JP6469400B2 - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6469400B2 JP6469400B2 JP2014193933A JP2014193933A JP6469400B2 JP 6469400 B2 JP6469400 B2 JP 6469400B2 JP 2014193933 A JP2014193933 A JP 2014193933A JP 2014193933 A JP2014193933 A JP 2014193933A JP 6469400 B2 JP6469400 B2 JP 6469400B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrafiltration membrane
- water
- ultrapure water
- membrane module
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims description 44
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 94
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 88
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 15
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 6
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 5
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 5
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910021654 trace metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
限外ろ過膜、それを用いたモジュール並びにろ過装置の高性能化、高品質化、高信頼化を図るためには、一般に、限外ろ過膜自身の改良・改善、製造方法等の見直しや開発が必要となる。
sub-50nm微粒子の除去に用いる新しい限外ろ過膜の開発においては、純水や超純水中におけるsub-50nm微粒子の分布やろ過処理中における挙動を把握する必要があるが、これらの点に関する十分な情報が得られていないのが現状である。
本発明に係る超純水製造方法は、被処理水を、限外ろ過膜装置を有する超純水製造装置に通水する超純水製造方法であって、前記限外ろ過膜装置は、直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールを有し、前記直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールにおける後段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量が前段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量よりも小さく設定されることを特徴とする。
限外ろ過膜装置47からの超純水は、ユースポイント48に供給される。二次純水システム42では連続循環運転を行っており、得られた超純水の一部をユースポイント48に送るとともに、残部を純水貯槽43に循環している。なお、熱交換器44とその後段の紫外線酸化装置45との間に、紫外線酸化装置45とその後段の非再生型イオン交換装置46との間、非再生型イオン交換装置46とその後段の限外ろ過膜装置47との間には、必要に応じ、他の装置を設置してもよい。例えば、非再生型イオン交換装置46とその後段の限外ろ過膜装置47との間に、膜脱気装置(図示せず)を設けることができる。
複数段直列された限外ろ過膜モジュールの1段目の限外ろ過膜で除去しきれなかった微粒子は、1段目より後の後段において更に除去される。限外ろ過膜の孔径は完全な均一ではなく、通常は分画分子量を規定するメインの孔径を含むバラツキを有している。このメインの孔径を有する孔が孔径分布において最も大きな割合を占めるが、このメインの孔径よりも大きな孔があると、除去対象のサイズの微粒子がそこを通過して除去できない場合が生じる。即ち、規定された分画分子量よりも大きい分子量の物質が捕捉されない可能性がある。このような前段の限外ろ過膜モジュールを通過した規定の分画分子量より大きい微粒子を後段の限外ろ過膜モジュールで捕捉することができる。また、同様に、限外ろ過膜にはメインの孔径よりも小さい孔が存在する場合もあるので、前段の限外ろ過膜モジュールを通過した規定の分画分子量よりも小さい分子量の物質を後段の限外ろ過膜モジュールで捕捉することができる。したがって、複数段に設けられる限外ろ過膜モジュールは、後段になるに従い、除粒子性能の高い限外ろ過膜を使用する必要はなく、同等レベルのものを使用してもよい。例えば、前段の限外ろ過膜モジュールの分画分子量を6000とし、後段の限外ろ過膜モジュールの分画分子量を5000とする必要はなく、前段、後段ともに分画分子量6000の限外ろ過膜モジュールを2段直列に接続しても、1段のみの場合に比べて限外ろ過膜装置としての除粒子性能が向上する。
42 二次純水システム
43 純水貯槽
44 熱交換器
45 紫外線酸化装置
46 非再生型イオン交換装置
47a、47b 限外ろ過モジュール
47−2 配管
47−1 供給口
47−3 取出口
47a−1、47b−1 濃縮水排出口
Claims (6)
- 限外ろ過膜装置を有する超純水製造装置であって、
前記限外ろ過膜装置は、直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールを有し、
前記直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールにおける後段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量が前段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量よりも小さく設定される
ことを特徴とする超純水製造装置。 - 前記後段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量が該後段の限外ろ過膜モジュールに供給される被処理水の1容量%以下である請求項1に記載の超純水製造装置。
- 前記直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールにおける少なくとも最下段の限外ろ過膜モジュールが全ろ過運転される請求項1または請求項2に記載の超純水製造装置。
- 被処理水を、限外ろ過膜装置を有する超純水製造装置に通水する超純水製造方法であって、
前記限外ろ過膜装置は、直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールを有し、
前記直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールにおける後段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量が前段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量よりも小さく設定される
ことを特徴とする超純水製造方法。 - 前記後段の限外ろ過膜モジュールの濃縮水の水量が該後段の限外ろ過膜モジュールに供給される被処理水の1容量%以下である請求項4に記載の超純水製造方法。
- 前記直列に接続された複数個の限外ろ過膜モジュールにおける少なくとも最下段の限外ろ過膜モジュールが全ろ過運転される請求項4または請求項5に記載の超純水製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014193933A JP6469400B2 (ja) | 2014-09-24 | 2014-09-24 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014193933A JP6469400B2 (ja) | 2014-09-24 | 2014-09-24 | 超純水製造装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016064342A JP2016064342A (ja) | 2016-04-28 |
JP2016064342A5 JP2016064342A5 (ja) | 2017-10-26 |
JP6469400B2 true JP6469400B2 (ja) | 2019-02-13 |
Family
ID=55804692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014193933A Active JP6469400B2 (ja) | 2014-09-24 | 2014-09-24 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6469400B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6670206B2 (ja) * | 2016-08-24 | 2020-03-18 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置 |
JP6921521B2 (ja) * | 2016-12-15 | 2021-08-18 | サッポロビール株式会社 | 不凍液の再生方法、及び不凍液の再生システム |
KR20200134217A (ko) | 2018-03-27 | 2020-12-01 | 노무라마이크로사이엔스가부시키가이샤 | 초순수 제조 시스템 및 초순수 제조 시스템의 운전 방법 |
KR20200138181A (ko) | 2018-03-27 | 2020-12-09 | 노무라마이크로사이엔스가부시키가이샤 | 초순수 제조 시스템 및 초순수 제조 방법 |
JPWO2019188964A1 (ja) | 2018-03-27 | 2021-03-11 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0615271A (ja) * | 1992-06-12 | 1994-01-25 | Suido Kiko Kk | 透過膜による上水道用ろ過装置 |
JPH1099855A (ja) * | 1996-08-05 | 1998-04-21 | Sony Corp | 限外濾過機能を備える超純水供給プラント、および超純水の供給方法 |
JP2008237971A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Miura Co Ltd | 膜濾過システムの運転方法 |
SG10201913848TA (en) * | 2011-01-17 | 2020-03-30 | Evoqua Water Tech Llc | Method and system for providing ultrapure water |
JP6075032B2 (ja) * | 2012-11-26 | 2017-02-08 | 三浦工業株式会社 | 純水製造装置 |
JP6304259B2 (ja) * | 2013-10-04 | 2018-04-04 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
-
2014
- 2014-09-24 JP JP2014193933A patent/JP6469400B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016064342A (ja) | 2016-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6469400B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP6304259B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
TWI771310B (zh) | 超純水製造裝置 | |
JP5082661B2 (ja) | 水処理システム | |
JP2009028695A (ja) | 純水製造装置及び純水製造方法 | |
JP5834492B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP5900527B2 (ja) | 低分子量有機物含有水の処理方法 | |
WO2012114395A1 (ja) | 研磨剤の回収方法および研磨剤の回収装置 | |
JP5953726B2 (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
CN104150624A (zh) | 半导体行业硅片研磨废水回用的处理方法 | |
JP6344114B2 (ja) | 水処理装置及び水処理設備の洗浄方法 | |
US9993774B2 (en) | Filtration system and filtration method | |
WO2020209036A1 (ja) | 膜脱気装置の洗浄方法及び超純水製造システム | |
JP7171386B2 (ja) | 超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置 | |
JP2013204956A (ja) | 純水冷却装置の運転方法 | |
JP2006218341A (ja) | 水処理方法および装置 | |
KR20170057491A (ko) | 제어-삼투 및 역삼투를 이용한 담수화 시스템 | |
JP7109505B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2002001069A (ja) | 純水製造方法 | |
JP2005046762A (ja) | 水処理方法および装置 | |
KR101544407B1 (ko) | 역삼투 분리막의 파울링 저감 방법 | |
TWI851623B (zh) | 超純水製造裝置之啟動方法及超純水製造裝置 | |
JP6433737B2 (ja) | 限外ろ過膜の調製方法 | |
JP3115750B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
CN210237337U (zh) | 一种反渗透与edi设备组合除二氧化硅装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170914 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170914 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180508 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190116 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6469400 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |