JPS594446B2 - シロキサン結合の転位方法 - Google Patents

シロキサン結合の転位方法

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JPS594446B2
JPS594446B2 JP55084669A JP8466980A JPS594446B2 JP S594446 B2 JPS594446 B2 JP S594446B2 JP 55084669 A JP55084669 A JP 55084669A JP 8466980 A JP8466980 A JP 8466980A JP S594446 B2 JPS594446 B2 JP S594446B2
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • C08G77/10Equilibration processes

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、オルガノシロキサン重合体を含有しているオ
ルガノシロキサン組成物を化学的結合の転位(Rear
raugement)により再構成することに関するも
のである。
該再構成の目的は、オルガノシロキサン重合体の平均分
子量を変化させることであり、そして本発明の多くの好
適な態様において、平衡化されたシリコーン油組成物を
提供することである。シロキサン結合転位(SiIOx
anebOndrearraugement)を得よう
とする要求及びその方法は長い間知られている。
それによりシロキサン又はシロキサンの混合物のSi−
0結合が、熱力学的に最も安定な状態で系が平衡状態に
達するまで、連続的に分解されそして再形成されるよう
な方法は、一般に、゛平衡”(Equilibrati
On)として知られている。実際には、6平衡1という
語はときどき、該方法が平衡状態への道の全てを行なわ
なくてさえも、低分子量シロキサンからそれより高い重
合体への転位に対してばく然と適用されている。加熱だ
けでもシロキサン結合のこの再分布(Redistri
butiOn)をもたらすが、普通平衡は酸又は塩基で
触媒作用をうける。使用されてきている触媒は、アルカ
リ金属塩基、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、
ルビジウム又はセシウムの酸化物、水酸化物、アルコキ
シド又はシラノレート、第四級塩基、例えばテトラアル
キルアンモニウムもしくはテトラアルキルホスホニウム
水酸化物又はアルコキシド、及び強酸、例えばルイス酸
HCI錯体並びにハロゲン化水素、硫酸、ほう酸及びト
リフルオロメチルスルホン酸である。シロキサン結合転
位の現状の範囲及び複雑性に関して1960年からの指
示を与えている論文は、イ一・アボーン(E.EabO
rn)の書物6有機けい素化合物(0rgan0si1
ie0nC0mp0unds)、アカデミツク・プレス
・インコーポレーテツド、ニユーヨークの255〜26
4頁にのつている。例えば上記のものの如き触媒をシロ
キサン平衡で使用する際には重大な欠点をこうむる。
中性の高品質流体を得るためには、そのような触媒は、
過度の中和及び濾過又は触媒の熱的脱活性化もしくは分
解を必要とする。担持された触媒を使用するとこれらの
触媒の後処理問題のいくつかが避けられることはすでに
見出されている。ブリトン(BrittOn)他の米国
特許2460805(1949年2月8日)が、シロキ
サン平衡用の触媒として酸粘土を使用することを請求し
ている最初の米国特許である。ノツフ(KnOph)他
の米国特許2831008は、例えば炭素カオリン、モ
ントモリロナイト/石英、木炭、漂白土、及びゲル型合
成樹脂の如き微粒化された希酸処理カチオン交換媒体の
使用により触媒作用をうけるシロキサン平衡を記してい
る。エイノン(EynOn)の米国特許3322722
はバツチ反応におけるシロキサン・アルコキシ/アシル
オキシ相互交換は強酸、例えば硫酸、及びスルホン化さ
れた高分子カチオン交換樹脂により触媒作用をうけるこ
とを教示している。メリル(Merrill)の米国特
許3375223は、シラノール縮合が塩化水素活性化
された特定のけい素系物質、例えばけいそう土及び燻蒸
シリカ、により触媒作用をうけることを示している。ス
チユワード(Steward)の米国特許339817
7は酸粘土により触媒作用をうけるSi−H結合の再分
布を示している。リテラル(Litteral)の米国
特許3694405は、高分子硫酸カチオン交換樹脂に
より触媒作用をうける連続的シロキサン平衡を記してい
る。ミラー他の米国特許3714213は、どのように
してメチル及びシラン系水素置換基を含有しているシク
ロポリシロキサンが、Si−CH3及びSi−H基並び
に高分子量鎖末端基を含有しているポリシロキサンを接
触分解しそして環化することにより製造されるかを記し
ている。使用される触媒は、酸処理された粘土又は合成
アルミナシリ、ゲートである。ニツチエ(Nitzsc
he)他の米国特許3816493は、上向き流設計反
応器中で酸粘土及びスルホン化されたスチレンージビニ
ルベンゼン共重合体を使用するオルガノポリシロキサン
の連続的製造を記している。シシリアノ(Sicill
ianO)の米国特許3853933は、ポリシロキサ
ン油が酸活性化されたカーボンブラツク触媒床を使用す
るシロキサン平衡により連続的に製造できることを教示
している。最後に、シシリアノ他の米国特許38539
34は、ポリシロキサン油が酸活性化された粘土カラム
を使用するシロキサン平衡により連続的に製造できるこ
とを示している。本発明は、重合体鎖に結合した懸垂状
の (Pendant)スルホン酸基を有する固体の過弗素
化された(PerfluOrinated)重合体(以
下、この重合体を、「懸垂状スルホン酸基を有している
固体の過弗素化された重合体」と呼ぶことがある)を平
衡化触媒として使用することにより、予期せぬほど非常
に有効である方法で、シロキサン結合が転位でき従つて
オルガノポリシロキサンを平衡化できるとい発見を前提
にしている。
以下、本発明をより詳細に説明する。A シロキサン 本発明はシロキサン結合転位の広い分野における改良を
構成している。
そのままで、それは多種のオルガノポリシロキサン組成
物に適用できる。本発明の最も好適な態様は、クロロシ
ランの加水分解生成物から一官能性シリル基との反応に
より安定なシリコーン油を製造する方法に関している。
例えばジメチルジクロロシランの如き物質の加水分解は
、複雑な混合物を生成し、それの主成分は環式のオクタ
メチルシクロテトラシロキサンである。安定なトリメチ
ルシリル末端遮蔽ポリジメチルシロキサンシリコーン油
を製造するためには、そのような加水分解生成物は例え
ばヘキサメチルジシロキサン又はドデカメチルペンタシ
ロキサンの如き末端遮蔽剤を用いて平衡化される。生成
したトリメチルシリル末端遮蔽されたポリジメチルシロ
キサンシリコーン油の平均分子量、及びその結果の粘度
は、末端遮蔽剤化合物対加水分解生成物のモル比に依存
している。この方法で単独でもしくは混合物状で使用す
るのに適している好適なオルガノシロキサンは次のもの
である。
1.構造 〔ここでMeはメチルでありそしてkは0,1,2・・
・・・・である〕を有する線状物質、例えばヘキサメチ
ルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン及び一般
的に全てのトリメチルシロキシ末端遮蔽された線状ポリ
ジメチルシロキサン、及び2.構造 〔ここでMeはメチルであり、そしてlは3,4・・・
・・・である〕を有する環式物質、例えばヘキサメチル
シクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロ
キサン及び一般的に全ての環式ポリジメチルシロキサン
、本発明の方法で使用できる他の物質には、一般的に以
下に記されている如き化合物及びそれらの混合物が含ま
れる;1.構造 を有する線状物質、 2.構造 を有する環状物質、及び 3.構造 を有するシランエステル。
上記式中、Rは a)水素、 b)脂肪族炭化水素基、例えばメチル、エチル、ビニル
など、c)置換された脂肪族炭化水素基、例えば2ーフ
エニルエチル、2−フエニル一n−プロピルなど、d)
芳香族炭化水素基、例えばフエニルなど、e)置換され
た芳香族炭化水素基、例えばトリルなど、f)アルコキ
シ基、例えばメトキシ、エトキシ、イソプロポキシなど
、g)アシルオキシ基、例えばアセトキシなど、h)シ
ロキシ基、例えばトリメチルシロキシ、ジメチルシロキ
シなど、から選択され、 R′はアルコキシ基であり、 R及びR′は同一分子上で同一又は異なる置換基を表わ
すことができ、KはO又は尽の整数であり、 lは3以上の正の勢数であり、そして Xは0,1,2又は3である。
環式及び線状シリコーンの混合物、トリメチルシロキシ
、置換されたトリメチルシロキシ、アルコキシ、アシル
オキシ又はヒドロキシにより末端遮蔽された線状シリコ
ーン、例えばジメチルジクロロシランの加水分解生成物
中のもの、も本発明に従つて平衡化できる。
その最も広い面では、本発明は一般にシリコーン結合転
位に適用でき、そしてそれに関しては先行技術の上記の
記載中に記されている文献及び特許を参照に採用し、そ
れらの全ては本発明の組成限度に関して参考用に加えら
れている。
アミンは懸垂状のスルホン酸基を含有している固体の過
弗素化された樹脂を中和でき、それによりそれをシロキ
サン結合転位に対して不活性にさせる。
従つて、本発明の方法で使用されるオルガノシロキサン
組成物はアミノ基を実質的に含有していないようにすべ
きである。本発明の方法で出発物質として使用される好
適なオルガノシロキサンには、オルガノシロキサンの混
合物、特に該オルガノシロキサン混合物の粘度が約10
,000センチポイズまでであるような組成物、及び最
も特に好適には混合物が、例えば少量の、ヘキサメチル
ジシロキサン及び例えば多量の、ジメチルシロキサン、
特にオクタメチルシクロテトラシロキサンを含有してい
るような組成物、が含まれる。
本発明に従う他の好適なオルガノシロキサン組成物には
、混合物がメチル水素シロキサンリジメチルシロキサン
;並びにヘキサメチルジシロキサン及び対称性テトラメ
チルジシロキサンからなる群から選択されたオルガノシ
ロキサンからなるものが含まれる。B触媒 本発明の方法を実施する際に使用される触媒系は、懸垂
状のスルホン酸基を含有している固体の過弗素化された
重合体を包含している。
最も好適なものは、下記の名目式(NOminalfO
rmula)〔式中、m=5〜13.5,n=約100
0,そしてz二1,2,3〕のものである。
該触媒並びに本発明で使用できる他の触媒は、構造CF
2−CFOCF2CF(CF3)0CF2CF2S03
Hの化合物、又はさらに広く構造CF2=CFCX)U
OCF2CFRSO3H及び/又はCF2=CFCX)
UOCF(SO,H)CF,Rのビニルエーテルをパー
フルオロエチレン及び/又はパーフルオローアルフアー
オレフインと共重合させることにより製造できる。
上記式中、XはO(CF2)210,0CF2CFY又
は0CFYCF2であり、YはF又はCF3であり、R
はF又は炭素数が10までパーフルオロアルキル基であ
り、そしてuは0,1又は2である。そのような触媒は
通常1000〜500,000の分子量を有するのであ
ろう。本発明に従う最も好適な触媒は、ギブス(Gib
bs)他の米国特許3041317(1962年6月2
6日)、コノリイ(COnnOlly)他の米国特許3
282875及びギブス他の米国特許3624053中
に開示されている。
これらの触媒のあるものは商品名NAFlONとして市
販されている。本発明に従つて使用できる他の触媒には
、分子中に構造又は 〔式中、X,R及びnは上記で定義されている如くであ
る〕の単位を含有している重合体が含まれる。
そのような重合体触媒は、上記のビニルエーテルを、任
意にパーフルオロカーボン溶媒中で、例えばパーフルオ
ロパーオキシド又は弗化窒素の如き過弗素化されたフリ
ーラジカル開始剤を使用して重合することにより製造で
きる。該ビニルエーテルを水性媒体中で過酸化物又はレ
ドツクス開始剤を用いて重合することもできる。これら
の触媒の製造は、コノリイ他の米国特許3282875
及びカバナウ(Cavanaugh)他の米国特許38
82093中に開示されている。C反応技術 本発明に従うシロキサン結合転位は多種の方法で実施で
きる。
最も好適な方法は、生成した生成物が化学的結合平衡状
態のシロキサン液体を包含しているような方法である。
全ての形の、懸垂状のスルホン酸基を含有している固体
のパーフルオロアルキル樹脂を、単独バツチ反応用に、
連続的に攪拌されているタンク反応器中で、及び流動触
媒層を形成させて使用できる。最も好適な方法は、オル
ガノシロキサンを静止した触媒の層中、特に触媒の充填
層中、に連続的に流す方法である。本発明の方法は、オ
ルガノシロキサンを、好適には約70℃〜約180℃の
温度において、そして最も有利には約120℃C〜15
0℃の温度において、懸垂状のスルホン酸基を含有して
いる固体の過弗素化された重合体と接触させることによ
り処理することからなつている。ノ 懸垂状のスルホン酸基を含有している固体のパーフルオ
ロアルキル重合体の使用は、高粘度組成物の処理におい
て特に有利である。
例えば、上記のリテラルの特許中でシロキサン結合転位
用に使用されている高分子スルホン化樹脂は、約125
℃より高い温度において比較的不安定であると示されて
いる。その結果、該方法は約100℃より低い温度で最
良に行なわれる。これらの比較的低い温度においては、
高分子量ポリシロキサンの粘度が限定要素となりはじめ
る。粘度が大きくなればなるほど、連続流カラム上の背
圧(Backpressure)が大きくなる。その結
果流速が目に見えて遅くなる。本発明の触媒は比較的高
い温度において安定であり、従つて、反応混合物を比較
的高い温度に加熱でき、触媒を分解させない。同時に粘
度は比較的低い。シロキサン結合転位方法は、新規な触
媒の分解温度より相当低い、約150℃付近の温度で実
施できることが見出されている。この温度で生じる粘度
低下により、充填層中のシロキサン流体の流速がより速
くなりそしてより効率的となり、さらに背圧が減少する
。別の利点として、平衡化された流体から反応中に生成
した比較的低分子量の環式シリコーンを除去するために
、生成した平衡化された流体を予備加熱しなくてもよく
単にストリツパ一中に直接供給するだけでよいことが挙
げられ、この除去は普通真空下で高められた温度におい
て行なわれていたものである。本発明に従うシロキサン
結合転位には、シロキサン、特に高分子量のもの、の解
重合が含まれる。
しばしば、特に高分子量のすなわち高粘着性のシロキサ
ンを処理するときには、それらは簡便さのために溶媒和
される。本発明に従う懸垂状のスルホン酸基を含有して
いる固体の過弗素化されたアルキル重合体の他の利用方
法は、それを球、立方体、繊維、フイルム、薄片、顆粒
、膜、スクリーン、切断管(すなわち環)の形で又は固
体もしくは多孔性基質状に担持されて、又はカラムに充
填されて使用することからなつている。
増大された強度及び硬さのために、懸垂状のスルホン酸
基を含有している固体の過弗素化された重合体は、本発
明に従つて不活性基質、例えば陶器、金属スクリーン、
テフロン織物など、の上で使用することもできる。
そのような形又はそれより大きい形の、上記のスルホン
酸基を含有している固体の過弗素化された重合体は、固
体床用の理想的な充填用物質を生成する。
充填床中でのゆるい重合体の移動がなく、その結果反応
カラムの詰めものや仲介物を必要としない。従つて、転
位しようとするオルガノシロキサンの該触媒の充填量中
の流れは、本発明の最も好ましい一面をなしている。本
出願の特別な利点は管状形の触媒の使用であろう。
低分子量の環式及び線状シリコーン流を、約70〜15
0℃において、懸垂状のスルホン酸基を含有している固
体の過弗素化されたアルキル重合体の直径がス″の長い
管中に通すことにより、非常に短かい滞留時間(4,5
分程度)内で平衡化されたシロキサン流体が得られる。
静止した触媒の充填層からなる通常用いられているカラ
ム中を流す時に比べて、背圧の相当な減少が得られその
結果反応器のデザインがより簡単となる。より広くは、
これらの利点はシロキサンをスルホン酸基を含有してい
る固体の過弗素化された重合体からなる1個以上の管又
は繊維の中及び/又は周りに流すことにより実現できる
。本発明に従う最も好適な方法は、懸垂状のスルホン酸
基を含有している固体の過弗素化されたアルキル重合体
からなるか又はそれにより被覆されている複数の管から
なる反応器の使用を包含している。
そのような反応器を使用すると、平衡化しようとするシ
ロキサン流体は管中及び管の周りを流れ、その結果驚異
的に速くそして容異に平衡が生じる。D 実験 本発明を下記の実験例により説明する。
しかしながら、これらの説明用の実施例は本発明の範囲
を限定しようとするためのものではない。全ての出発物
質シラン及びシロキサンは高純度のものであり、そして
使用前に蒸留された。
全ての反応は指示されていない限り、窒素雰囲気下で標
準的な研究室用ガラス容器中で行なわれた。実験例中に
記されている略号は下記の如く定義されている。を有す
る化合物。
Glc分析はヒユウレツト・パツカード5830A気体
クロマトグラフ装置を用いて行なわれた。
カラムは10′×/″であり、クロモソルブ750上の
10%UC−W98であり、温度設定は、75℃で2分
間、75℃〜350℃,15でC/分 350℃で45分間 であつた。
実施例 1 シリコーン油平衡化 還流コンデンサ、窒素入口、頭部攪拌装置、゜サーモウ
オツチ及び温度計を備えた200wL1!の丸底フラス
コに、1001のオクタメチルシクロテトラシロキサン
(D4)及び1.01の触媒顆粒を充填した。
混合物を150℃に加熱した。約130℃において、触
媒は赤褐色に変化しそしてD4の目にみえる濃化が観察
された。混合物を自然に90℃に冷却して、4.,66
gのヘキサメチルジシロキサン(MM)を加えた。混合
物を再び150℃に加熱した。粘度は1〜2分以内に劇
的に下がつた。15分後に、懸濁液を粗いガラスフリツ
トを通して濾過して、透明な無色の濾液生成物を与えた
(シリコーン油平衡物)。
使用した触媒をジエチルエーテルで洗浄し、そして乾燥
した。各バツチ後毎に洗浄乾燥された同一の触媒を用い
そして同様な量のD4及びMMを使用してこの反応又は
平衡工程をさらに15回繰返した。唯一の変化は、MM
を150℃において部分的に重合されたD4/触媒混合
物に加えたことであつた。再び直ちに粘度が低下した。
このようにして、触媒活性又は反応速度の明白な損失を
伴なわずに、約17009のD4/MM混合物が1.0
gの触媒により平衡化された。温度が150℃より高く
達したなら、150℃以下の温度ではみられなかつた平
衡物の幾分わずかな着色があつた。実施例 2 低及び高分子量ジメチルシロキサンの両方からのMD,
5Mの製造上記の如くして(実施例1)、MM及びD4
の平衡化における触媒活性に関して2.01の触媒顆粒
の試料を試験した。
活性触媒を濾過し、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥し
、そして次の試験用に貯蔵した。頭部攪拌装置、窒素入
口、還流コンデンサ、及びサーモウオツチを備えた20
0ゴの丸底フラスコ(フラスコ1)に100.0gのD
4及び0.80θの上記の触媒顆粒を充填した。
この混合物を撹拌しながら150℃に加熱した。約45
分後に、高分子量のゴムがフラスコ中で生成した。フラ
スコを冷水浴中で室温に冷却し、16.09のMMを加
えた。同様な装備のフラスコ(フラスコ2)に、100
.0gのD4,l6.OgのMM及び0.80gの上記
の触媒顆粒を充填した。 :次に両方のフラスコを同じ
速度で150℃に加熱した。
フラスコ1の内容物は粘着性が比較的少ないと観察され
、フラスコ2のそれはより粘着性となりはじめた。15
0℃における45分間後に、両方のフラスコを自然に室
温に冷却し、そして一夜貯蔵した。
次にGlc分析用に部分標本をとり出した。フラスコを
さらに90分間150℃に加熱し、そして第二の部分標
本をとり出した。さらに150℃に180分間加熱して
第三の部分標本をとり出した。該部分標本のGlc分析
は、フラスコ2の内容物が150℃において45〜13
5分中に平衡に達したことを示していた。しかしながら
フラスコ1の内容物は、平衡に達するのに約5時間を必
要とした。フラスコ1及び2からの最終的Glc根跡物
は同一であり、両方の場合とも真の平衡に達したことを
示していた。実施例 3 MD,5Mの平衡:速度研究 標準的フラスコに108.6gのD4及び16.09I
(7)MM(MDI,Mを与えるために計算されている
)を充填した。
溶液を90℃に加熱し、そして0.939の触媒顆粒を
加えた。混合物を150℃に急速に加熱し、そして保つ
た。150分間の合計経過時間となるまで、Glc分析
用に部分標本を周期的にとり出した。
Glc分析は下記のデータを与えた。反応の初速は速か
つたが、平衡点に達するにつれて、35分内に劇的に遅
くなつた。
150℃における1時間後に比較的わずかな変化だけが
Glc特性においてみられ、そのことは1時間以内に平
衡点にほとんど達したことを示唆している。
実施例 4シリコーン油流体の安定性 速度研究実施例3からのMD,5M流体を安定性に関し
て簡単に研究した。
フラスコに50.0gの実施例3からの濾過されたMD
,,M流体及び22.09のD4を充填した。最初の混
合後に、Glc分析用に部分標本をとり出した。残りの
溶液を150℃に5時間加熱した。この混合物のGlc
分析値は出発物質のそれと同一であつた。従つてさらに
平衡は生じてなく、生成物は安定であると判定された。
ある量の(むしろ少量の)酸を触媒から除去し、さらに
D4を加えそして熱を与えると、流体は再び平衡化され
た。従つて、生成物流体は完全に中性であるようだ。実
施例 5 シリコーン油の連続的製造 U型の12″×1/4″のステンレス鋼カラム(容量約
5.6CC)をアセトン、トルエン及びヘキサンで洗浄
し、そして次に乾燥した。
一端にグラスウールでゆるく栓をした後に、カラムに約
5.5Iの新しい触媒顆粒(シロキサン反応物とすでに
反応していないもの)を充填した。次に他端にグラスウ
ールでゆるく栓をした。次にカラムの端をスエージ継手
を介して1/16″管と連結させた炉の内部に12″×
1/4″のカラムを有しそしてGlc装置の射出部分中
を出入りする1/6″管を有するGlc炉を加熱器とし
て使用した。射出口を100℃に加熱して液体流用の短
かい予備加熱器として作用させた。1/16″管の長さ
の一端に計量ポンプをとりつけた。
ポンプは最大能力において、190mi/時すなわち3
.17m1/分を供給するようにセツトされていた。カ
ラム中を通る物質を集めるために受器を使用した。MM
及びD4の貯蔵溶液(14.6/100のMM/D4重
量比を生成するように計算されている)を貯蔵器中にい
れ、そしてそれをポンプでカラム中に190Tni/時
の最大速度で送つた。
温度は最初70℃にセツトされ、そして10℃間隔で上
昇させて最高150℃にした。ある特定温度になつてか
ら10分後に、その後のGlc分析用の試料を採取した
。31w1jのMM/D4混合物がカラム中を10分間
で(空のカラム容量の5.6倍)通過するため、10分
間の持ち時間がカラム中を流れる物質の真の代表的試料
を与えるのである。
集められた試料をGlcにより分析すると下記の結果を
与えた。幾分かの少量の平衡が70℃でみられたが、こ
れらの流速においては130℃で事実上完全な平衡が観
察された。
このカラムを用いての第二の実験を100℃において終
了させると、触媒顆粒は膨潤されておりそして触媒はカ
ラムの両端から押し出されてその結果カラムをふさいで
いることがみられた。
従つて、150℃においてMM/ D4で予備処理され
た触媒を使用することが、推奨される工程であると示唆
された。MM/D4平衡ですでに使用された触媒を使用
して同様なカラムを製造した。
反応は上記の方法と同じに行なわれた。試料の採取前に
10分間の待ち時間をとつて、10℃毎に試料を収集し
た。これらの条件下では、あらかじめ反応していない触
媒は膨潤の証拠を与えたが、反応済みの触媒は膨張の徴
候を与えなかつた。この実験からの結果を以下に示す。
両方の実験からのデータは、触媒が上記の予備処理に関
係なくほぼ同じ活性を示すことを大体一致して示してい
る。
これらの実験用の空のカラム滞留時間は1.7分間であ
ると計算された。触媒粒子がカラム容量の50%以上を
占領していると控え目に仮定すると、実際の滞留時間は
1分より少なくなり、それは確かに短かい滞留時間であ
る。シリコーン油平滑:管状形の触媒2mの、1/8I
管状の触媒を、4〜5インチコイル中に巻いた。
端部をスエージ・アダプターを使用して1/8″ステン
レス鋼管に、コイルが加熱器として使用するGlcの炉
室の内部に設置されるように連結させた。S/S管の最
初の部分を第二の射出口を通して出口貯蔵器に送つた。
(MD,5Mを与えるための)MM/D4シロキサン混
合物をコイルを通して140℃の炉温度においてポンプ
で送つた。この流速は25分間保たれ、それは4.5分
間の滞留時間を与えた。GIc分析用に部分標本をとり
出した。分析結果は、最初に存在しているD4の量が4
.5分以内に80%から18(F6に減少することを示
していた。完全な平衡は示されなかつたが、このデータ
は反応条件を適切に調節することにより完全な平衡が可
能であることを示唆していた。充填床に対するこの型の
方法の低い背圧は魅力的であり、そして出発物質として
比較的高い粘度の流体を使用する必要がある場合にはさ
らに魅力的なものとなるであろう。実施例 7Si−H
改質されたシリコーン流体の製造B′が−HSi(CH
3)0−と定義されている。
標準的フラスコに87.449のD3D′及び12.5
6gの(MD,,D4′Mを与えるための)JMMを充
填した。
完全な混合後に、最初のSiH分析用の部分標本をとり
出した。残りに、0.909の触媒粒子を加え、そして
混合物を150℃に加熱した。部分標本をGlc分析用
に周期的にとり出した。それは直鎖ジメチルシロキサン
の場合より遅い平衡を示し、そして直鎖ジメチルシロキ
サン平衡では長い滞留時間を用いても広いピークは観ら
れなかつた。4時間後に最終的Si−H分析のために、
試料をとり出した。
SiH計算値 69.5CCH2/9SiH
最初値(分析) 65.1CCH2/9SiH最終値
(分析) 60.8CCH2/9従つて、Sl−Hの
損失は4.3CC/9(全体のSi−Hの6.6%)に
相当していた。
気体(Me2SiH2)の発生はいつでもみられなかつ
た。実施例 8MeSi(0Et)3及びD4の平衡 触媒粒子の試料を使用前に触媒活性に関して検査した。
1.09の触媒粒子が存在していると、150℃におい
て15分間以内に急速に重合されて(すなわち平衡化さ
れて)、粘着性の液体となつた。
5.09のMMを加えるとほとんどすぐにこの液体は薄
くなつた。
触媒を濾過し、ジエチルエーテルで洗浄し、そして使用
前に乾燥した。標準的装置を火炎乾燥し、そして窒素を
流した。冷却されたフラスコに100.9のD4,l6
.58flのMeSi(0Et)2及び上記の節から回
収された触媒を充填した。次にフラスコの内容物をでき
るだけ急速に150℃に加熱し、そして150℃に保つ
だ.1,g1C分析用に部分標本を周期的にとり出した
。MeSi(0Et)3は非常に急速に(15分以内)
反応混合物から消えたが、D4はその速度では流体と平
衡化していないことが観察された。2時間後に、Glc
面積%によるとD4は流体の53%に達し、5時間後に
はD4の量は相当減少し、8時間後には混合物が平衡に
達したかもしくはその近くであると結論された。
攪拌を停止すると触媒はフラスコの底に沈殿し、そして
平衡物を注射器により注意深くとり除いた。触媒を20
Tn1,ずつのD4(特に5A分子ふるい上で乾燥され
たもの)で3回洗浄した。次にフラスコに1009のD
4(ふるい上で乾燥されたもの)及び14.89のこれ
もふるい上で乾悌されたMMを充填した。この混合物を
150℃に急速に加熱し、その間にGlc分析用に一部
分を周期的にとり出した。GIc根跡物の試験結果を以
下に示す。これらのデータを分析すると、この反応は実
施例3の反応よりわずかだけ遅いことがわかる。
これはわずかに異なる触媒充填量によるものであろう。
触媒の触媒活性はD4/MeSi(0Et)平衡では損
なわれなかつたことがわかる。上記のD4/MeSi(
0Et)3系における最終的Glc根跡物をKOHで触
媒作用をうけた平衡物と比較すると、同じ様であるが、
完全には同一でない根跡物であることがわかる。
従つてこの系を平衡もしくはそれに近いと仮定すること
ができる。実施例 9直鎖ジメチルシロキサン 機械的スタラ一を備えた250dの丸底フラスコに、1
00.09のD4環式テトラマ一及び3,49のMD,
sOMを与えるためのMD3Mを充填し、その後1.1
69の触媒粒子を添加した。
混合物を連続的に攪拌しながら急速に加熱し、そして1
40℃に約11/4時間保つた。140℃に達して約1
5分後に、粘度増加があられれた。
生成した流体を熱時に剰1ル、そしてGPC及び粘度分
析用に試料を採取した。GPC分析は、8400の平均
分子量に相当する主要ピークを示した。最終的平衡物の
粘度は147センチポイズであることが見出された。実
施例 10 直鎖ジメチルシロキサン 機械的スタラ一を備えた250dの丸底フラスコに、1
46.29のD3,3.859の(MD,OOMを与え
るための)MD3M及び1.09の触媒粒子を充填した
混合物を連続的に攪拌しながら急速に加熱し、そして1
45℃に3時間15分保った。生成した流体を熱時に濾
過し、そしてGPC及び粘度分析用に試料を採取した。
GPC分析は13,000〜14,000の平均分子量
に相当する主要ピークを示した。粘度は305センチス
トークであることが見出された。実施例 11〜15 下記の実施例では、高純度ヘキサメチルジシロキサン(
MM)及びデカメチルシクロペンタシロキサン(D5)
を平衡化させた。
標準的1/!丸底フラスコに、クレイソンアダプタ一、
還流コンデンサ、アルゴン入口、容器温度計、サーモウ
オツチ、上部機械的攪拌装置及びゴム隔壁(一部分除去
用)を装備させた。フラスコに400f!の、1174
の重量比のMM:D5シロキサン混合物を充填した。混
合物に下記の如き759の種々の型及び形の触媒を加え
、そして連続的に125℃に撹拌しながら加熱した。部
分標本(15〜209)をゴム隔壁を通してピペツトに
より周期的にとり出し、ガラス瓶にいれ、そして氷浴で
冷却した。触媒の形が薄片又は粉末である場合には触媒
の一部分も各部分標本毎にとり出され、そしてこれらの
部分標本を粘度分析を行なう前に濾過する必要があつた
。触媒を立方体又は環(すなわち切断管)の形で使用す
る反応においては、触媒は部分標本のとり出しの前にフ
ラスコの底に急速に沈殿した。種々の型及び形の触媒を
用いての平衡化用の還状化合物(D4及びD,)の粘度
データ及び重量%を以下に表わす。使用した触媒は概略
式〔式中、mは各実施例中に示されている如くである〕
により表わされる。
実施例 11 m= 7.5である触媒は粉末形であつた。
各部分標本と共に触媒がとり出されるため、平衡化中の
触媒濃度は変化しなかつた。実施例 12 m= 7.0である触媒は4ミルの薄片であつた。
各部分標本と共に触媒がとり出されるため、平衡化中の
触媒濃度は変化しなかつた。実施例 13 m= 7.5である触媒は立方体(3m771×31/
2n)の形であつた。
反応中に触媒はとり出されなかつたため、触媒の相対的
濃度は各部分標本のとり出し後に増加した。実施例 1
4 m= 6.5である触媒は1/8インチの管の形であつ
た。
触媒は反応中にとり出されなかつたため、触媒の相対的
濃度は各部分標本のとり出し後に増大した。実施例 1
5 m= 6.5である触媒は1/8インチの管の形であつ
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 約70℃〜約180℃の温度において、単独のもし
    くは混合物状のオルガノシロキサンを固体触媒と接触さ
    せ、このさい該固体触媒が重合体鎖に結合した懸垂状の
    スルホン酸基を有する過弗素化された重合体であること
    を特徴とするシロキサン結合の転位方法。 2 約120℃〜約150℃の温度において、該オルガ
    ノシロキサンを該固体触媒と接触させる、特許請求の範
    囲第1項記載の方法。 3 該オルガノシロキサンがオルガノシロキサンの混合
    物である、特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 該オルガノシロキサンの混合物の25℃における粘
    度が約10,000センチポイズ以下である、特許請求
    の範囲第3項記載の方法。 5 該混合物がヘキサメチルジシロキサン及びポリジメ
    チルシロキサンからなる、特許請求の範囲第4項記載の
    方法。 6 該混合物が少量のヘキサメチルジシロキサン及び多
    量のオクタメチルシクロテトラシロキサンからなる、特
    許請求の範囲第5項記載の方法。 7 該混合物が、メチル水素シロキサン;ポリジメチル
    シロキサン;並びにヘキサメチルジシロキサン及び対称
    性テトラメチルジシロキサンからなる群から選択された
    オルガノシロキサンからなる、特許請求の範囲第4項記
    載の方法。 8 該シロキサン結合転位によりシロキサンが解重合さ
    れる特許請求の範囲第1項記載の方法。 9 該オルガノシロキサンが溶媒和されたオルガノポリ
    シロキサンである特許請求の範囲第1項記載の方法。 10 該固体触媒が、ビード、立方体、繊維、フィルム
    、薄片、顆粒、膜、粉末、環、スクリーン又は管の形で
    存在しているか、或いは不活性基質上に担持されている
    、特許請求の範囲第1項記載の方法。 11 該シロキサンを、該固体触媒を含有する1本もし
    くはそれ以上の管中及び/又はその周囲に流す、特許請
    求の範囲第10項記載の方法。 12 該シロキサン結合転位をバッチ式で行なう、特許
    請求の範囲第1項記載の方法。 13該シロキサン結合転位を連続的に撹拌されているタ
    ンク反応器中で行なう、特許請求の範囲第1項記載の方
    法。 14 該オルガノシロキサンを流動触媒の層中に流す、
    特許請求の範囲第1項記載の方法。 15 該オルガノシロキサンを静止した触媒の層中に連
    続的に流す、特許請求の範囲第1項記載の方法。 16 該オルガノシロキサンを触媒の充填層中に連続的
    に流す、特許請求の範囲第15項記載の方法。 17 シロキサン結合転位により、化学的結合の平衡状
    態にあるシロキサン流体が生成される特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 18 該重合体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、mは5〜13.5であり、nは約1000であ
    り、そしてzは1〜約3である〕により特徴づけられて
    いる、特許請求の範囲第1〜17項のいずれかに記載の
    方法。
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