JP6491359B2 - オルガノジハロシランからの環状シロキサン化合物の生成方法 - Google Patents
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Description
本出願は、米国特許法第119条(e)に基づき、2015年5月20日に出願された米国特許仮出願第62/164,087号の優先権を主張するものであり、その開示の全容が、参照により本明細書に組み込まれる。
酸化セリウム(IV)上のレニウムを、インシピエントウェットネス含浸によって調製した。三塩化レニウムを塩酸に溶解した。この溶液を、CeO2に、ちょうど全体が湿潤するまで加えた。湿潤固体を、真空下に2時間置いた後、オーブン中で15時間、80℃で加熱した。試料(0.844g、セリア上のReCl3、6.3%のRe)を、鋼管流通式反応器中に取り付けられた6mmO.D.の石英管に入れた。触媒を10sccmのH2により、400℃で1.5時間、次いで500℃で30分間還元した。水素は、Brooks SLA5850マスフローコントローラを用い、反応器に送達した。熱は、Thermo Scientific Lindberg Blue Minimite2.5cm管状炉によって供給した。
次に、参考例Aの管を500℃で加熱した。メチルジクロロシラン(MeHSiCl2)をスチールバブラーに入れ、10sccmの水素を、バブラーを通して流し、水素及びMeHSiCl2蒸気を反応器中に運んだ。100μLの試料ループを備えたVici六方弁を用い、反応器の流出物を定期的に採取した(23分ごとに1回)。各試料を、熱伝導度検出器を備えたAgilent7890GC−MSに送り、分析した。反応器温度は500℃で75分間(4回のGC−MS注入)かけ、次いで注入試料を400℃、350℃、及び330℃で反応器から採取した。500℃では、シルセスキオキサンの生成が優先し、反応器流出物は、以下の選択性でケイ素生成物を含有していた。57モル%の(MeSiO3/2)6、9モル%の(MeHSiO)3(MeSiO3/2)2、4モル%の(MeSiO3/2)8、15モル%の(MeHSiO)4、10モル%(Me2SiO)2(MeHSiO)4。350℃では、環状シロキサン化合物が、反応器流出物中の主要生成物であった。反応器流出物は以下を含有していた。58モル%の(MeHSiO)3、25モル%の(MeHSiO)4、8モル%の(MeHSiO)5。MeHSiCl2の変換率は、最終を除いて全ての注入について100%であった。最終の注入は、反応器が330℃の際のもので、変換率は69%に低下した。
MeHSiCl2の反応は、実施例1に記載の手順に従って実施した。いかなる遷移金属も添加していない酸化セリウム(IV)を、触媒(c)の代わりに用いた。反応器の温度は200℃で開始し、各GC−MSの注入後に50℃ずつ上げた。200℃〜300℃では、ジシロキサンが、反応器流出物中の主要生成物であった。250℃では、反応器流出物は34モル%のClMeHSi−O−SiHMeCl、32モル%のClMeHSi−O−SiMeCl2、及び28モル%のMeH2SiClを含有していた。環状トリシロキサンは、いずれの温度の反応器流出物中でも検出されなかった。
実施例1に記載の手順を繰り返した。ただし、ジメチルジクロロシラン(Me2SiCl2)をオルガノジハロシラン(a)として、CeO2上の2%のReを触媒(c)として用いた。400℃では、最初の20分間の反応器流出物は以下を含有していた。49モル%の(Me2SiO)3、21モル%のMe3SiCl、14モル%の(Me2SiO)4、7モル%の直鎖状クロロシラン、4モル%の(Me2SiO)3(Me2SiO3/2)2、及び3モル%の(Me2SiO)4−6(Me2SiO3/2)2。
実施例1に記載の手順を繰り返した。ただし、メチルビニルジクロロシラン(MeViSiCl2)をオルガノジハロシラン(a)として、CeO2上の6.3%のReを触媒(c)として用いた。反応器中の温度は200℃で開始し、各GC−MSの注入後に50℃ずつ、最高500℃まで上げた。モノマー、直鎖状シロキサン、環状シロキサン及びシルアルキレンの混合物が、温度に応じて様々な選択性で生成した。350℃では、反応器流出物は、39モル%の(MeViSiO)3、32モル%のEtMeSiCl2、12モル%の(MeViSiO)4、8モル%のMeSiCl3、4モル%の(MeViSiO)5を含有していた。500℃では、選択性は、40モル%のEtMeSiCl2、31%のClMeViSi−O−SiViMeCl、13モル%のMeSiCl3、5モル%のCl(MeViSiO)2SiMeViCl、4モル%の(MeViSiO)3、3モル%の(MeViSiO)4、及び3モル%のCl2MeSi−(CH2)2−SiMeCl2となった。
実施例1に記載の手順を繰り返した。ただし、MeViSiCl2をオルガノジハロシラン(a)として、CeO2上の1.1%のFeを触媒として用いた。モノマー、直鎖状シロキサン、環状シロキサン及びシルアルキレンの混合物が、温度に応じて様々な選択性で生成した。350℃では、選択性は、43%の(MeViSiO)3、15%のEtMeSiCl2、14%の(OSiMeVi)3(O3/2SiMe)2、7%の(OSiMeVi)4(OSiMeCl)となった。
実施例1に記載の手順を繰り返した。ただし、メチルフェニルジクロロシラン(MePhSiCl2)をオルガノジハロシラン(a)として、酸化セリウム(IV)上の2%のReを触媒(c)として用いた。反応器中の温度は200℃で開始し、各GC−MSの注入後に50℃ずつ、最高500℃まで上げた。モノマー、直鎖状シロキサン、環状シロキサン及びシルセスキオキサンの混合物が、温度に応じて様々な選択性で生成した。250℃では、反応器流出物は、79%のPhSiCl3及び21%の(MeSiO3/2)6を含有していた。350℃では、生成物は、100%のClMePhSi−O−SiPhMeClであった。450℃では、反応器流出物は、90%の環状(MePhSiO)3及び10%のPhSiCl3を含有していた。
ジメチルジクロロシラン(Me2SiCl2)と、酸化セリウム(IV)上の2重量%の銅との反応を実施した。Cu/CeO2は、参考例Aと同一の手順で調製した。試料(0.600g、セリア上のCuCl2、2.0重量%Cu)を、フルオロカーボンポリマー圧縮継手によりガス管に接続され、管状炉中に取り付けられた12.7mmO.D.の石英管の中央に入れた。触媒を、5sccmのH2及び95sccmのArの気流下、500℃で30分間、次いで100sccmのH2の気流下、同一の温度で更に2時間還元した。H2及びArの両方とも、Brooks SLA5850マスフローコントローラを用い、反応器に送達した。還元工程の終了後、触媒温度を400℃に下げ、20sccmのH2を、液体ジメチルジクロロシラン(Me2SiCl2)を充填したスチールバブラーを通して流動させ、蒸気を反応器に運ぶことによって、反応を開始した。反応中、Me2SiCl2を含むスチールバブラーと、触媒を含む反応器は、両方とも、それぞれ室温(23℃)及び400℃で定常に維持した。反応の流出物は、実施例1に記載のものと同様のVici六方弁−Agilent7890GC−MSオンライン試料分析システムを用い、10分ごとに採取した。反応時間は50分間(6回のGC−MS注入)であった。反応の経過中、Me2SiCl2の変換率は10分でピークの37.2モル%となった後、絶えず低下し、50分で4.6モル%となった。Me2SiCl2の変換率の最大時において、反応生成物の分布は以下のとおりとなった。53モル%の(Me2SiO)4、21モル%の(Me2SiO)3、11モル%の(Me2SiO)5、5モル%の(MeSiO3/2)4、3モル%のMe3SiCl、2モル%のMeSiCl3、2モル%の(Me2SiO)6、かつ残部(3モル%)は直鎖状メチルクロロシロキサン、主としてMe2ClSiOSiMe2Cl。
Me2SiCl2と、酸化セリウム(IV)上の2重量%のニッケルとの反応を、実施例7に概説した同一の手順によって実施した。実施例7と異なり、酸化セリウム(IV)上の2重量%のニッケルの触媒によるMe2SiCl2の変換率のピーク(95モル%)は、反応の開始時点(最初の試料採取)で確認され、このピーク活性における生成物の分布は以下のとおりとなった。36モル%の(Me2SiO)4、35モル%の(Me2SiO)3、11モル%の(Me2SiO)5、8モル%(MeSiO3/2)4、4モル%の(Me2SiO)6、2モル%の(MeSiO3/2)3、1モル%のMe3SiCl、1モル%のMeSiCl3、かつ残部(2モル%)は直鎖状メチルクロロシロキサン、主としてMe2ClSiOSiMe2Cl。反応の経過中の触媒活性の低下は、実施例7に記載の実験と比べ、それほど顕著ではなかった。反応時間50分におけるNi/CeO2触媒によるMe2SiCl2の変換率は、54モル%であった。
Me2SiCl2と、酸化セリウム(IV)上の2重量%の鉄との反応を、実施例7及び8に概説した同一の手順によって実施した。実施例8と同様に、酸化セリウム(IV)上の2重量%の鉄の触媒によるMe2SiCl2の変換率のピーク(73モル%)は、反応の開始時点(最初の試料採取)で確認され、このピーク活性における生成物の分布は以下のとおりとなった。74モル%の(Me2SiO)3、12モル%の(Me2SiO)4、4モル%の(MeSiO3/2)4、2モル%の(MeSiO3/2)3、2モル%の(Me2SiO)5、2モル%のMe3SiCl、2モル%のMeSiCl3、1モル%の(Me2SiO)6、かつ残部(1モル%)は直鎖状メチルクロロシロキサン、主としてMe2ClSiOSiMe2Cl。
実施例1に記載の手順を繰り返した。ただし、(トリフルオロプロピル)メチルジクロロシラン[(F3Pr)MeSiCl2]をオルガノジハロシラン(a)として、酸化セリウム(IV)上の5重量%の銅を触媒(c)として用いた。反応器中の温度は150℃で開始し、各GC−MSの注入後に50℃ずつ、最高500℃まで上げた。モノマー、直鎖状シロキサン、環状シロキサン及びシルセスキオキサンの混合物が、温度に応じて様々な選択性で生成した。200℃では、反応器流出物は、TCD分析における面積比が57%の(F3PrMeSiO)n(式中、n=3〜6である。)の環状化合物、14%の(F3Pr)MeSiF2、及び6%の(F3Pr)MeSiFClを含有していた。300℃では、反応器流出物は、67%の(F3PrMeSiO)nの環状化合物、及び18%のモノマー[例えば、(F3Pr)MeSiF2]を含有していた。
Me2SiCl2と、酸化チタン上の2重量%のレニウムとの反応を、実施例7に概説した同一の手順によって実施した。ただし、反応器温度は500℃であった。Me2SiCl2の変換率は、反応開始時においてのみ5モル%に達した後、低下した。環状シロキサン化合物は生成されず、最初の注入における生成物の分布は以下のとおりとなった。52モル%のMe3SiCl、11モル%のMeSiCl3、及び31モル%の直鎖状メチルクロロシロキサン。この比較例によると、酸化セリウムの代わりに別の担体を用いた場合、試験した条件下では、環状シロキサン化合物が生成しなかった。
実施例1に記載の手順を繰り返した。ただし、Me2SiCl2をオルガノジハロシラン(a)として、酸化セリウム(IV)上の1.1重量%鉄を触媒(c)として用い、水素の代わりにアルゴンをキャリアガスとして用いた。反応器中の温度は、反応中を通じて400℃に維持した。GC−MSへの5分における最初の注入では、Me2SiCl2の変換率は99%であった。生成物の選択性は以下のとおりとなった。51%の(Me2SiO)3、15%の(Me2SiO)4、4%の(Me2SiO)5、25%の分枝状T構造[例えば、(MeSiO3/2)2(Me2SiO)3]。この実施例は、環状トリシロキサンを含む環状シロキサンが、本明細書に記載の方法を用い、水素なしで生成できることを示している。
ReCl3(Sigma Aldrich、99+%)0.1025gをイソプロピルアルコール8.8mLに溶解し、溶液を形成することにより、酸化セリウム(IV)上のレニウムを調製した。次にこの溶液を、インシピエントウェットネス法により、CeO2粉末に加えた。この際、十分な溶液をCeO2(Sigma Aldrich、99%)2.0679gに加え、それ以上の溶液が粉末によって吸収されないよう、粉末の全量きっかりに湿潤させた。次に湿潤粉末を80℃で4時間真空乾燥し、酸化セリウム(IV)粉末上に2重量%のレニウムを含む粉末を得た。
次に、オルガノジハロシラン(a)の代わりにメチルトリクロロシラン(MeSiCl3)を含むステンレス鋼バブラーを通して、100sccmのH2をバブリングすることにより、反応を開始した。バブラー中の温度は23℃であった。バブラーを出た気体及び蒸気は、参考例Bで用いた反応器中に通気された。バブラーは、十分な接触時間で設計されており、MeSiCl3蒸気が、バブラーを出て行く気体と平衡となり、その結果、バブラーを出て行くMeSiCl3の流速が、既知の熱力学的関係から求めることができた。反応器流出物は、GC/GC−MSにより60分間にわたって定期的に採取し、様々な反応生成物の量をモニターした。反応器の流出物は、100μLの一定量の注入ループを備えた作動六方弁(Vici)を通過した後、廃棄した。
第1の実施形態は、環状シロキサン化合物を含む生成物の生成方法であって、方法は、
1)少なくとも200℃の温度で、
(a)式R1 2SiX2(式中、各R1は、独立して、水素原子、ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヒドロカルビル基であり、かつ各Xは、独立してハロゲン原子である。)のオルガノジハロシランと、
(c)酸化セリウム(IV)上の遷移金属の触媒(ここで、遷移金属は、レニウム、鉄、ニッケル、及び銅から選択される。)と、を組み合わせることと、
それによって、環状シロキサン化合物を含む生成物を生成することと、を含む、方法である。
Claims (10)
- 環状シロキサン化合物を含む生成物の生成方法であって、前記方法が、
1)少なくとも200℃の温度で、
(a)式R1 2SiX2(式中、各R1は、独立して、水素原子、ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヒドロカルビル基であり、かつ各Xは、独立してハロゲン原子である。)のオルガノジハロシランと、
(c)酸化セリウム(IV)上の遷移金属の触媒(ここで、前記遷移金属は、レニウム、鉄、ニッケル、及び銅から選択される。)と、を組み合わせることと、
それによって、前記環状シロキサン化合物を含む前記生成物を生成することと、を含む、方法。 - (c)酸化セリウム(IV)上の前記遷移金属の触媒を、水素により、工程1)の前に処理することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 工程1)の実施中に(b)水素ガスを加えることを更に含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 工程1)の終了後に前記触媒を再活性化することを更に含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 再活性化が、工程1)を実施するための反応器とは異なる反応器中で実施される、請求項4に記載の方法。
- 工程1)の後に、追加量の酸化セリウム(IV)上の前記レニウムを加えることを更に含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 工程1)が、流動層反応器中で連続的に実施される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記反応器が、大気圧を上回る圧力において作動される、請求項7に記載の方法。
- 前記生成物を前記反応器から取り出すことを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 前記環状シロキサン化合物を前記生成物から回収することを更に含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
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