JP6481424B2 - 触媒の抜き出し方法 - Google Patents
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 144
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 188
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 136
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 62
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 56
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 39
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 34
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 21
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 claims description 16
- -1 bisphenol compound Chemical class 0.000 claims description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 13
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 9
- WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1O WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 56
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 33
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 23
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 17
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 16
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 15
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 13
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 12
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- ROSSIHMZZJOVOU-UHFFFAOYSA-N 2-(methylthio)propane Chemical compound CSC(C)C ROSSIHMZZJOVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 5
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 4
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- NJUDGWVAKJCALG-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-2-ylethanethiol Chemical compound SCCC1=CC=CC=N1 NJUDGWVAKJCALG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 2
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical compound CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine Chemical compound C1CSCN1 OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQXIMYREBUZLPM-UHFFFAOYSA-N 1-aminoethanethiol Chemical compound CC(N)S ZQXIMYREBUZLPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBEHQFUSQJKBAS-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 PBEHQFUSQJKBAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJXRKZJMGVSXPX-UHFFFAOYSA-N 4-ethylpyridine Chemical compound CCC1=CC=NC=C1 VJXRKZJMGVSXPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000009043 Chemical Burns Diseases 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000010413 mother solution Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
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Description
ビスフェノールAの生成反応に用いた触媒は、劣化等の理由により一定期間使用した後に交換が必要になる場合がある。触媒を交換するときは、通常、反応器から使用済の触媒を抜き出した後に新しい触媒を供給する。ビスフェノールAの生成反応を行った後の反応器内には、ビスフェノールAや未反応フェノールなどの成分が残存している。そこで、反応器内から触媒を抜き出そうとすると、触媒と接触しているビスフェノールAやフェノールなどの成分が外気などによる冷却によって固化するために触媒の流動性が低下し、抜き出し作業が困難になるという問題があった。
すなわち、本発明の第1の要旨は、ビスフェノールAの生成反応に用いた強酸型イオン交換樹脂触媒を反応器から抜き出す方法であって、前記反応器に気体を導入して加圧し、前記強酸型イオン交換樹脂触媒と接触しているビスフェノールAを含むフェノール溶液を前記反応器下部から押し出した後に、前記反応器から前記強酸型イオン交換樹脂触媒を抜き出すことを特徴とする触媒の抜き出し方法に存する。また、本発明の第2の要旨は、前記ビスフェノールAの生成反応が、フェノールとアセトンからビスフェノールAを生成させる縮合反応、ビスフェノールAの異性体をビスフェノールAに変化させる異性化反応及びフェノールとイソプロペニルフェノールからビスフェノールAを生成させる反応の少なくとも何れかの反応である、第1の要旨に記載の触媒の抜き出し方法に存する。本発明の第3の要旨は、前記加圧が0.05MPaG以上0.5MPaG以下である、第1又は第2の要旨に記載の触媒の抜き出し方法に存する。本発明の第4の要旨は、前記ビスフェノール化合物を含むフェノール溶液中にビスフェノール化合物が1重量%以上25重量%以下含まれている、第1乃至3の何れかの要旨に記載の触媒の抜き出し方法に存する。本発明の第5の要旨は、前記気体が不活性気体である、第1乃至4の何れかの要旨に記載の触媒の抜き出し方法に存する。
本発明の触媒の抜き出し方法は、ビスフェノールAの生成反応(以下、「本発明に係るビスフェノールAの生成反応」と言う場合がある)に用いた強酸型イオン交換樹脂触媒を反応器から抜き出す方法である。本発明の触媒の抜き出し方法は、反応器中でビスフェノールAを含むフェノール溶液と接触している強酸型イオン交換樹脂触媒について、反応器に気体を導入して加圧することにより、ビスフェノールAを含むフェノール溶液を反応器下部から押し出した後、強酸型イオン交換樹脂触媒を抜き出す。
本発明の触媒の抜き出し方法において、ビスフェノールAの生成反応に用いられる強酸型イオン交換樹脂触媒(以下、「本発明に係る強酸型イオン交換樹脂触媒」と言う場合がある)としては、スルホン酸型陽イオン交換樹脂触媒が好ましく、スチレン系モノマーと架橋性モノマーとを含む重合性モノマーの共重合反応で得られたスチレン系共重合体にスルホン酸基を導入した触媒等が更に好ましい。
合の差圧を下げることができる点では大きいことが好ましい。一方、ビスフェノールAの生成反応の選択性や活性などの点では小さいことが好ましい。そこで、本発明に係る強酸型イオン交換樹脂触媒の平均粒径は、通常200μm以上であることが好ましく、400μm以上であることが更に好ましく、また、一方、通常1500μm以下であることが好ましく、1000μm以下であることが更に好ましい。
owex 50W2X」、「Dowex 50W4X」及び「Dowex 50W8X」;Ion Exchange India社製の「Indion 180」及び「Indi
on 225」;Purolite社製の「Purolite CT−222」及び「P
urolite CT−122」等が挙げられる。
本発明に係るビスフェノールAの生成反応においては、反応の転化率及び選択率等を向上させるために、含イオウアミン化合物などの助触媒を強酸型イオン交換樹脂触媒と共存させて用いることが好ましい。
助触媒としては、例えば、チオール基または保護されたチオール基を含有する化合物(以下、「チオール化合物」と略記することがある)などが挙げられる。
おける助触媒による強酸型イオン交換樹脂の変性率は、通常5%以上であり、好ましくは8%以上であり、より好ましくは10%以上であり、また、一方、通常45%以下であり、好ましくは35%以下であり、より好ましくは30%以下である。
本発明に係るビスフェノールAの生成反応においては、触媒樹脂と反応液との密度差が大きくないため、触媒分離作業が要らなくなることから、強酸型イオン交換樹脂触媒は、固定床反応器に充填されていることが好ましい。
ビスフェノールAの製造方法としては、以下の各工程を有する方法などが工業的に好ましい方法として知られている。
すなわち、ビスフェノールAは、フェノールとアセトンとを縮合反応させる「反応工程(A)」、得られた反応混合物から低沸点成分を分離することによりビスフェノールAを濃縮する「濃縮工程(B)」、濃縮された組成物を晶析することによりアダクト結晶(ビスフェノールAとフェノールとの付加物)を含むスラリーを形成した後、該アダクト結晶と母液とを分離する「晶析−固液分離工程(C)」、母液から分離されたアダクト結晶からフェノールを分離してビスフェノールAを回収する「フェノール除去工程(D)」、及びアダクト結晶から分離された母液を精製する「母液精製工程(E)」の各工程を有する製造方法により製造することができる。
ここで、反応工程(A)のフェノールとアセトンからビスフェノールAを生成する縮合反応、異性化工程(F)のビスフェノールAの異性体をビスフェノールAに異性化する反応及び母液精製工程(E)のフェノールとイソプロペニルフェノールからビスフェノールAを再結合させる反応が、本発明に係るビスフェノールAの生成反応に相当する。なお、本発明の触媒の抜き出し方法は、これらの何れか1つのビスフェノールAの生成反応に用いた触媒を抜き出すときに行っても良いし、全てのビスフェノールAの生成反応に用いた触媒を抜き出すときに行っても良い。
反応工程(A)では、本発明に係る強酸型イオン交換樹脂触媒の存在下で、フェノールとアセトンとを接触させることにより縮合反応させる。反応工程(A)では、助触媒を共存させておくことが好ましい。原料のフェノールとアセトンは、通常、化学量論的にフェノール過剰で反応させる。すなわち、フェノールとアセトンとの供給モル比(フェノール/アセトン比)は、通常3以上、好ましくは5以上であり、また、一方で、通常30以下、好ましくは20以下である。反応温度は、通常50℃〜100℃である。反応圧力は、通常、常圧〜600kPa(絶対圧力)である。反応器に供給する原料混合物の液空間速度は、通常0.2〜50時間−1である。
することができる。原料のフェノールとしては、市販品をそのまま使用しても良い。但し、原料フェノール中に不純物が含まれている場合は、予め酸性イオン交換樹脂のような酸性触媒と接触させることにより不純物を重質化させた後に蒸留などにより除去した精製フェノールを使用することが好ましい。なお、この精製フェノールは、後述する晶析−固液分離工程(C)に供給することも好ましい。
濃縮工程(B)においては、上記の反応工程(A)で得られた反応混合物から低沸点成分を分離することによりビスフェノールAを濃縮する。ここで、低沸点成分とは、反応混合物に含まれるフェノールよりも低沸点の成分のことを言う。具体的には、例えば、未反応のアセトン、反応で副生する水、原料に不純物として含まれるアルコールなどが挙げられる。濃縮工程(B)における低沸点成分の分離方法は、反応混合物から低沸点成分を分離できれば特に限定はない。具体例を挙げると、反応工程(A)で得られた反応混合物を、蒸留塔を用いて蒸留し、蒸留塔の塔頂から低沸点成分を分離する方法などが挙げられる。なお、ここで、ビスフェノールA及びフェノールは、通常、塔底液に含まれる。上記蒸留塔は、1基または複数基の公知のものが使用できる。蒸留は、常圧で行っても良いが、低温の供給熱源を用いて蒸留することによりビスフェノールAの熱分解を抑制しやすいことから減圧蒸留により行うことが好ましい。減圧蒸留は、通常、温度50〜150℃、圧力50〜300mmHgで行われる。なお、低沸点成分の分離においては、反応混合物中に含まれる未反応フェノールの一部を低沸点成分と共に塔頂から抜き出しても良い。また、塔頂から低沸点成分を抜き出した後、反応混合物中に残留しているフェノールを更に蒸留塔を用いて抜き出す、または、反応混合物にフェノールを添加することによりビスフェノールA濃度を調整してもよい。
濃縮工程(B)により低沸点成分を分離されたビスフェノールAを含む組成物は、晶析−固液分離工程(C)の晶析原料になる。
晶析−固液分離工程(C)においては、上記の濃縮工程(B)で得られた晶析原料から、ビスフェノールAとフェノールとの付加物であるアダクト結晶(以下、「本発明に係るアダクト結晶」と称することがある)を含むスラリーを形成した後、このスラリーを本発明に係るアダクト結晶と母液とに分離する。晶析装置としては、通常、連続晶析装置が使用される。
フェノール除去工程(D)においては、上記晶析−固液分離工程(C)で分離されたアダクト結晶からフェノールを分離することにより、ビスフェノールAを回収する。フェノール除去工程(D)では、通常、100〜200℃にアダクト結晶を加熱溶融し、得られた溶融液から、例えば、蒸留装置、薄膜蒸発器、フラッシュ蒸発器などを使用することにより、フェノールを除去する方法などが採用される。また、これらの方法でフェノール除去後に溶融液中に残存している微量のフェノールを除去するために、上記の操作を行った後、更にスチームストリッピング等により残存フェノールを除去し、ビスフェノールAを精製しても良い。これらの方法は、例えば、特開昭63−132850号公開公報、特開平2−28126号公開公報などに記載されている。
母液精製工程(E)においては、上記晶析−固液分離工程(C)で分離された母液の少なくとも一部について、ビスフェノールAの異性体などの不純物をビスフェノールAに変換するなどにより母液を精製する。母液を精製する方法としては、特に限定されず、公知の方法を適宜に採用することができる。母液から高沸点な成分を除く方法としては、例えば、蒸留などが挙げられる。また、母液に含まれる不純物を有用成分に変換する方法としては、上記晶析−固液分離工程(C)で分離された母液をアルカリ性物質の存在下で加熱することにより、ビスフェノールA及びその異性体[2−(4−ヒドロキシフェニル),2−(2−ヒドロキシフェニル)プロパン]をフェノールとイソプロペニルフェノールとに分解するアルカリ分解工程と、このフェノールとイソプロペニルフェノールとを本発明に係る強酸型イオン交換樹脂触媒等と接触させることにより再結合させてビスフェノールAを生成させる再結合反応工程を含む方法などが挙げられる。なお、アルカリ分解工程の前処理として、不純物濃度を上げて分解反応の効率を上げるために濃縮処理を行うことが好ましい。
ビスフェノールAの回収率が高まることから、上記母液精製工程(E)の前には、下記異性化工程(F)〜回収・晶析−固液分離工程(H)を行うことが好ましい。異性化工程(F)においては、上記晶析−固液分離工程(C)で分離された母液の少なくとも一部を
、本発明に係る強酸型イオン交換樹脂触媒等と接触させることにより、母液中のビスフェノールAの異性体をビスフェノールAに変換させる。また、母液濃縮工程(G)においては、異性化工程(F)を行った液からフェノールなどを蒸留などにより分離することにより該液を濃縮し、ビスフェノールAを晶析に適した濃度に調整する。回収・晶析−固液分離工程(H)においては、母液濃縮工程(G)で濃縮した液から本発明に係るアダクト結晶を含むスラリーを形成した後、このスラリーを本発明に係るアダクト結晶と母液とに分離する。母液は、前述の母液精製工程(E)へ送り、回収・晶析−固液分離工程(H)で分離されたアダクト結晶は、メインプロセスに送られる。また、異性化工程(F)を実施した後の母液を、反応工程(A)の入口や出口に戻すことによっても、ビスフェノールAの回収率を上げることが可能である。これらの各工程は、具体的には、例えば、特開2009―242316号公開公報に記載の方法などにより行うことができる。
本発明の触媒の抜き出し方法は、常温において固結しやすいフェノールやビスフェノールAを含むことから、反応工程(A)のフェノールとアセトンからビスフェノールAを生成する縮合反応に用いた触媒の抜き出しに適用することが好ましい。また、「異性化工程(F)のビスフェノールAの異性体をビスフェノールAにする異性化反応に用いた触媒の抜き出しや母液精製工程(E)のフェノールとイソプロペニルフェノールからビスフェノールAを再結合させる反応に用いた触媒の抜き出しに適用することも好ましい。
上記工程(A)、(E)及び(F)のような本発明に係るビスフェノールAの生成反応に用いた強酸型イオン交換樹脂触媒は、使用による劣化で交換が必要になるなど、使用後にこれを抜き出す必要が生じる場合がある。ここで、ビスフェノールAの生成反応に用いた触媒は、反応器中でビスフェノールAを含むフェノール溶液と接触した状態にある。
該フェノール溶液の組成は、反応器に供給する原料等の組成、反応条件、反応の停止方法などにより異なるが、通常ビスフェノールAが1重量%以上25重量%以下含有されている。
本発明の触媒の抜き出し方法においては、反応器に気体を導入して加圧し、反応器中で触媒と接触しているフェノール溶液を反応器下部へ押し出した後に、触媒を反応器から抜き出す。すなわち、反応器からフェノール溶液を加圧により押し出すことにより、触媒表面のフェノール溶液を効率良く除き、フェノールの固化による触媒の固着が起こり難くなる。特に、気体を用いてフェノール溶液を加圧して押し出すため、フェノール溶液を単に自重で反応器下部から抜き出す場合に比べ、触媒と触媒との間にある液も含め短時間に抜きやすい。特に、反応器が直径数メートル等の大型である場合、フェノール溶液を自重で抜き出した後は、触媒が反応器内に不均一に残り、気体が流れやすい部分をチャネリングして流れてしまうため、フェノール溶液が流れ難い部分でフェノール溶液の固化が起こり易いと考えられる。
混入し難い点でも好ましい。
なお、反応器内における触媒の流動性を上げるために、水を加えても良い。水を加える場合、触媒内部に存在していたフェノールやビスフェノールAが水に溶出して触媒表面で固化する可能性があるため、少量とすることが好ましい。
なお、本発明に係るビスフェノールAの生成反応において含イオウアミン化合物を用いる場合、触媒抜き出しに水を用いると臭気が発生しやすいことが本発明者らの検討により判明した。臭気は、触媒の使用に伴い、含イオウアミン化合物が変質することにより生成した硫化水素、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、硫化メチル、二硫化メチル、メチルイソプロピルスルフィドなどの含硫黄化合物によるものと考えられる。本発明の触媒の抜き出し方法は、触媒抜き出し時に水を用いたとしても少量で済むことから、強い臭気は生じ難いと考えられる。そこで、触媒の流動性の低下や臭気の発生が起こり難い点から、本発明の触媒の抜き出し方法で水を用いる場合は、触媒と接しているフェノールに対して、5重量%以下となるように用いることが好ましく、0.5重量%以下となるように用いることが更に好ましい。
上述のフェノールとアセトンとを縮合反応させる「反応工程(A)」、得られた反応混合物から低沸点成分を分離することによりビスフェノールAを濃縮する「濃縮工程(B)」、濃縮された組成物を晶析することによりアダクト結晶を含むスラリーを形成した後、該アダクト結晶と母液とを分離する「晶析−固液分離工程(C)」、母液から分離されたアダクト結晶からフェノールを分離してビスフェノールAを回収する「フェノール除去工程(D)」、及びアダクト結晶から分離された母液を精製する「母液精製工程(E)」の各工程を有する方法によりビスフェノールAを製造した。
実施例1において、「フェノール除去工程(D)」と「母液精製工程(E)」の間に、「異性化工程(F)」、「母液濃縮工程(G)」及び「回収・晶析−固液分離工程(H)」を有する方法によりビスフェノールAを製造した。
異性化工程(F)においては、ビスフェノールAの異性体(2,4′−体)を、未変性強酸型陽イオン交換樹脂触媒(三菱化学社製「Diaion SK104」;平均粒径730μm、均一係数(D60/D10)が1.5)と接触させることにより、ビスフェノールA(4,4′−体)に異性化させた。この異性化反応に使用された触媒を、実施例1と同様の操作により反応器から抜き出した。なお、異性化反応器中で触媒は、ビスフェノールA濃度が10重量%である65℃のフェノール溶液中に浸漬された状態になっていた。抜き出された触媒は、流動性を有していた。なお、フェノールの廃液(反応器から押し出されたフェノール溶液)は23m3であった。
反応器中で、2−(4−ピリジル)エタンチオール変性強酸型陽イオン交換樹脂触媒(三菱化学社製「Diaion SK104」;平均粒径730μm、均一係数(D60/D10)が1.5)を用いて、フェノールとアセトンとを供給モル比(フェノール/アセトン)3〜30で接触させ縮合反応させることにより、ビスフェノールAを合成した。この縮合反応器中でビスフェノールA濃度が14重量%である65℃のフェノール溶液に浸漬された状態になっていた変性強酸型陽イオン交換樹脂触媒を、以下の操作により反応器から抜き出した。先ず、反応器上部から反応器内に窒素ガスを約1時間流し、反応器内が0.15MPaGとなるように加圧することにより、反応器下部からフェノール溶液を押し出した。その後、フェノールを供給し、24時間、60t・時間―1で反応器と隣接タンク間で循環させた。循環させたフェノールを、窒素ガスを用いて、先の反応後のフェノール溶液の場合と同様の方法で圧力をかけて反応器から押し出した。その後、反応器上部に設置されているマンホールから、バキューム車に接続されたホースを挿入し、吸引することにより反応器から触媒を抜き出した。取り出された触媒は、流動性を有していた。なお、フェノールの廃液は、反応後の残留フェノール溶液と循環させたフェノールを合わせ
て470m3であった。なお、触媒を抜き出した時に含イオウアミン化合物由来と思われる臭気は少なかった。
実施例3について、均一係数(D60/D10)が1.05以下である強酸型陽イオン交換樹脂のスルホン酸基の15%を2−(2−ピリジル)エタンチオールで変性させた触媒を用いた以外は、実施例3と同様に触媒を抜き出した。実施例3と同様、抜き出された触媒は、流動性を有していた。また、触媒を抜き出した時に含イオウアミン化合物由来と思われる臭気は少なかった。
実施例3について、フェノールの代わりに、水を10重量%含むフェノールを循環させた以外は、実施例3と同様に触媒を抜き出した。実施例3と同様、抜き出された触媒は、流動性を有していたが、含イオウアミン化合物由来と思われる臭気が発生した。
実施例3について、反応後に反応器内を常圧の窒素でパージすることにより残留フェノール溶液を自重で反応器下部から抜き出した以外は、実施例3と同様に触媒を抜き出そうとしたが、触媒が固着してしまい、全量抜き出すことができなかった。
上記の結果より、本発明の触媒の抜き出し方法により、簡便に、触媒を固化させずに抜き出せることが裏付けられた。
含水率20重量%の含水フェノールと、使用済みの変性強酸型陽イオン交換樹脂とを接触させた場合に発生する臭気物質とその濃度を特定するために以下の実験を行った。
実施例3に記載の使用済み変性強酸型イオン交換樹脂触媒6gを、80℃に加温したジャケット付きガラスカラム(内径10mm、高さ200mm)に充填し、含水率20重量%のフェノール8.5ミリリットルを加えて3分間保持した。次に、該カラムに窒素ガスを常圧で30ミリリットル/分で1分間通気して液を排出し、その後3時間窒素ガスの通気を継続し、触媒を通過したガスをサンプリングバッグにて捕集した。捕集したガスをガスクロマトグラフィーにて分析したところ、ガス中のジメチルスルフィド濃度は10.7重量ppm、メチルイソプロピルスルフィド濃度は0.6重量ppmであった。
含水率10重量%の含水フェノールと、使用済み変性強酸型陽イオン交換樹脂とを接触させた場合に生成する物質及びその濃度を特定するために以下の実験を行った。
参考例1において、使用済みの強酸型陽イオン交換樹脂と接触させるフェノールの含水率を10重量%とした以外は参考例1と同様に実施した。その結果、ガス中のジメチルスルフィド濃度は1.9重量ppm、メチルイソプロピルスルフィドは検出されなかった。
含水率5重量%の含水フェノールと、使用済み変性強酸型陽イオン交換樹脂とを接触させた場合に生成する臭気物質及びその濃度を特定するために以下の実験を行った。
参考例1において、使用済みの変性強酸型陽イオン交換樹脂と接触させるフェノールの含水率を5重量%とした以外は参考例1と同様に実施した。ガス中にジメチルスルフィド、およびメチルイソプロピルスルフィドは検出されなかった。
含水率0.1重量%の含水フェノールと、使用済み変性強酸型陽イオン交換樹脂とを接触させた場合に生成する臭気物質及びその濃度を特定するために以下の実験を行った。
参考例1において、使用済みの変性強酸型陽イオン交換樹脂と接触させるフェノールの含水率を0.1重量%とした参考例1と同様に実施した。ガス中にジメチルスルフィド、
およびメチルイソプロピルスルフィドは検出されなかった。
Claims (5)
- ビスフェノールAの生成反応に用いた強酸型イオン交換樹脂触媒を反応器から抜き出す
方法であって、前記反応器に不活性気体を導入して加圧し、前記強酸型イオン交換樹脂触
媒と接触しているビスフェノールAを含むフェノール溶液を前記反応器下部から押し出し
た後に、前記反応器から前記強酸型イオン交換樹脂触媒を抜き出すことを特徴とする触媒
の抜き出し方法。 - 前記ビスフェノールAの生成反応が、フェノールとアセトンからビスフェノールAを生
成させる縮合反応、ビスフェノールAの異性体をビスフェノールAに変化させる異性化反
応及びフェノールとイソプロペニルフェノールからビスフェノールAを生成させる反応の
少なくとも何れかの反応である、請求項1に記載の触媒の抜き出し方法。 - 前記加圧が0.05MPaG以上0.5MPaG以下である、請求項1又は2に記載の
触媒の抜き出し方法。 - 前記ビスフェノールAを含むフェノール溶液中にビスフェノール化合物が1重量%以上
25重量%以下含まれている、請求項1乃至3の何れか1項に記載の触媒の抜き出し方法
。 - 前記不活性気体が窒素又はアルゴンである、請求項1乃至4の何れか1項に記載の触媒
の抜き出し方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015041410A JP6481424B2 (ja) | 2014-03-20 | 2015-03-03 | 触媒の抜き出し方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014058793 | 2014-03-20 | ||
JP2014058793 | 2014-03-20 | ||
JP2015041410A JP6481424B2 (ja) | 2014-03-20 | 2015-03-03 | 触媒の抜き出し方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015192994A JP2015192994A (ja) | 2015-11-05 |
JP6481424B2 true JP6481424B2 (ja) | 2019-03-13 |
Family
ID=54432559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015041410A Active JP6481424B2 (ja) | 2014-03-20 | 2015-03-03 | 触媒の抜き出し方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6481424B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0675681B2 (ja) * | 1989-07-20 | 1994-09-28 | 三井東圧化学株式会社 | イオン交換樹脂の再生方法 |
JP3425772B2 (ja) * | 1992-08-05 | 2003-07-14 | 出光石油化学株式会社 | イオン交換樹脂の洗浄方法 |
JP3741761B2 (ja) * | 1995-12-26 | 2006-02-01 | 新日鐵化学株式会社 | 使用済みイオン交換樹脂触媒の抜き出し方法 |
JP4932221B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2012-05-16 | 出光興産株式会社 | 使用済みイオン交換樹脂触媒の抜出方法 |
JP2009242316A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | ビスフェノールaの製造方法 |
JP2011213641A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | ビスフェノールa製造装置の洗浄方法 |
JP5807530B2 (ja) * | 2011-12-07 | 2015-11-10 | 栗田工業株式会社 | 充填塔からの液抜き方法及び充填塔システム |
-
2015
- 2015-03-03 JP JP2015041410A patent/JP6481424B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015192994A (ja) | 2015-11-05 |
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|
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|
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|
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