JP6491875B2 - 電気絶縁膜の形成方法 - Google Patents
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Description
また本発明は、電圧が印加される金属部材に電気絶縁膜を形成する形成方法において、粒径が1μm以上30μm未満であり、かつ平均粒径が1μm以上5μm未満である酸化アルミニウム粉末に、バンドギャップ値が2eV以上かつ熱伝導率が150W/m・K以上、平均粒径が2μm以上5μm未満であるセラミック粉末を2〜20質量%添加し、スプレードライヤーで造粒した混合粉を用いてプラズマ溶射を行なう電気絶縁膜の形成方法である。
プラズマ溶射によって電気絶縁膜を形成する前に、軸受け素材を有機溶剤で洗浄脱脂後、非溶射部を治具で保護しブラスト処理で粗面化した。
酸化アルミニウムに配合する炭化ケイ素および/または窒化アルミニウムの比率を変え、絶縁破壊電圧と熱伝導率およびコストの比較を実施した。プラズマ溶射によって電気絶縁膜を形成する前に、供試片素材を有機溶剤で洗浄脱脂後、ブラスト処理で粗面化した。
プラズマ溶射によって電気絶縁膜を形成する前に、フルミニウム合金製静電チャック素材を有機溶剤で洗浄脱脂後、非溶射部を治具で保護しブラスト処理で粗面化した。
2 シリコンウエハ
3 静電チャック
4 電極材
5 絶縁碍子
Claims (3)
- 電圧が印加される金属部材に電気絶縁膜を形成する形成方法において、粒径が1μm以上30μm未満であり、かつ平均粒径が15μm以上25μm未満である酸化アルミニウム粉末に、バンドギャップ値が2eV以上かつ熱伝導率が150W/m・K以上、粒径が1μm以上10μm未満、平均粒径が2μm以上5μm未満であるセラミック粉末を2〜40質量%添加した混合粉を用いてプラズマ溶射を行なうことを特徴とする電気絶縁膜の形成方法。
- 電圧が印加される金属部材に電気絶縁膜を形成する形成方法において、粒径が1μm以上30μm未満であり、かつ平均粒径が1μm以上5μm未満である酸化アルミニウム粉末に、バンドギャップ値が2eV以上かつ熱伝導率が150W/m・K以上、平均粒径が2μm以上5μm未満であるセラミック粉末を2〜20質量%添加し、スプレードライヤーで造粒した混合粉を用いてプラズマ溶射を行なうことを特徴とする電気絶縁膜の形成方法。
- 前記電気絶縁膜の膜厚を50μm以上200μm未満とすることを特徴とする請求項1または2に記載の電気絶縁膜の形成方法。
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