JP6478723B2 - 耐熱樹脂シートのナノインプリント法およびそれを用いて転写された耐熱樹脂シート - Google Patents
耐熱樹脂シートのナノインプリント法およびそれを用いて転写された耐熱樹脂シート Download PDFInfo
- Publication number
- JP6478723B2 JP6478723B2 JP2015044988A JP2015044988A JP6478723B2 JP 6478723 B2 JP6478723 B2 JP 6478723B2 JP 2015044988 A JP2015044988 A JP 2015044988A JP 2015044988 A JP2015044988 A JP 2015044988A JP 6478723 B2 JP6478723 B2 JP 6478723B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistant resin
- heat
- resin sheet
- mold
- polyimide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 title claims description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 44
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 39
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 39
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 238000000089 atomic force micrograph Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000004549 pulsed laser deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000011370 conductive nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000001053 micromoulding Methods 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001233 yttria-stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
これまで、熱可塑性樹脂やガラス等の材料をガラス転移点以上に加熱し、モールドを押し当ててプレスしてパターンを転写成形する熱ナノインプリント法や、基板上に塗布した液状の光硬化性樹脂を加圧変形させ紫外光を照射することにより、樹脂を硬化させ転写成形を行う光インプリント法等が提案されている。
さらに、市販のサファイア基板を大気中で加熱することで、自己組織的に形成される原子ステップパターンを持つサファイア基板を作製し、このサファイア基板をモールドとして、ポリメチルメタクリレート(PMMA)に対し熱ナノインプリントを行うことで、PMMA表面に原子ステップパターンを転写する方法が報告されている(非特許文献1参照)。
しかしながら、ナノインプリント技術は鋳型を用いてその表面微細凹凸パターンを基板などへ転写する技術であり、また転写される凹凸パターンも極めて微細なものであるため、ナノインプリント技術が適用できる加工材料には実質的な制限があると考えられてきた。具体的な加工材料としては、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、ABS等が挙げられる。その他、PE、PP、PVC等の熱可塑性プラスチックを適用することも考えられる。これらの材料の常用耐熱温度は、100℃以下であるか、せいぜい百数十度である。耐熱性の高い材料へナノインプリント技術を適用することは難しいとされていた。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、その課題は、耐熱性樹脂シートにサブナノメートルオーダーのパターン転写することができる方法の提供、およびそれを用いて作製された耐熱性樹脂シートを提供することである。
なお、特許文献1のポリイミドは低い温度での加工性を有すると記載されている。ただし、その加工性とは、押し出しや射出による成形加工性を指し、より具体的には加熱状態でプレスすることにより、0.1〜5000μm程度の厚さを有するフィルムを成形できる性能を意味する。サブナノメートルオーダーの微細加工性については、特許文献1は記載も示唆もしていない。
サブナノメートルオーダーの転写パターンを有する鋳型を用意し、
該鋳型の転写パターン面に耐熱性樹脂シートを接するように配置し、
該耐熱性樹脂シートを加熱し、
該鋳型の転写パターン面を該耐熱性樹脂シートに押圧し、
該耐熱性樹脂シートを該鋳型から取り出すことを、含んでなる方法。
[2]該耐熱性樹脂シートは鋳型に直接接するように配置される、項目[1]に記載の方法。
[3] 該押圧する圧力が0.2MPa以上である、項目[1]または[2]に記載の方法。
[4] 項目[1]〜[3]のいずれか1項に記載の方法によって得られた、サブナノメートルオーダーの被転写パターンを有する耐熱性樹脂シート。
[5] 該耐熱性樹脂は、全光線透過率が80%以上の透明耐熱性樹脂である、項目[4]に記載の耐熱性樹脂シート。
[6] 該被転写パターン上にITO膜を備えた、項目[4]または[5]に記載の耐熱性樹脂シート。
[7] 該耐熱性樹脂がポリイミドである、項目[4]〜[6]のいずれか1項に記載の耐熱性樹脂シート。
サブナノメートルオーダーの転写パターンを有する鋳型を用意する工程、
該鋳型の転写パターン面に耐熱性樹脂シートを接するように配置する工程、
該耐熱性樹脂シートを加熱する工程、
該鋳型の転写パターン面を該耐熱性樹脂シートに押圧する工程、
該耐熱性樹脂シートを該鋳型から取り出す工程。
まず、サブナノメートルオーダーの転写パターンを有する鋳型を用意する。
鋳型には、転写するためのサブナノメートルオーダー(0.1nm単位)の転写パターンを形成する。鋳型は、化学的、機械的に安定であり、サブナノメートルオーダーの転写パターンを保持することが容易であり、繰り返しの転写に耐えられるものであればよく、例えば、表面が酸化物、窒化物、炭化物からなる材料を用いてもよい。より具体的には、Al2O3、SiO2、YSZ、TiO2、SrTiO3、ZnO、AlN、TiN、Si3N4、AlGaN、SiC、TiC、C(Diamond)、C(Graphite)などでもよい。鋳物は、予め鏡面研磨などの手段により、表面を原子レベルで平坦化を行う。平坦化された鋳物に対して、加熱・エッチング等の手段により、転写パターンを形成する。サブナノメートルオーダーの転写パターンの例として、サファイア(α-アルミナ)の(0001)近傍の面を熱処理し、自己組織化した際に表れるステップ構造が挙げられる。自己組織化した基板上の原子ステップの高さは、最外面の結晶面(c面、a面、r面、m面、R面等)を選択することによって調整できる。また、ステップのテラス幅(踏面幅)は、基板を研磨する際の、結晶面と研磨面とのずれ角によって調整できる。
なお、本発明におけるガラス転移温度は、以下のように測定される。
[ガラス転移温度(Tg)]:熱機械分析装置(TMA−50、島津製作所社製)を使用し、窒素気流下、昇温速度を5℃/分として耐熱性樹脂フィルムのガラス転移温度(Tg(℃))を熱機械分析(TMA)により測定した。
耐熱性樹脂シートは、鋳型の転写パターン面に該耐熱性樹脂シートが鋳型に直接接するように配置してもよい。つまり、離形剤を用いることなく、転写後に耐熱性樹脂シートを鋳型から取り出すことが可能である。
加熱温度は、耐熱性樹脂シートのおおよそのガラス転移温度とする。加熱温度の下限は、ガラス転移温度−30℃でもよく、好ましくはガラス転移温度−20℃、より好ましくはガラス転移温度−10℃である。加熱温度がガラス転移温度より低すぎると、十分に転写されないおそれがある。加熱温度の上限は、ガラス転移温度+20℃でもよく、好ましくはガラス転移温度+10℃、より好ましくはガラス転移温度+5℃である。加熱温度がガラス転移温度より高すぎると、転写パターンにむらが生じたり、転写精度が低下したりするおそれがある。
圧力は、0.2MPa以上であれば、精度よくパターン転写され、耐熱性樹脂シート自体の健全性に影響を与えない範囲であれば特に上限はない。ただし、プレス機等の設備の経済性の観点等から、圧力は20MPa以下でもよく、好ましくは10MPa以下、より好ましくは5MPa以下、さらに好ましくは2MPa以下でもよい。
プレス時間はプレス圧・温度などの条件により異なるが、1〜10分の範囲内としてもよい。転写における時間が1分以上であると、被転写体にナノパターンが精度よく転写される。転写における時間が10分以下であると、転写に必要なプロセス時間が短くなり、経済性の観点等から有利である。
なお本発明における全光線透過率とは、樹脂を10〜50μm程度の厚さのフィルムとし、ヘイズメーター(日本電色社製「NDH2000」)により求めた値を30μm厚みに換算したものである。
[全光線透過率]:ヘイズメーター(日本電色社製「NDH2000」)により求めた。
[b*]色彩式差計(測定ヘッド:CR-300 ミノルタカメラ社製)およびデータプロセッサ(DP-300 ミノルタカメラ社製)を使用し、耐熱性樹脂シートの黄味の指標となるb*値を測定した。測定は3回計測し、その平均値を採用する。
耐熱性樹脂シートが透明耐熱性樹脂シートである場合、その全光線透過率が80%以上であるので、ITO膜を備えた透明耐熱性樹脂シートの光透過性も高く、透明性の必要な用途に利用することができる。
施例に限定されるものではないことはもちろんである。
鋳型の材料として、サファイア基板(α−Al2O3)を用いた(並木宝石株式会社より入手)。基板の大きさは10×10mm2であった。このサファイア基板の、r面(10−12)を鏡面研磨し、1200℃で3時間空気中でアニーリングを行い、その後アセトンおよびエタノール中で超音波洗浄した。この鋳型を原子間力顕微鏡観察装置(AFM)により観察を行った。図1に、AFMによる、パターンの表面(10×10μm2)および断面の像を示す。AFMは、(株)日立ハイテクサイエンス製 Nanocuteにて測定を行った。カンチレバーは、Siカンチレバー((株)日立ハイテクサイエンス製 SI−DF40P2)を用いた。表面粗さ(RMS)の測定は、1μm領域を観察後、観察領域において二乗平均粗さ(RMS)を算出した。ステップの高さが0.31(±0.01)nmであり、テラス幅(踏面幅)が500〜700nmであり、表面粗さが(RMS)0.13nmである、サブナノメートルオーダーの転写パターンを有する鋳型が得られた。
ガラス転移温度が220℃以上である耐熱性樹脂として、三井化学(株)製のポリイミドワニス「ECRIOS(商標)」の「VICT−Bnp」から得た、透明ポリイミドシートを用意した。透明ポリイミドシートは、全光透過率が90%、ガラス転移温度が約265〜270℃であり、厚みは20μmであった。このポリイミドシートを、エタノールで洗浄し、鋳型の転写パターン面にポリイミドシートが接するように配置した。
ナノインプリント装置として、SCIVAX(株)製のSCIVAX X300を利用した。ナノインプリント装置は、2つの加熱ステージから構成されている。図2に示すように、加熱ステージの間に、押さえ板としてのガラス状カーボン板、鋳型、ポリイミドシート、押さえ板の順で配置した。装置内は、30hPaとした。なお離形剤は用いなかった。
ポリイミドシートを、ナノインプリント装置の加熱ステージによって、加熱した。加熱温度(転写温度)は、220、240、260、280、300℃の5種類の温度でインプリントを行った。所定の転写温度に達したところで、加熱ステージによって、ポリイミドシートの鋳型への押圧(プレス)をしてインプリントを開始し、5分間所定温度を保持した。0.2、1.0、2.0MPaの3種類の圧力でプレスして、インプリントを行った。
5分間の保持終了後、加熱ステージを30℃まで冷却し、加熱ステージによる押圧を解いた後、ポリイミドシートを該鋳型から取り出した。いずれも、離形剤は用いなかったが、問題なく離形することができた。
試料ごとにAFMで表面および断面の観察を行った。
図3に、260℃でインプリントする前と後のポリイミドのAFM像を示す。鋳型であるサファイア基板は、ステップの高さが0.31(±0.01)nmであり、テラス幅(踏面幅)が500〜700nmであり、表面粗さが(RMS)0.13nmであった。これに対して、インプリントをする前のポリイミドでは、原子ステップは観察されず、表面粗さが(RMS)0.25nmであった。そして、パターンを転写された後のポリイミドでは、ステップの高さが0.30(±0.01)nmであり、テラス幅(踏面幅)が500〜700nmであり、表面粗さが(RMS)0.17nmであった。このように、本発明により、従来のナノインプリントより非常に低い圧力である0.2MPaからポリイミドシートにサブナノメートルオーダー(0.1nm単位)のパターンを非常に良好に転写することができた。
また、図4は、転写温度とインプリント圧力を変化させた場合の、転写の良否をまとめたものである。押圧の圧力は高いほど、良好な転写が得られる傾向があった。
さらに上記のパターンを転写された後のポリイミドに、ITO膜を形成した。
まず、パルスレーザー堆積(PLD)法を用いて、極めて平坦な非晶質ITO(Snドープ酸化インジウム)をポリイミド表面に形成した。具体的には、レーザー分子線エピタキシー(レーザーMBE)装置(ラムダフィジク社製、型式:LPX−100)を用いて、室温(約20℃)で、波長248nmのKrFエキシマレーザー(3J/cm2、5Hz)を、1.0×10−2TorrのO2雰囲気下に置かれた5wt%SnドープITO焼結体ターゲット上に、レンズで集光照射し、非晶質ITO膜をポリイミド表面に堆積させた。得られた非晶質ITO薄膜の厚さは約100nmであった。
次に、堆積された非晶質ITO膜に、真空下(1.0×10−7Torr)240℃で約50分のアニーリングを行って、ITOの結晶化を行った。結晶性の評価には、BrukerAXS社製のX線回折分析装置を使用し、アニーリング後のITO膜が結晶質であることを確認した。
図5に、ITO膜を形成する前後のポリイミド表面のAFM像を示す。AFM像に示されるように結晶性ITOの表面はポリイミド基板の原子ステップ形状を維持していることが確認された。また、ITO膜を備えたポリイミドは透明性を保っていること、ITO膜が導電性を有することも確認できた。
Claims (3)
- ガラス転移温度(Tg)が220℃以上である耐熱性樹脂シートにサブナノメートルオーダーのパターンを転写する方法であって、
サブナノメートルオーダーの転写パターンを有する鋳型を用意し、
該鋳型の転写パターン面に耐熱性樹脂シートを接するように配置し、
該耐熱性樹脂シートを加熱し、
該鋳型の転写パターン面を該耐熱性樹脂シートに押圧し、
該耐熱性樹脂シートを該鋳型から取り出すことを、含んでなり、
該耐熱性樹脂がポリイミドである方法。 - 該耐熱性樹脂シートは鋳型に直接接するように配置される、請求項1に記載の方法。
- 該押圧する圧力が0.2MPa以上である、請求項1または2に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015044988A JP6478723B2 (ja) | 2015-03-06 | 2015-03-06 | 耐熱樹脂シートのナノインプリント法およびそれを用いて転写された耐熱樹脂シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015044988A JP6478723B2 (ja) | 2015-03-06 | 2015-03-06 | 耐熱樹脂シートのナノインプリント法およびそれを用いて転写された耐熱樹脂シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016163969A JP2016163969A (ja) | 2016-09-08 |
JP6478723B2 true JP6478723B2 (ja) | 2019-03-06 |
Family
ID=56876448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015044988A Active JP6478723B2 (ja) | 2015-03-06 | 2015-03-06 | 耐熱樹脂シートのナノインプリント法およびそれを用いて転写された耐熱樹脂シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6478723B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018084140A1 (ja) * | 2016-11-02 | 2018-05-11 | 京セラ株式会社 | カラーホイール用基板、カラーホイールおよびプロジェクタならびにカラーホイール用基板の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002237245A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-08-23 | Sony Corp | スイッチング素子及びその作製方法 |
JP2009050919A (ja) * | 2005-12-13 | 2009-03-12 | Scivax Kk | 微細構造物およびその製造方法 |
JP2009223999A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Konica Minolta Opto Inc | 金型部材、射出成形用金型、及び、磁気記録媒体用基板の製造方法 |
JP2009230811A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Konica Minolta Opto Inc | 金型部材 |
JP4849183B1 (ja) * | 2010-08-05 | 2012-01-11 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム製造用金型の製造方法 |
-
2015
- 2015-03-06 JP JP2015044988A patent/JP6478723B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016163969A (ja) | 2016-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5695799B2 (ja) | 微細パターン転写用のモールドの製造方法及びそれを用いた凹凸構造を有する基板の製造方法、並びに該凹凸構造を有する基板を有する有機el素子の製造方法 | |
KR102109380B1 (ko) | 절연기판상에 그래핀 단일층을 제조하는 방법 | |
JP6272855B2 (ja) | 構造化積層転写フィルム及び方法 | |
TW201637835A (zh) | 工程化週期性結構內之奈米粒子與奈米線的熱輔助自組裝方法 | |
KR101221581B1 (ko) | 그래핀을 포함하는 유연투명전극 기판의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유연투명전극 기판 | |
KR20150014857A (ko) | 열 융착 전사를 이용한 유연 매립형 전극 필름의 제조 방법 | |
KR101735864B1 (ko) | 방향족 폴리이미드 필름, 적층체 및 태양 전지 | |
CA2886007A1 (en) | Device for inspecting substrate having irregular rough surface and inspection method using same | |
WO2014041904A1 (ja) | 凹凸形状付積層体の製造方法および転写フィルム | |
WO2017065530A1 (ko) | 그래핀 저온 전사방법 | |
KR101563231B1 (ko) | 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체 및 이의 제조 방법 | |
Dai et al. | Fabrication of surface-patterned ZnO thin films using sol–gel methods and nanoimprint lithography | |
JP6548425B2 (ja) | フレキシブルデバイスの製造方法及びフレキシブルデバイス並びにフレキシブルデバイス製造装置 | |
JP2016139688A (ja) | 導電パターン基板の製造方法 | |
JP6478723B2 (ja) | 耐熱樹脂シートのナノインプリント法およびそれを用いて転写された耐熱樹脂シート | |
CN110225820A (zh) | 高分子膜层叠基板以及柔性电子设备的制造方法 | |
KR20200088869A (ko) | 직접 그래핀 전사 및 그래핀 기반 디바이스 | |
WO2019104728A1 (zh) | 自牺牲支撑层辅助的石墨烯转移方法及石墨烯 | |
TWI693142B (zh) | 蛾眼轉印模具、蛾眼轉印模具之製造方法及蛾眼結構之轉印方法 | |
KR20120020012A (ko) | 유기-무기 복합체 및 이로부터 제조된 나노임프린트용 스탬프 | |
JP2014202947A (ja) | 微細構造を有する成形体の製造方法およびそれにより得られる光学部品 | |
JP2009233855A (ja) | 転写用型およびその製造方法ならびに転写用型を用いた転写物の製造方法 | |
TW201337313A (zh) | 光學膜及其製備方法 | |
JP6059967B2 (ja) | 樹脂成形品の製造方法 | |
JP2013216552A (ja) | 炭素原子から構成されるフィルムおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180724 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180925 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181016 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6478723 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |