using a relatively inexpensive drive / guide mechanism (specifically, the ball circulation linear guides 23A, 23B, the Y-axis motor 24, etc.). In this case, the straightness error can be measured.
なお、上記のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動動作は、図示しない制御装置からの指令に基づいて、上記Ｘ軸モータ４及びＹ軸モータ２４を回転駆動する、これにより、その上面に被測定物である液晶基板や液晶表示素子を搭載固定した被測定物保持部６及びＺステージベース２６を移動させて、その被測定部分（基板上の精密パターンなど）をテレビ顕微鏡２９の視野内に位置決めすることとなる。 The X-axis direction and Y-axis direction moving operations described above rotate and drive the X-axis motor 4 and the Y-axis motor 24 based on a command from a control device (not shown). The object-to-be-measured object holding unit 6 and the Z stage base 26 on which the liquid crystal substrate or the liquid crystal display element is mounted are moved, and the part to be measured (such as a precision pattern on the substrate) is positioned within the field of view of the television microscope 29. Will be.
次に、やはり図示しないフォーカス制御装置からの指令により、上記検出器取付テーブル２８をＺ軸方向に位置決めする。その際のＺ軸方向の移動量は、被測定物であるガラス基板などの厚さの不均一（いわゆる、厚さむら）や反りに起因する数百μｍ程度であり、これは、例えば特願平１０−１８６２１１号（特開２０００−１９４１５号公報）に示されるように、弾性案内により真直案内の再現精度が０．０１μｍ程度の微動Ｚステージを使用して構成している。 Next, the detector mounting table 28 is positioned in the Z-axis direction according to a command from a focus control device (not shown). The amount of movement in the Z-axis direction at that time is about several hundred μm due to non-uniform thickness (so-called thickness unevenness) or warpage of a glass substrate or the like to be measured. As shown in Japanese Patent Laid-Open No. 10-186211 (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-19415), a fine movement Z stage with a straight guide reproduction accuracy of about 0.01 μm is formed by elastic guidance.
このようにしてテレビ顕微鏡２９の視野内において位置決めして合焦点状態で得られた画像を、図示しない画像処理装置及びコンピュータにより処理し、画面内の被測定点の位置や微細なパターンの寸法などを算出することとなる。そして、この時、上記ステージのＸ‐Ｙ軸方向の移動に伴って行われる移動量（寸法）の測定については、以下の様にして行われる。 In this way, the image obtained by positioning in the visual field of the television microscope 29 and obtained in a focused state is processed by an image processing apparatus and a computer (not shown), and the position of the measurement point in the screen, the size of the fine pattern, etc. Will be calculated. At this time, the measurement of the movement amount (dimension) performed in accordance with the movement of the stage in the XY axis direction is performed as follows.
添付の図２のフローチャートに示すように、まず、上記したレーザ干渉計８ａ、８ｂで検出したステージのＸ軸方向の移動量（例えば、Ｘ軸上での２点間の距離）と、上記レーザ干渉計３８で検出したＹ軸の位置とから、そのＹ軸上の位置での上記テレビ顕微鏡２９のＸ軸方向における移動量（寸法測定）をコンピュータにより算出する（ステップＳ１）。この時、ステージのＸ軸方向の移動に伴って、ヨーイングやローリングなどの影響により、数μｍ程度、Ｙ軸方向でのずれ（真直誤差）が生じる。しかしながら、このＹ軸方向での真直誤差は、上記レーザ変位計１４により検出されており、そこで、この検出した誤差（ずれ）量を上記コンピュータに送付する（ステップＳ２）。これにより、コンピュータは、上記誤差（ずれ）量を補正してステージのＸ軸方向の移動量を算出する（ステップＳ３）。 As shown in the attached flowchart of FIG. 2, first, the amount of movement of the stage in the X-axis direction (for example, the distance between two points on the X-axis) detected by the laser interferometers 8a and 8b, and the laser From the position of the Y axis detected by the interferometer 38, the amount of movement (dimension measurement) in the X axis direction of the television microscope 29 at the position on the Y axis is calculated by a computer (step S1). At this time, with the movement of the stage in the X-axis direction, a deviation (straight error) in the Y-axis direction occurs by about several μm due to the influence of yawing or rolling. However, the straightness error in the Y-axis direction is detected by the laser displacement meter 14, and the detected error (deviation) amount is sent to the computer (step S2). Thus, the computer corrects the error (deviation) amount and calculates the amount of movement of the stage in the X-axis direction (step S3).
次に、Ｙ軸方向での移動量（寸法測定）は、上記Ｙ軸レーザ干渉計３８により検出されるＹ軸方向の移動量としてコンピュータにより算出する（ステップＳ４）。この時、ステージのＹ軸方向の移動に伴って、やはりヨーイングやローリングなどの影響により、数μｍ程度、Ｘ軸方向でのずれ（真直誤差）が生じる。しかしながら、このＸ軸方向での真直誤差は、上記レーザ変位計４４により検出されており、そこで、この検出した誤差（ずれ）量を上記コンピュータに送付する（ステップＳ５）。これにより、コンピュータは、上記誤差（ずれ）量を補正してステージのＹ軸方向の移動量を算出する（ステップＳ６）。 Next, the amount of movement (dimension measurement) in the Y-axis direction is calculated by the computer as the amount of movement in the Y-axis direction detected by the Y-axis laser interferometer 38 (step S4). At this time, with the movement of the stage in the Y-axis direction, a deviation (straight error) in the X-axis direction of about several μm occurs due to the influence of yawing or rolling. However, the straightness error in the X-axis direction is detected by the laser displacement meter 44, and the detected error (deviation) amount is sent to the computer (step S5). As a result, the computer corrects the error (deviation) amount and calculates the amount of movement of the stage in the Y-axis direction (step S6).
なお、上記の実施の形態になる測定装置で使用されたレーザ変位計は、所謂、三角測量方式の変位計であり、温度変化が０．１℃以内のサーマルチャンバー内では、０．０５μｍ以内の測定再現精度を有している。そのため、上記のようにして算出されたＸ‐Ｙステージの移動量と、先に算出した上記テレビ顕微鏡２９の視野内における測定点の位置とに基づけば、被測定物である上記基板上に形成された精密パターンの寸法をコンピュータによって０．１μｍ以内の再現精度で測定することが可能となる。 The laser displacement meter used in the measuring apparatus according to the above embodiment is a so-called triangulation type displacement meter, and within a thermal chamber with a temperature change within 0.1 ° C., it is within 0.05 μm. Has measurement reproducibility accuracy. Therefore, based on the movement amount of the XY stage calculated as described above and the position of the measurement point in the field of view of the television microscope 29 calculated above, it is formed on the substrate as the object to be measured. It becomes possible to measure the dimension of the precision pattern thus obtained with a reproducibility within 0.1 μm by a computer.
ここで、上記の実施の形態になる測定装置では、互いに近接、かつ、対向して配置された、レーザ変位計１４とＸ軸真直バー１４の間の距離、及び、レーザ変位計４４とＸ軸真直バー４４の間の距離は、８ｍｍであった。この距離は、例えば、上記図４により示した従来の測定装置におけるレーザ干渉計１０８ａと平面鏡１０７ａとの間の距離、レーザ干渉計１０８ｂと平面鏡１０７ｂとの間の距離（１２００ｍｍ程度）と比較して、１／１００以下、多く見積もっても１／１０以下になっており、これにより、温度差による測定距離の誤差への影響を１／１０以下に低減することが可能になる。なお、上記の距離は、８ｍｍに限定することなく、求められる誤差許容度により、数ｍｍ〜数十ｍｍの範囲で、適宜、設定することとが可能である。 Here, in the measurement apparatus according to the above-described embodiment, the distance between the laser displacement meter 14 and the X-axis straight bar 14 and the laser displacement meter 44 and the X-axis, which are disposed close to and opposed to each other. The distance between the straight bars 44 was 8 mm. This distance is, for example, compared with the distance between the laser interferometer 108a and the plane mirror 107a and the distance between the laser interferometer 108b and the plane mirror 107b (about 1200 mm) in the conventional measuring apparatus shown in FIG. 1/100 or less, which is estimated to be 1/10 or less, which makes it possible to reduce the influence of the temperature difference on the measurement distance error to 1/10 or less. The above distance is not limited to 8 mm, and can be appropriately set within a range of several mm to several tens mm depending on the required error tolerance.
以上に述べた如く、本発明の上記の実施の形態になる測定装置によれば、装置のＸ‐Ｙステージを移動する際に生じる真直再現誤差を非常に高い精度で補正することが出来ることから、上記した従来技術で述べた静圧空気軸受のような高価な案内駆動系を使用することなく、低価格なボール循環形リニアガイドやモータを用いても、二次元（Ｘ‐Ｙ軸方向）における高精度な測定が可能になる。 As described above, according to the measuring apparatus according to the above-described embodiment of the present invention, it is possible to correct a straight reproduction error generated when moving the XY stage of the apparatus with very high accuracy. Even without using an expensive guide drive system such as the hydrostatic air bearing described in the above-mentioned prior art, two-dimensional (XY axis direction) can be used even with a low-cost ball circulation linear guide or motor. High-accuracy measurement is possible.
なお、上記に述べた実施の形態になる測定装置では、Ｘ‐Ｙ軸方向でのステージ移動の真直誤差（真直度）を測定・検出して補正するため、上記の三角測量方式のレーザ変位計を用いるものとして説明を行ったが、しかしながら、本発明はこれに限定されることなく、これに代えて、例えば、上記においてＸ‐Ｙ軸方向のステージの移動量を測定・検出するために用いた小形のレーザ干渉計や静電容量型の変位計など、高精度な比較測定の可能な変位計を用いることも可能である。 In the measurement apparatus according to the embodiment described above, the above-described triangulation laser displacement meter is used to measure and detect and correct the straightness error (straightness) of the stage movement in the XY axis direction. However, the present invention is not limited to this. Instead, for example, in the above, it is used for measuring and detecting the amount of movement of the stage in the XY axis direction. It is also possible to use a displacement meter capable of high-precision comparative measurement, such as a small laser interferometer or a capacitance displacement meter.
１ ベース
２ Ｘステージ
２１ サブベース
２２ Ｙステージ
３Ａ、３Ｂ、２３Ａ、２３Ｂ ボール循環形リニアガイド
４、２４ モータ
２５ ボールねじ
２６ Ｚステージベース
２７ Ｚステージ
２９ （検出器）テレビ顕微鏡
６ 被測定物保持部
７ａ、７ｂ 反射鏡
８ａ、８ｂ Ｘ軸レーザ干渉計
９ レーザ管（レーザ発振器）
１３、４３ Ｘ軸、Ｙ軸真直バー
１４、４４ 三角測量方式レーザ変位計
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 X stage 21 Sub base 22 Y stage 3A, 3B, 23A, 23B Ball circulation type linear guide 4, 24 Motor 25 Ball screw 26 Z stage base 27 Z stage 29 (Detector) Television microscope 6 DUT 7a, 7b Reflector 8a, 8b X-axis laser interferometer 9 Laser tube (laser oscillator)
13, 43 X-axis, Y-axis straight bar 14, 44 Triangulation laser displacement meter
Claims (4)
The position measuring apparatus according to claim 1, further comprising a rotation stage capable of rotating the object to be measured between the first stage and the object holding part.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004259605A JP2005024567A (en) | 2004-09-07 | 2004-09-07 | Location finding apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004259605A JP2005024567A (en) | 2004-09-07 | 2004-09-07 | Location finding apparatus |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001028205A Division JP2002228411A (en) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | Two-dimensional measuring apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005024567A true JP2005024567A (en) | 2005-01-27 |
Family
ID=34191770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004259605A Pending JP2005024567A (en) | 2004-09-07 | 2004-09-07 | Location finding apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005024567A (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009508137A (en) * | 2005-09-13 | 2009-02-26 | スレッテモエン，グドムン | Optomechanical position measuring device |
| JP2011009396A (en) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Hitachi High-Technologies Corp | Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing display panel board |
| WO2011049608A3 (en) * | 2009-10-19 | 2011-11-17 | Ventana Medical Systems, Inc. | Imaging system and techniques |
| KR101169575B1 (en) | 2008-10-29 | 2012-07-31 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | Straight measuring method and apparatus |
| AU2013205437B2 (en) * | 2009-10-19 | 2014-10-16 | Ventana Medical Systems, Inc. | Imaging system and techniques |
| CN108344746A (en) * | 2018-05-15 | 2018-07-31 | 东莞市兆丰精密仪器有限公司 | A kind of gantry double drive appearance delection device |
| CN108500467A (en) * | 2018-05-21 | 2018-09-07 | 深圳市杰普特光电股份有限公司 | Laser marking device |
| CN109916345A (en) * | 2019-03-08 | 2019-06-21 | 广州佳昕机电科技有限公司 | A kind of pad detection device |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61213708A (en) * | 1985-03-20 | 1986-09-22 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Image detection apparatus |
| JPH01269002A (en) * | 1988-04-21 | 1989-10-26 | Mitsutoyo Corp | Two-dimensional displacement detector |
| JPH0510748A (en) * | 1990-07-09 | 1993-01-19 | Canon Inc | Device for detecting information on position and transfer device using it |
| JPH06120304A (en) * | 1992-10-02 | 1994-04-28 | Nikon Corp | Alignment method |
| JPH08185428A (en) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Cad system provided with actual article collating function |
| JPH09133514A (en) * | 1995-11-10 | 1997-05-20 | Hitachi Koki Co Ltd | Image measuring system |
| JPH10260008A (en) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Nikon Corp | Stage device, coordinate measuring device, and position measuring method |
| JP2000081329A (en) * | 1998-09-04 | 2000-03-21 | Nikon Corp | Shape measurement method and device |
| JP2002228411A (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Two-dimensional measuring apparatus |
-
2004
- 2004-09-07 JP JP2004259605A patent/JP2005024567A/en active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61213708A (en) * | 1985-03-20 | 1986-09-22 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Image detection apparatus |
| JPH01269002A (en) * | 1988-04-21 | 1989-10-26 | Mitsutoyo Corp | Two-dimensional displacement detector |
| JPH0510748A (en) * | 1990-07-09 | 1993-01-19 | Canon Inc | Device for detecting information on position and transfer device using it |
| JPH06120304A (en) * | 1992-10-02 | 1994-04-28 | Nikon Corp | Alignment method |
| JPH08185428A (en) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Cad system provided with actual article collating function |
| JPH09133514A (en) * | 1995-11-10 | 1997-05-20 | Hitachi Koki Co Ltd | Image measuring system |
| JPH10260008A (en) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Nikon Corp | Stage device, coordinate measuring device, and position measuring method |
| JP2000081329A (en) * | 1998-09-04 | 2000-03-21 | Nikon Corp | Shape measurement method and device |
| JP2002228411A (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Two-dimensional measuring apparatus |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009508137A (en) * | 2005-09-13 | 2009-02-26 | スレッテモエン，グドムン | Optomechanical position measuring device |
| KR101169575B1 (en) | 2008-10-29 | 2012-07-31 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | Straight measuring method and apparatus |
| JP2011009396A (en) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Hitachi High-Technologies Corp | Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing display panel board |
| WO2011049608A3 (en) * | 2009-10-19 | 2011-11-17 | Ventana Medical Systems, Inc. | Imaging system and techniques |
| KR101423896B1 (en) | 2009-10-19 | 2014-07-28 | 벤타나 메디컬 시스템즈, 인코포레이티드 | Device and method for slide caching |
| KR101424414B1 (en) | 2009-10-19 | 2014-08-01 | 벤타나 메디컬 시스템즈, 인코포레이티드 | A device for a microscope stage |
| AU2013205437B2 (en) * | 2009-10-19 | 2014-10-16 | Ventana Medical Systems, Inc. | Imaging system and techniques |
| US9036255B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-05-19 | Ventana Medical Systems, Inc. | Method and device for slide caching |
| CN108344746A (en) * | 2018-05-15 | 2018-07-31 | 东莞市兆丰精密仪器有限公司 | A kind of gantry double drive appearance delection device |
| CN108500467A (en) * | 2018-05-21 | 2018-09-07 | 深圳市杰普特光电股份有限公司 | Laser marking device |
| CN109916345A (en) * | 2019-03-08 | 2019-06-21 | 广州佳昕机电科技有限公司 | A kind of pad detection device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20020065369A (en) | Position measuring apparatus | |
| US8278616B2 (en) | Position detector and exposure apparatus | |
| EP0983481B1 (en) | Two piece mirror arrangement for interferometrically controlled stage | |
| US20090073458A1 (en) | Means and method for determining the spatial position of moving elements of a coordinate measuring machine | |
| US11049687B2 (en) | Stage apparatus and charged particle beam apparatus | |
| JP2005024567A (en) | Location finding apparatus | |
| KR101067996B1 (en) | Inspection method of line width measuring device | |
| JP2002228411A (en) | Two-dimensional measuring apparatus | |
| JP2001317933A (en) | Shape-measuring apparatus | |
| JPH09223650A (en) | Aligner | |
| Huang et al. | Embedded sensor system for five-degree-of-freedom error detection on machine tools | |
| JP2013221929A (en) | Three-dimensional measurement method and device | |
| JP5252777B2 (en) | Scanning mechanism and scanning method for vertical two-dimensional surface | |
| JP3753944B2 (en) | Array accuracy measuring apparatus and method | |
| Meli et al. | Calibration of a 2D reference mirror system of a photomask measuring instrument | |
| JP2015046331A (en) | Stage device and charged particle beam device | |
| KR20140094881A (en) | Stage transferring device and position measuring method of stage | |
| JPH09199573A (en) | Positioning stage apparatus and aligner using the same | |
| KR20130008826A (en) | Stage apparatus | |
| JPH09289160A (en) | Aligner | |
| JP2006138698A (en) | Three-dimensional measurement method and apparatus | |
| Li et al. | Error analysis and improvements for using parallel-shift method to test a galvanometer-based laser scanning system | |
| JP5076171B2 (en) | Shape measuring method and shape measuring apparatus | |
| JP2016100541A (en) | Mask stage and stage device | |
| TW202212986A (en) | Machine measurement metrology frame for a lithography system |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070928 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100401 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100401 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100608 |