JP6449784B2 - 粒子分離器を有するcvdシステム - Google Patents

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Description

本発明は、反応炉ハウジングのプロセスチャンバー内の基板をコーティングする装置であって、プロセスチャンバー内にプロセスガスを導入するためのガス注入部材を備え、プロセスチャンバーから粒子フィルターに排出ガスの流れを送り出すためのガス排出部材を備え、その粒子フィルターが、粒子分離器ハウジングの中に配置されており、プロセスガスの反応の間に形成される粒子を排出ガスの流れからろ過して除くために、浸透性のフィルター媒体を有する装置に関する。
CVD反応炉は、特に特許文献1〜5から知られる。
一般的なCVD反応炉は、基板をコーティングする装置を形成する。その装置はプロセスチャンバーを有する。プロセスチャンバーは反応炉ハウジング内に配置される。プロセスチャンバーはガス注入部材を有する。ガス注入部材を通して、1つまたは複数のプロセスガスがプロセスチャンバー内に導入される。化学的または物理的反応がプロセスチャンバー内で起こる。この目的のために、プロセスチャンバーはより高いプロセス温度に加熱されることができる。基板ホルダーがプロセスチャンバー内に配置される。コーティングされる1つまたは複数の基板が、基板ホルダーの上に置かれる。層の形成は、ガス相にある少なくとも1つのプロセスガスの反応またはガス相からの凝縮の結果である。特に、MOCVDコーティングプロセスでは、2つの異なるプロセスガスがプロセスチャンバー内に導入され、そのプロセサガスはガス相でお互いに反応することができる。この反応において、粒子が生じることができる。けれども、ガス相における粒子の形成は、異成分から成る反応で起こるだけではない。また、粒子の形成は均質のガス相で起こることができる。そのような粒子は、排出ガスの流れの中でプロセスチャンバーから運び出される。粒子の形成の追加的な源は、ガス排出部材の下流の流れ方向に配置されたコールドトラップであることができる。 ガス排出部材によって排出ガスの流れはプロセスチャンバーから放出される。このコールドトラップにおいて、排出ガスは、例えば、液体窒素の温度に冷却される。この冷却は、一方では化学反応によって、しかし、また他方では凝縮によって粒子の形成をもたらすことができる。排出ガスの流れに含まれるこれらの粒子は、粒子フィルターによって排出ガスの流れからろ過されて除かれる。この目的のために、粒子フィルターが粒子分離器ハウジング内に配置される。
粉体コーティング装置では、粉体が被加工物をコーティングするために使われるが、フィルターエレメントはガスの流れから粉体を分離するために使われる。そのような装置のために、特許文献6は機械的フィルター清掃を開示する。その中で、振動デバイスがフィルターエレメントに振動をもたらす。それで、フィルターの表面に付着した粉体はフィルター媒体から分離されることができる。特許文献7〜9は同様な装置を開示する。ガスの反対の流れを利用することによる、またはパルス状のガスの流れを使うことによる紛体コーティングシステムのフィルターの清掃は、特許文献10と特許文献11から公知である。
ドイツ国公開特許第10 2004 062553 A1号公報 ドイツ国公開特許第100 55 182 A1号公報 ドイツ国公開特許第102 47 921 A1号公報 ドイツ国公開特許第10 2009 043840 A1号公報 米国公開特許第2011/0237051 A1号公報 ドイツ国公開特許第10246126 A1号公報 米国公開特許第2002/0106461 A1号公報 米国公開特許第2006/0081188 A1号公報 米国特許第3,791,341号公報 米国特許第4,913,085号公報 ヨーロッパ特許第0129053 B1号公報
排出ガスの流れの中で運ばれる微粒子が粒子フィルターのフィルター媒体の表面で集合体の塊になることが一般的なCVD装置で観察された。粒子の成長は、実質的に粒子フィルターの表面で起こる。フィルター媒体の表面の関連した被覆率は粒子フィルターのフィルタリング性能の悪化をもたらす。
本発明の目的は、CVDまたはPVD装置で粒子フィルターのフィルタリング性能を改善し、この意図された目的のために適切な粒子フィルターを記述することである。
この目的は、第1にそして実質的に、請求項1と請求項2に記載されるコーティング装置によって達成される。従属する請求項は、本発明のさらなる有利な改良を説明する。
本発明によれば、粒子フィルターを清掃する手段が提供される。これらの手段は、機械的な性質を持ち、フィルター媒体上に形成される集合体がそこから離れるような効果を有する。本発明によれば、フィルター媒体は、排出ガスの流れに含まれる粒子がフィルター媒体の表面に付着するが、フィルター媒体を突き抜けないように選択される細孔の大きさまたは表面の品質を有する。フィルター媒体の外側だけで粒子が集合体に成長するように、フィルター媒体の細孔の大きさまたは表面の品質が調整される。
本発明に係る粒子フィルターは、マス加速デバイスによって動くように設定されることができる。マス加速デバイスはマスを有し、マスは動くように設定されることができる。これは粒子フィルターへの衝撃の伝達をもたらし、その衝撃の伝達は最大の力を持ち、従って、マス加速デバイスは高い加速度、すなわち最短の可能な時間で速度の変化を生じることになる。1つの望ましい改良では、マス加速デバイスは、ハンマーを形成するマスを含むハンマーデバイスによって形成され、ハンマーは金床にぶつかるために加速される。この場合、マス加速デバイスは、ハンマーを動くように設定し、金床にぶつける。マス加速デバイスは、降下ハンマーデバイスであることができる。この目的のために、粒子フィルターは、粒子分離器ハウジングに弾性的に接続され、落下するマスを有する。落下するマスは、機械的に持ち上げられ、それから落とされる。落下するマスは金床の上に落ち、カートリッジの壁に付着している粒子が離れて落下するようにカートリッジに打撃を伝える。望ましい改良では、ハンマーデバイスが底部ボディ、例えば粒子フィルターの底部プレートに取り付けられることが提供される。底部ボディは、フィルターカートリッジのキャリアおよび空洞として形成されるボディのキャリアであり、そのボディはハンマーデバイスを形成する。縦の方向に動かすことが可能なマスが空洞内に配置される。ガス、例えば空気を送り込むことによって、マスは円筒状の空洞内でピストンのような方法で持ち上げられることができる。マスは上昇したピストンから落とされる。それは、例えばバルブを開けることによって起こることができる。そのとき、マスは空洞の底にぶつかる。空洞の底は金床を形成する。打撃は、底部ボディを介してフィルターカートリッジに伝えられる。けれども、また、空洞の天井にぶつけるためにマスは縦方向上方に加速されることができる。そのとき、空洞の天井は金床を形成する。または、この目的のために、粒子分離器ハウジングに対して粒子フィルタを振動させることができる。その振動は、フィルター媒体の表面に形成される集合体がフィルター媒体から離れて、それらに影響を及ぼす重力のために粒子分離器ハウジングの底に落ちるような振動数と大きさを有する。1つまたは複数の粒子フィルターが提供されることができる。粒子フィルターはそれぞれフィルターカートリッジによって形成されることができる。望ましくは、そして実質的にフィルターカートリッジは円筒の形状を有し、フィルターカートリッジは空洞の円筒として形成される。空洞の円筒の壁は、フィルター媒体によって形成される。望ましくは、フィルター媒体はひだを付けられている。それは、フィルターペーパーであることができる。けれども、また、フィルター媒体はポリマーの不織布であることができる。フィルター媒体はコーティングされることができる。特に、それはテフロン(登録商標)でコーティングされることができる。望ましくは、1つまたは複数のカートリッジが縦の方向に延びる。それらは粒子分離器ハウジングの底にそれらの底面で弾性的に取り付けられる。シリコーンベローによって形成される弾性的支持エレメントがこの目的を果たす。シリコーンベローはパイプの形状を有し、それによってろ過された排出ガスの流れがフィルターカートリッジを出ることができる。各フィルターカートリッジは、弾性的支持エレメントによって粒子分離器ハウジングに個別に接続されることができる。振動デバイスは粒子フィルターの露出された上端を振動させることができる。単一の振動デバイスが提供されることができ、それは複数の粒子フィルターを振動させる。この場合、お互いに平行に延びる粒子フィルターはそれらの上部で接続されることができ、従ってお互いにそれらの露出端で接続されることができる。振動デバイスは、粒子フィルターの上に固定されたハウジングに配置されることができ、フライホイールマスを偏心して回転するように作動させる電気モーターを持つことができる。この目的のために、約3,000Hzの励起振動数が生成されることができる。代わりに、またはそれと組み合わせて、けれども、また、超音波励振器が粒子フィルターを振動させるために提供されることができる。けれども、また、振動デバイスは、電磁石と強磁性のフライホイールマスで作られることができる。電磁石に交流電流が流れるとき、フライホイールマスは振動させられる。シリコーンベローによってろ過された排出ガスの流れが粒子フィルターを出るが、シリコーンベローは圧力損失が10ミリバールより少ないような内径を有する。フィルター媒体は実質的になめらかな表面を持つ。フィルター媒体は、少なくとも150℃の温度にさらされることができる。ガス相の間に粒子がフィルター媒体の表面に付着するが、フィルター媒体の細孔を突き抜けないように、フィルター媒体の多孔率またはフィルター媒体の表面の品質は選択される。粒子は、フィルター媒体の表面で集合体に成長することができる。この場合、集合体は、フィルター媒体の細孔の中で成長せず、振動の結果としてフィルター媒体から振り落とされる。折り線は実質的に円弧線上で走るが、それらは10mmから12mmの距離を有することができる。振動の大きさは1mmのエリア内であることができる。粒子フィルターは粒子分離器ハウジングの底に弾性的にリセット可能な方法でその下端が接続されている。振動デバイスは粒子フィルターをゆらゆらする動きの状態に至らせる。振動デバイスは、その底に接続されている粒子フィルターの一端の反対側に位置する露出端を自由な振動の状態に至らせる。この場合、粒子フィルターまたはお互いに強固に接続されている複数の粒子フィルターは、粒子分離器ハウジングの内側に突き出る。共有された振動デバイスは、お互いに強固に接続されている複数の粒子フィルターを振動させる。
また、最初に示された目的は、ガスの流れの従来の方向と反対にフィルターカートリッジが内側から外側に吹かれることで達成される。この目的のために、フィルター媒体の下流側においてガスの流れをフィルターカートリッジに送り込む手段が提供される。排出ガスパイプ内に配置されているバルブは閉められているが、そのバルブを使うとき、そのようなガスの流れは例えばカートリッジの内側に送り込まれるガスの反対の流れを生成する。ガスの反対の流れは内側から外側に流れることができる。そのガスによってガスの流れの従来の方向と反対にカートリッジが内側から外側に吹かれるが、そのガスは窒素であることができる。そのような付加的なガスの供給の可能性がある場合、また、圧力サージがカートリッジの内側で生成されることができ、それでフィルター材料が伸ばされる。そして、この理由のために、集合体がフィルター材料の外側で落下する。また、異なる方法で、例えば、ピストンシリンダーユニットによって圧力サージを生成することができる。更に、フィルター材料の弾性的変形を引き起こすために他の機械的励起を使うことができる。特に、単にフィルター材料を振動させることが提供されることができる。これは、振動数励振器によって、例えば超音波励振器によって実行されることができる。
更に、本発明は、CVD装置で、特にMOCVD装置で粒子フィルターを振動させるための振動デバイスを有する粒子分離器を使う方法に関する。そして、CVD装置の中で有機金属ガリウム化合物と合成物が使用される。けれども、また、その使用方法はPVD装置に適用することができる。望ましくは、粒子分離器が装置の中で使用され、その装置によって硝酸ガリウムが有機金属ガリウム化合物とアンモニアを使うことによって分離される。特に、機械的手段が提供され、その使用は、フィルター媒体の表面に付着している集合体がフィルター媒体から離れる方法で粒子フィルターまたはフィルター媒体を動くように設定する。
第1の実施形態に係る粒子分離器を有するCVD反応炉を示す図である。 図1のII−II線断面図である。 図1のIII−III線断面図である。 粒子分離器の第2の実施形態を示す図である。 図4に示す粒子分離器の図7のV−V線に沿う縦断面図を示す。 図7のVI−VI線に沿う展開された粒子分離器の透視図を示す。 図5のVII−VII線断面図を示す。
以下に、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。
CVD反応炉1はガス注入部材11を有する。ガス注入部材11はパイプ接続を介して図示しないガス供給ユニットに接続される。ガス供給ユニットはプロセスガスを供給する。プロセスガスはガス注入部材11によってCVD反応炉1のプロセスチャンバー8に導入される。コーティングされる基板は、加熱可能なサセプタ9の上に配置される。プロセスガスはガス相の中で、またはサセプタ9の上に配置された基板表面の上で熱分解され、単結晶層がこの位置で成長する。望ましくは、水素のようなキャリアガスと反応ガスがガス注入部材11によって送り込まれる。硝酸ガリウム、アンモニア、および有機金属ガリウム化合物を分解するために、TMGaがプロセスチャンバー8の中に送り込まれる。プロセスガスは、反応生成物GaNとして基板表面に凝縮するだけではない。また、プロセスガスはサセプタ9の上のガス相中でお互いに反応し、粒子が生じる。
粒子を含む排出ガスの流れがガス排出部材10を通ってプロセスチャンバー8から外に導かれ、ガスライン12を介してコールドトラップ2に運ばれる。例えば、液体窒素が流れている冷却コイル13がコールドトラップ2の中に置かれている。排出ガスは冷却される。この場合、凝縮が起こり、排出ガスを冷却するとき、また粒子が生じる。
コールドトラップ2の下に、粒子分離器ハウジング3が配置されている。粒子分離器ハウジング3はガス排出口15を持ち、それによって粒子分離器ハウジング3は真空装置、例えば真空ポンプに接続される。図示されないこの真空ポンプは、プロセスチャンバー8、コールドトラップ2、および粒子分離器ハウジング3の中の全圧を1ミリバールから950ミリバールまでの間のレベルに保つことができる。けれども、また、全圧は例えば1ミリバールから5ミリバールまでの間の真空レベルに保たれてもよい。
ガス排出管6が粒子分離器ハウジング3の底21に配置される。このガス排出管6は底21の下を走り、ガス排出口15に流れる。本実施形態では、それぞれ1つのフィルターカートリッジ4の形状を持つ3つの粒子フィルターが底21の上に置かれている。底21の反対側に、粒子分離器ハウジング3は開口を持ち、そこを通って排出ガスが粒子分離器ハウジング3に流入することができる。コールドトラップ2はこの開口のすぐ上に位置する。
フィルターカートリッジ4は円筒形であり、ガス出口を持つ。ガス出口を通ってろ過された排出ガスがガス排出管6の中を流れることができる。各フィルターカートリッジ4は、底21にシリコーンベロー5を介してそれぞれ接続される。ろ過された排出ガスの流れはフィルターカートリッジ4の内側からシリコーンベロー5のパイプ開口を通ってガス排出管6の中に流れることができる。
円筒形で空洞のフィルターカートリッジ4の側面は薄壁でひだの付いたフィルター媒体16で作られている。図2から、フィルター媒体16はジグザグにひだを付けられており、内側の折り線18と外側の折り線17を形成し、それらはお互いに平行に走ると結論付けられる。折り線17または18の間の距離は、10mmと12mmの間の範囲である。
シリコーンベロー5は弾性的支持エレメントを形成し、それによってフィルターカートリッジ4は振動可能に底21に取り付けられる。上方を向いている3つのフィルターカートリッジ4の露出端は、振動デバイス7のハウジング14によってお互いに接続される。振動デバイス7のハウジング14内に、電気モーター19が置かれ、そのシャフトにフライホイールマス20が配置される。フライホイールマス20は電気モーター19のシャフトの回転軸に偏心して置かれ、電気モーター19の回転は3つのフィルターカートリッジ4の集合を振動させ、それは約1mmの大きさを持つ。望ましくは、振動の振動数は約50Hzから60Hzである。けれども、また、それは3,000Hzまで可能である。けれども、また、それは超音波の範囲でフィルターカートリッジ4を制御することができる。本実施形態で提供される振動デバイス7は3つのフィルターカートリッジで作られる配置をゆらゆらする振動の状態に至らせる。けれども、また、フィルターカートリッジ4またはフィルターカートリッジの配置を、フィルターカートリッジ4の軸に沿う縦の振動に持ってくることが提供される。
フィルター媒体16は薄壁の浸透性の材料である。フィルター媒体の細孔の大きさは1μmと50μmの間の範囲である。約10μmの細孔の大きさが望ましい。フィルター媒体は紙または紙をベースとする材料で作られることができる。また、フィルター媒体がポリマーの不織布であることが提供される。フィルター媒体はコーティングされることができる。望ましくは、それはテフロン(登録商標)でコーティングされる。フィルター媒体の表面は非常に品質が良いので排出ガスの流れに含まれる粒子はその表面に堆積することができる。これらの超微細粒子は、フィルター媒体16の細孔で成長することなく、フィルター媒体16の表面に付着する。フィルター媒体16の表面に付着する個々の超微細粒子は、成長の核を形成し、そこに他の超微細粒子が付着することができる。この場合、集合体が形成され、それは0.5mmから5mmの大きさに達することができる。集合体がミリメーターの範囲の大きさに達するとすぐにフィルター媒体の表面から離れるような方法で、振動の振動数と大きさは調整される。そのとき、集合体は粒子分離器ハウジング3の底21に落ちる。フィルター媒体16の表面に形成された集合体がフィルター媒体16から離れるので、集合体が以前に吸着した表面は再び排出ガスのためのガス通過面として利用できる。このように、粒子フィルターの効率が増加する。
フィルター媒体16から振り落とされる集合体は、粒子分離器ハウジング3の底21に集まる。図示しないサービスポートを通して粒子を除去することができる。
また、フィルターカートリッジ内に、従ってフィルター媒体16の下流側に振動モーターを配置することができる。
示されない実施形態において、フィルターカートリッジまたは装置は実質的に図1から図3までに示されるものと同じ構造を有するが、フィルターカートリッジ4の内側にガスの流れを送り込むための手段が提供される。例えば、付加的なガス供給ラインがガス排出管6の中に流れることができる。分離動作の間開いているバルブが、ガス排出口15に与えられることができる。このバルブが閉じられた場合、ガス排出管6にガスを供給することはフィルターカートリッジ4内の過大な圧力という結果になる。これは、外へ向かう方向へのフィルター媒体16の弾性的変形をもたらす。この変形の結果として、フィルター媒体16の外側に付着した集合体は落下することができる。圧縮された空気の供給と同時に、フィルター媒体16によってその反対方向に、従って、内側から外側に向けてガスの流れが生成される。
例えばガス排出管6の中への、しかしまた直接フィルターカートリッジ4の中への付加的な供給ラインは、通常のガスの流れの反対方向へのガスの流れに加えて、また単純にカートリッジの内側に圧力サージを生成する。圧力サージの結果として、フィルター材料が広がる。この弾性的変形は、フィルター媒体16の表面から集合体が離れることをもたらす。
また、圧力サージはピストンシリンンダーユニットによって生成されることができる。 例えば、ピストンシリンンダーユニットはガス排出管6に接続されることができる。シリンダーはガス排出管6の方向に開いている。ピストンがシリンダー内で動くならば、その移動の方向に依存して、ガスはガス排出管6の中へ、またはガス排出管6から外に動く。個々の急速な移動は圧力サージをもたらす。ピストンの振動はフィルター材料の機械的励起をもたらす。それで、そのフィルター材料は弾性的に変形する。それは周期的な励起に関係することができ、フィルター媒体16を振動の状態に至らせる。フィルター媒体との他の機械的結合であって、フィルター媒体を振動の状態に至らせることができるものが、また、あり得る。
図4から図7は、粒子フィルターの第2の実施形態を示す。ステンレス鋼で作られる外側ハウジングは外壁25、外壁25から除去可能なキャップ26、およびガス排出口15を有する底部を備える。キャップ26の上に、ハウジング部が配置される。それはガスライン12が接続されるコールドトラップ2を形成する。ガスライン12はCVD反応炉から延びる。
粒子フィルターのハウジングは、直径方向に反対側に配置された2つの取付金具33を用いて、保持デバイス32の支持アーム35に取り付けられる。取付金具33は支持アーム35に弾性ゴム緩衝材34を介して接続される。支持アーム35は支柱36で据え付けられる。弾性ゴム緩衝材34は粒子分離器ハウジング3の縦の動きを弱めることができる。
粒子分離器ハウジング3の上部は上述したコールドトラップ2を形成する。冷却コイル13がコールドトラップ2を形成するハウジング部内に配置される。ガスライン12を通ってコールドトラップ2に入る排出ガスは、冷却コイル13によって冷却される。それで、排出ガスからのガスまたは液体が固体に凝縮することができる。
コールドトラップ2の下流に、外壁25によって囲まれる空洞がコールドトラップ2の下に配置される。この空洞は、キャップ26によって上方に境界をつけられる。キャップ26は通路開口を有し、そこを通ってコールドトラップ2から来るガスが外壁25によって囲まれる空洞に入ることができる。
単一のフィルターカートリッジ4の形の粒子分離器が空洞内に置かれている。フィルターカートリッジ4の薄膜は既に説明した。それで、この点でそこに列挙された記述が参照される。けれども、また、複数のフィルターカートリッジがお互いに隣接して配置されることができる。
ハンマーデバイス7’の形のマス加速デバイスがフィルターカートリッジ4の内側に配置され、その下端が底部ボディ37に取り付けられる。ハンマーデバイス7’はベースプレートとして設計された底部ボディ37に接続される。次に、底部ボディ37は空洞の底21に3つのシリコーンベローによって接続される。シリコーンベロー5は縦方向に変形することができ、それでそこに取り付けられた底部ボディ37とフィルターカートリッジ4は縦方向に動くことができる。
シリコーンベロー5はガス排出ラインを形成し、フィルターカートリッジ4の内側に流れ接続される。それらはガス排出管6にフィルターカートリッジ4の内部ボリュームを接続し、ガス排出管6は底21の下に配置される。このガス排出管6はガス排出口15に走る。
ハンマーデバイス7’は円筒形に形成された空洞22を持つ円筒形ボディを備える。マス20’は、円筒形に形成された空洞22内に配置されており、空洞22内で縦方向に動かすことが可能である。空洞22の底面は、底部ボディ37によって形成され、金床38を形成する。マス20’は、マス20’の下の空間に空気注入管23を通して供給されるガス流によって持ち上げられて底面の上に落ちることができる。マス20’の下の空気は、空気注入管23内に配置されたバルブを開くことによって、空洞22から逃げることができる。それで、マス20’が落下し、フィルターの薄膜の壁に付着している集合体が壁から離れるような方法で底部ボディ37またはフィルターカートリッジ4に衝撃を伝える。
空洞22はキャップによって上方に境界をつけられており、キャップはガス排出管24を有する。マス20’は、空気圧によって持ち上げられるとき、このキャップにぶつかることができる。従って、また、キャップの底面は金床39を形成する。
2本の縦の支柱を持つ支持フレーム28がフィルターカートリッジ4の空洞内に配置される。支柱の間には内側ハウジング29が延びる。ろ過されたプロセスガスから気密状態でカプセルに入れられるように、落下マスデバイス(ハンマーデバイス7’)が内側ハウジング29内に配置される。
支持フレーム28の2本の縦の支柱は、横棒31によってお互いに接続される。カバープレート27を運ぶねじ棒30が、横棒31から上方に突き出る。図示される実施形態において、マス20’は落下マスを形成し、ハンマーアセンブリは降下ハンマーアセンブリを形成する。けれども、また、フィルターカートリッジを振動させるために、マス20’を縦の振動の状態に至らせることができる。示されない実施形態において、また、ハンマーアセンブリは水平方向に動かすことが可能なマスを持つことができる。
上述した実施形態は本出願によって包括的にカバーされる本発明を説明し、各々は更に独立して次の特徴の組み合わせによって少なくとも関連技術を改良する。
排出ガスの流れに含まれる粒子がフィルター媒体16の表面に付着するが、フィルター媒体16を突き抜けず、粒子がフィルター媒体16の外側で集合体に成長するように、フィルター媒体16の細孔の大きさと表面の品質が選択され、更にそれらの集合体を機械的に除くことによって粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)を清掃するための手段が提供されるという事実によって特徴付けられる装置。
フィルター媒体16が紙、プラスチックまたはポリマーの不織布であり、および/またはフィルター媒体16がコーティングされる、特にテフロン(登録商標)でコーティングされるという事実によって特徴付けられる装置。
細孔の大きさが1μmと50μmの間の範囲であり、望ましくは5μmと20μmの間の範囲であるという事実によって特徴付けられる装置。
上記手段がマス加速デバイス(振動デバイス7、ハンマーデバイス7’)を含み、それによって粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)が動くように設定されることができ、そのマス加速デバイスが特に振動デバイス7であってその振動デバイス7がフライホイールマス20を有し、または金床38、39にぶつかるマス20’を有するハンマーデバイス7’であるという事実によって特徴付けられる装置。
上記手段が特に弾性的方法で粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)のフィルター媒体16を変形させることができ、または上記手段が特にフィルター媒体16の下流側で圧力サージを生成することができるという事実によって特徴付けられる装置。
粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)が1つまたは複数の弾性的に取り付けられたフィルターカートリッジを有しており、それが縦方向に延び、少なくとも1つのフィルターカートリッジが弾性的支持エレメント(シリコーンベロー5)によってその底面で粒子分離器ハウジング3に接続されることが特に提供され、少なくとも1つのフィルターカートリッジの望ましくは自由に振動可能な上面に振動デバイス7が配置され、またはマス20’を有するハンマーデバイスであって望ましくは縦の方向にフィルターカートリッジに衝撃を与えるものが望ましくはフィルターカートリッジ4内に与えられることが特に提供されるという事実によって特徴付けられる装置。
少なくとも1つのフィルターカートリッジが縦の方向に延び、マス加速デバイス(振動デバイス7、ハンマーデバイス7’)がフィルターカートリッジ4にしっかりと取り付けられるという事実によって特徴付けられる装置。
底部ボディ37が弾性的支持エレメント(シリコーンベロー5)によって粒子分離器ハウジング3に接続され、少なくとも1つのフィルターカートリッジ4とハンマーデバイス7’を支え、ハンマーデバイス7’が望ましくはフィルターカートリッジ4の内側に配置されるという事実によって特徴付けられる装置。
降下ハンマーデバイス7’として形成されるマス加速デバイス(振動デバイス7、ハンマーデバイス7’)が空洞22を有し、その中に縦の方向に移動可能なマス20’が配置されており、空洞22の底によって形成される金床38の上に落下するために、または空洞22の天井(金床39)にぶつかるために、および粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)に衝撃を伝えるために、マス20’が特に空気圧で持ち上げられるという事実によって特徴付けられる装置。
振動デバイス7が電気モーター19を含み、それが回転軸に偏心して配置されたフライホイールマス20を回転させ、および/または振動デバイス7が超音波励振器を含み、および/または特にお互いに平行に配置された複数のフィルターカートリッジ4を単一の振動デバイス7が振動させ、振動デバイス7が複数のフィルターカートリッジ4の上面をお互いに特にしっかりと接続し、および/またはフィルターカートリッジ4が空洞の円筒によって形成され、その壁がフィルター媒体16によって形成されるという事実によって特徴付けられる装置。
フィルター媒体16が、ひだを付けられており、フィルターカートリッジ4の軸方向に走る折り線17、18を持つという事実によって特徴付けられる装置。
フィルターカートリッジ4の底部が少なくとも1つのシリコーンベロー5によって形成されており、シリコーンベロー5を通ってろ過されたガスの流れがフィルターカートリッジ4から排出され、シリコーンベロー5が粒子分離器ハウジング3に対してフィルターカートリッジ4の縦の動きを可能にし、および/またはシリコーンベロー5についてゆらゆらする振動を実行することができるように、お互いに平行に配置された複数の、特に3つのフィルターカートリッジ4がそれぞれシリコーンベローによって粒子分離器ハウジング3に接続されており、および/または粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)が粒子分離器ハウジング3の底に取り付けられており、その底が集合体に対する収集面を形成するという事実によって特徴付けられる装置。
上記手段が、フィルター媒体16の下流側でガス圧を生成することができ、そのガス圧が上流のガス圧よりも大きく、および/またはフィルター媒体16を通る排出ガスの流れに逆らうガスの流れを生成することができ、および/またはフィルター材料の弾性的変形に影響を及ぼすために、上記手段が機械的励起部材を含むという事実によって特徴付けられる装置。
粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)のフィルター媒体16の表面に形成され、排出ガスの流れに含まれる粒子で作られる集合体がフィルター媒体から振り落とされるような方法で、特にマス加速デバイス(振動デバイス7、ハンマーデバイス7’)によって、または付加的なガス供給によって、粒子フィルター(フィルターカートリッジ4)および/またはフィルター媒体16が動くように設定されることができ、特に粒子分離器ハウジング3に対して振動することができ、それで集合体が粒子分離器ハウジング3の底21のエリアに集まり、それらの集合体の大きさがミリメーターの範囲であり、特にそれらの集合体の平均直径が0.5mmと5mmの間に広がっているという事実によって特徴付けられる使用方法。
全ての開示された特徴は、(別々に、しかしまたお互いに組み合わせて)本発明に本質的である。この目的のために、関係する/添付の優先権書類(先の出願のコピー)の開示内容は、また本願の特許請求の範囲にこれらの書類の特徴を包含させる目的のために、その出願の開示全体の中でここに含められる。従属する請求項は、特にこれらの請求項に基づいて分割出願を実行するために、関連技術の本発明による改良を独立して特徴づける。
1…CVD反応炉
2…コールドトラップ
3…粒子分離器ハウジング
4…フィルターカートリッジ
5…シリコーンベロー
6…ガス排出管
7…振動デバイス
7’…ハンマーデバイス
8…プロセスチャンバー
9…サセプタ
10…ガス排出部材
11…ガス注入部材
12…ガスライン
13…冷却コイル
14…ハウジング
15…ガス排出口
16…フィルター媒体
17…折り線
18…折り線
19…電気モーター
20…フライホイールマス
20’…マス
21…底
22…空洞
23…空気注入管
24…ガス排出管
25…外壁
26…キャップ
27…カバープレート
28…支持フレーム
29…内側ハウジング
30…ねじ棒
31…横棒
32…保持デバイス
33…取付金具
34…弾性ゴム緩衝材
35…支持アーム
36…支柱
37…底部ボディ
38…金床
39…金床

Claims (20)

  1. 反応炉ハウジングのプロセスチャンバー(8)内の基板をコーティングする装置であって、
    前記プロセスチャンバー(8)内にプロセスガスを導入するためのガス注入部材(11)を備え、
    前記プロセスチャンバー(8)から粒子フィルターに排出ガスの流れを送り出すためのガス排出部材(10)を備え、当該粒子フィルターが、粒子分離器ハウジング(3)の中に配置されており、前記プロセスガスの反応の間に形成される粒子を前記排出ガスの流れからろ過して除くために、浸透性のフィルター媒体(16)を有し、
    前記排出ガスの流れに含まれる粒子が前記フィルター媒体(16)の表面に付着して前記フィルター媒体(16)の外側で集合体に成長することができ、
    前記集合体を機械的に除くことによって前記粒子フィルターを清掃するためのマス加速デバイスを有し、
    少なくとも1つの前記粒子フィルターがフィルターカートリッジ(4)によって形成され、当該フィルターカートリッジ(4)が弾性的支持エレメントによって底面で前記粒子分離器ハウジング(3)に接続され、前記マス加速デバイスが振動デバイス(7)であって少なくとも1つの前記フィルターカートリッジ(4)の自由に振動可能な上面に当該振動デバイス(7)が配置され、当該振動デバイス(7)が前記粒子分離器ハウジング(3)に対して前記粒子フィルターを振動状態に至らせる、
    ことを特徴とする装置。
  2. 反応炉ハウジングのプロセスチャンバー(8)内の基板をコーティングする装置であって、
    前記プロセスチャンバー(8)内にプロセスガスを導入するためのガス注入部材(11)を備え、
    前記プロセスチャンバー(8)から粒子フィルターに排出ガスの流れを送り出すためのガス排出部材(10)を備え、当該粒子フィルターが、粒子分離器ハウジング(3)の中に配置されており、前記プロセスガスの反応の間に形成される粒子を前記排出ガスの流れからろ過して除くために、浸透性のフィルター媒体(16)を有し、
    前記排出ガスの流れに含まれる粒子が前記フィルター媒体(16)の表面に付着して前記フィルター媒体(16)の外側で集合体に成長することができ、
    前記集合体を機械的に除くことによって前記粒子フィルターを清掃するためのマス加速デバイスを有し、
    少なくとも1つの前記粒子フィルターがフィルターカートリッジ(4)によって形成され、前記マス加速デバイスが、当該フィルターカートリッジ(4)の内側に配置されており、マス(20’)を有するハンマーデバイス(7’)であって縦の方向に前記フィルターカートリッジ(4)に衝撃を与える、
    ことを特徴とする装置。
  3. 前記フィルター媒体(16)が、紙、プラスチックまたはポリマーの不織布であり、および/または前記フィルター媒体(16)が、テフロン(登録商標)でコーティングされることを特徴とする請求項1または2に記載の装置。
  4. 前記フィルター媒体(16)の細孔の大きさが1μmと50μmの間の範囲であることを特徴とする請求項1または2に記載の装置。
  5. 前記マス加速デバイスがフライホイールマス(20)によって動くように設定されることができることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  6. 前記マス(20’)が金床(38、39)にぶつかることを特徴とする請求項2に記載の装置。
  7. 少なくとも1つの弾性的に取り付けられた前記フィルターカートリッジ(4)が縦の方向に延びることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の装置。
  8. 少なくとも1つの前記フィルターカートリッジ(4)が弾性的支持エレメントによって底面で前記粒子分離器ハウジング(3)に接続されることを特徴とする請求項2または6に記載の装置。
  9. 前記マス加速デバイスが前記フィルターカートリッジ(4)に取り付けられていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の装置。
  10. 少なくとも1つの前記フィルターカートリッジ(4)が縦の方向に延びることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の装置。
  11. 底部ボディ(37)が、前記弾性的支持エレメントによって前記粒子分離器ハウジング(3)に接続され、少なくとも1つの前記フィルターカートリッジ(4)と前記マス加速デバイスを支えることを特徴とする請求項8に記載の装置。
  12. 降下ハンマーデバイス(7’)として形成される前記ハンマーデバイス(7’)が空洞(22)を有し、当該空洞(22)の中に縦の方向に移動可能なマス(20’)が配置されていることを特徴とする請求項2、6、8、または11に記載の装置。
  13. 前記空洞(22)の底によって形成される金床(38)の上に落下するために、または前記空洞(22)の天井にぶつかって前記粒子フィルターに衝撃を伝えるために、前記マス(20’)が空気圧で持ち上げられることを特徴とする請求項12に記載の装置。
  14. 前記振動デバイス(7)が電気モーター(19)を含み、当該電気モーター(19)が回転軸に偏心して配置されたフライホイールマス(20)を回転させ、および/または前記振動デバイス(7)が超音波励振器を含むことを特徴とする請求項1または5に記載の装置。
  15. お互いに平行に配置された複数の前記フィルターカートリッジ(4)を単一の前記振動デバイス(7)が振動させ、前記振動デバイス(7)が複数の前記フィルターカートリッジ(4)の上面をお互いに接続することを特徴とする請求項1、5、または14に記載の装置。
  16. 前記フィルターカートリッジ(4)が空洞の円筒によって形成され、当該円筒の壁が前記フィルター媒体(16)によって形成され、前記フィルター媒体(16)が折り線(17、18)を持つひだを付けられており、当該折り線(17、18)が前記フィルターカートリッジ(4)の軸方向に延びることを特徴とする請求項1ないし15のいずれか1項に記載の装置。
  17. 前記フィルターカートリッジ(4)の底部が少なくとも1つのシリコーンベロー(5)によって形成されており、当該シリコーンベロー(5)を通ってろ過されたガスの流れが前記フィルターカートリッジ(4)から排出され、当該シリコーンベロー(5)が前記粒子分離器ハウジング(3)に対して前記フィルターカートリッジ(4)の縦の動きを可能にすることを特徴とする請求項1ないし16のいずれか1項に記載の装置。
  18. 前記シリコーンベロー(5)についてゆらゆらする振動を実行することができるように、お互いに平行に配置された複数の前記フィルターカートリッジ(4)がそれぞれ前記シリコーンベロー(5)によって前記粒子分離器ハウジング(3)に接続されていることを特徴とする請求項17に記載の装置。
  19. 前記粒子フィルターが前記粒子分離器ハウジング(3)の底に取り付けられており、当該底が前記集合体に対する収集面を形成することを特徴とする請求項1ないし18のいずれか1項に記載の装置。
  20. 請求項1ないし19のいずれか1項に記載の装置の使用方法であって、
    前記粒子フィルターのフィルター媒体(16)の表面に形成され、前記排出ガスの流れに含まれる粒子で作られる前記集合体が前記フィルター媒体(16)から振り落とされるような方法で、前記マス加速デバイスが前記粒子分離器ハウジング(3)に対して前記粒子フィルターを振動の状態に至らせ、それで前記集合体が前記粒子分離器ハウジング(3)の底(21)のエリアに集まり、前記集合体の平均直径が0.5mmと5mmの間に広がっていることを特徴とする使用方法。
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