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Verschiedene Ausführungsbeispiele betreffen eine Prozessiervorrichtung und ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessiervorrichtung.
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Im Allgemeinen werden verschiedene Verfahren zum Prozessieren von Substraten verwendet. Ein Prozessieren von Substraten kann bei verschiedenen Verfahren in einer mittels einer Vakuumpumpe evakuierten Vakuumkammer erfolgen. Es versteht sich, dass in der evakuierten Vakuumkammer auch ein Inertgas und/oder ein Reaktivgas verwendet werden kann, um das Prozessieren des Substrats zu beeinflussen. Beispielsweise kann eine Materialschicht mittels eines reaktiven Abscheideprozesses auf dem Substrat abgeschieden werden, wobei das Material, was von einer Materialquelle stammt, mit mindestens einem in der Vakuumkammer bereitgestellten Reaktivgas zu der gewünschten Materialschicht reagiert.
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Im Allgemeinen kann ein Gasdruck in einer Prozesskammer entsprechend mindestens einer Prozessbedingung eingestellt werden. Zum Einstellen bzw. Regeln des Gasdrucks kann einerseits ein Gas entsprechend in die Prozesskammer eingeleitet werden und andererseits kann die Prozesskammer gleichzeitig abgepumpt werden. Aus dem Verhältnis des Einleitens und Abpumpens des Gases ergibt sich beispielsweise ein entsprechender Gasdruck in der Prozesskammer. Anschaulich wird der Gasdruck dynamisch eingestellt.
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Zum Abpumpen eines Gases aus einer Prozesskammer kann beispielsweise eine entsprechende Pumpe verwendet werden, wobei eine Pumpe im Allgemeinen einen Druck-Arbeitsbereich aufweist, in dem diese effizient arbeitet (z.B. mit einer vergleichsweise hohen Saugleistung pumpt) und/oder in dem diese langfristig sicher betrieben werden kann. Unter diesem Gesichtspunkt kann die Pumpe beispielsweise derart ausgewählt werden, dass der angestrebte Prozesskammerdruck in der Prozesskammer im Druck-Arbeitsbereich der Pumpe liegt.
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Bei einigen Prozessen kann es allerdings erforderlich oder hilfreich sein, je nach Betriebsmodus der Prozessieranlage voneinander verschiedene Gasdrücke in der Prozesskammer bereitzustellen. Beispielsweise kann die Prozesskammer zu Beginn eines Prozessierverfahrens auf einen ersten Gasdruck (anschaulich einen Basisdruck) gebracht werden und anschließend auf einen Prozessdruck, der wesentlich größer sein kann, als der Basisdruck. Soll beispielsweise die gleiche Pumpe zum Bereitstellen der voneinander verschiedenen Gasdrücke verwendet werden, kann es beispielsweise zumindest zeitweise vorkommen, dass der Gasdruck in der Prozesskammer nicht in dem Druck-Arbeitsbereich der verwendeten Pumpe liegt. In diesem Fall kann es hilfreich sein, eine Prozesskammer zu verwenden, bei der zwei Bereiche mittels einer Druckentkopplungsvorrichtung voneinander separiert sind, wobei in einem der zwei Bereiche ein Prozessierverfahren durchgeführt werden kann und wobei der andere der zwei Bereiche effizient mittels der Pumpe abgepumpt werden kann. Der erste Bereich kann dabei indirekt ausgehend von dem zweiten Bereich durch die Druckentkopplungsvorrichtung hindurch abgepumpt werden.
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Verschiedene Ausführungsformen beziehen sich auf eine Druckentkopplungsvorrichtung, mittels der innerhalb einer Prozesskammer mindestens zwei Bereich voneinander druckentkoppelt werden können, wobei die Druckentkopplungsvorrichtung derart eingerichtet ist, Partikel aus einem Materialstrom, der durch die Druckentkopplungsvorrichtung hindurch strömt, zu filtern.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung, die hierin gemäß verschiedenen Ausführungsformen beschrieben ist, kann beispielsweise in einer Vakuumkammer einer Vakuumprozessieranlage dazu verwendet werden, um ein Ablagern von Partikel an Komponenten der Vakuumprozessieranlage (z.B. an einem Ventil, an einer Vakuumpumpe) zu reduzieren (z.B. möglichst zu verhindern) und/oder um ein Ablagern von Partikel in einem Bereich innerhalb der Vakuumkammer (z.B. ein Bereich, der direkt mittels einer Vakuumpumpe evakuiert wird) zu reduzieren (z.B. möglichst zu verhindern).
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Beispielsweise kann es beim Abpumpen einer Prozesskammer aufgrund des strömendes Gases vorkommen, dass in der Prozesskammer vorhandene Partikel in Richtung der Pumpe transportiert werden. Die Partikel können sich beispielsweise im Bereich der Pumpe, im Bereich eines Ventils, oder in anderen Bereichen in der Prozesskammer ablagern, was zu einer Beeinträchtigung der Pumpe bzw. des Pumpverhaltens führen kann. Dies kann der Fall sein, wenn beispielsweise ein Elektronenstrahlverdampfen zum Beschichten eines Substrats (beispielsweise mindestens einer Turbinenschaufel) verwendet wird. Aufgrund der Prozessbedingungen kann es beispielsweise vorkommen, dass Materialpartikel des mittels des Elektronenstrahls verdampften Materials in Form von Partikeln in einem Gasstrom zu der Pumpe transportiert werden. Daher kann es beispielsweise hilfreich sein, den Transport von Partikeln zu der Pumpe zu reduzieren (z.B. möglichst zu verhindern).
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumvorrichtung beispielsweise aufweisen: eine Vakuumkammer, die einen ersten Bereich und einen zweiten Bereich aufweist, und eine Druckentkopplungsvorrichtung, die zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich der Vakuumkammer angeordnet ist und die eingerichtet ist zum Bereitstellen einer Druckdifferenz zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich. Die Druckentkopplungsvorrichtung kann beispielsweise aufweisen: eine erste Gasführung, welche den ersten Bereich und den zweiten Bereich derart miteinander verbindet, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich durch die erste Gasführung hindurch in den zweiten Bereich bereitgestellt werden kann, eine in der ersten Gasführung angeordnete Filtervorrichtung, die zum Filtern von Partikeln aus dem Gasstrom eingerichtet ist, und eine zumindest teilweise in der ersten Gasführung angeordnete Reinigungsvorrichtung, die zum Reinigen der Filtervorrichtung eingerichtet ist.
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Die Prozessiervorrichtung mit den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs 1 bildet ein erstes Beispiel.
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Der erste Bereich der Prozesskammer kann eine Beschichtungsvorrichtung aufweisen. Die Beschichtungsvorrichtung kann derart eingerichtet sein, dass mindestens ein Substrat mittels der Beschichtungsvorrichtung beschichtet werden kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem ersten Beispiel bilden ein zweites Beispiel.
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Die Beschichtungsvorrichtung kann derart eingerichtet sein, dass mittels der Beschichtungsvorrichtung ein Beschichtungsverfahren durchgeführt werden kann. Das Beschichtungsverfahren kann ein physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren oder ein chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren sein. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem zweiten Beispiel bilden ein drittes Beispiel.
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Die erste Gasführung kann mindestens eine Eingangsöffnung aufweisen. Die mindestens eine Eingangsöffnung kann an den ersten Bereich derart angrenzen, dass Gas aus dem ersten Bereich in die erste Gasführung strömen kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem dritten Beispiel bilden ein viertes Beispiel.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung kann ferner eine Ventilvorrichtung aufweisen. Die Ventilvorrichtung kann eingerichtet sein zum Einstellen eines Gasstroms, der durch die erste Gasführung hindurchtritt. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem vierten Beispiel bilden ein fünftes Beispiel.
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Die Ventilvorrichtung kann eine beweglich (vorzugsweise verschiebbar) gelagerte Schottwand zum Einstellen des Gasstroms aufweisen. Das in diesem Absatz beschriebene Merkmal in Kombination mit dem fünften Beispiel bildet ein sechstes Beispiel.
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Die Schottwand kann derart positioniert werden, dass die mindestens eine Eingangsöffnung der ersten Gasführung teilweise oder vollständig abgedeckt werden kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem vierten Beispiel und dem sechsten Beispiel bilden ein siebtes Beispiel.
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Die Schottwand kann derart positioniert werden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich durch die erste Gasführung hindurch in den zweiten Bereich reduziert oder verhindert wird. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem sechsten Beispiel oder dem siebten Beispiel bilden ein achtes Beispiel.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung kann ferner eine zweite Gasführung aufweisen. Die zweite Gasführung kann den ersten Bereich und den zweiten Bereich derart miteinander verbinden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich durch die zweite Gasführung hindurch in den zweiten Bereich bereitgestellt werden kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem achten Beispiel bilden ein neuntes Beispiel.
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Die zweite Gasführung kann eine Durchgangsöffnung aufweisen. Die Durchgangsöffnung kann an den ersten Bereich und den zweiten Bereich derart angrenzen, dass Gas aus dem ersten Bereich in den zweiten Bereich strömen kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem neunten Beispiel bilden ein zehntes Beispiel.
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Die Ventilvorrichtung kann ferner eingerichtet sein zum Einstellen eines Gasstroms, der durch die zweite Gasführung hindurchtritt.
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Die Schottwand kann derart positioniert werden, dass die Durchgangsöffnung der zweiten Gasführung teilweise oder vollständig abgedeckt werden kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem vierten Beispiel, dem sechsten Beispiel und dem zehnten Beispiel bilden ein elftes Beispiel.
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Die Schottwand kann derart eingestellt/positioniert werden, dass der Gasstrom aus dem ersten Bereich in den zweiten Bereich durch die zweite Gasführung hindurch reduziert oder verhindert werden kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem elften Beispiel bilden ein zwölftes Beispiel.
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Die Schottwand kann derart beweglich gelagert sein, dass die Schottwand in mindestens eine erste Stellung, eine zweite Stellung und eine dritte Stellung gebracht werden kann. Die Schottwand kann derart eingestellt/positioniert sein, dass die Schottwand die mindestens eine Eingangsöffnung der ersten Gasführung nicht oder teilweise abdeckt und die Durchgangsöffnung der zweiten Gasführung nicht oder teilweise abdeckt, wenn diese in der ersten Stellung ist. Die Schottwand kann derart eingestellt/positioniert sein, dass die Schottwand die mindestens eine Eingangsöffnung der ersten Gasführung vollständig abdeckt und die Durchgangsöffnung der zweiten Gasführung vollständig abdeckt, wenn diese in der zweiten Stellung ist. Die Schottwand kann derart eingestellt/positioniert sein, dass die Schottwand die mindestens eine Eingangsöffnung der ersten Gasführung nicht oder teilweise abdeckt und die Durchgangsöffnung der zweiten Gasführung vollständig abdeckt, wenn diese in der dritten Stellung ist. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem vierten Beispiel, dem sechsten Beispiel und dem zehnten Beispiel und optional ferner in Kombination mit dem elften Beispiel oder dem zwölften Beispiel bilden ein dreizehntes Beispiel.
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Die Prozessiervorrichtung kann eine Steuervorrichtung aufweisen, wobei die Steuervorrichtung eingerichtet sein kann zum Steuern des Einstellens/Positionierens der Schottwand in die erste Stellung, die zweite Stellung oder die dritte Stellung aufweisen. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem dreizehnten Beispiel bilden ein vierzehntes Beispiel.
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Die erste Gasführung kann mindestens eine Ausgangsöffnung aufweisen. Die mindestens eine Ausgangsöffnung kann an den zweiten Bereich derart angrenzen, dass Gas aus der ersten Gasführung in den zweiten Bereich strömen kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem vierzehnten Beispiel bilden ein fünfzehntes Beispiel.
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Die Filtervorrichtung kann mindestens einen Filter aufweisen. Der mindestens eine Filter kann die mindestens eine Ausgangsöffnung abdecken, vorzugsweise vollständig abdecken. Der mindestens eine Filter kann optional eine Gewebestruktur aufweisen. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem fünfzehnten Beispiel bilden ein sechzehntes Beispiel.
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Der mindestens eine Filter kann derart angeordnet sein, dass der mindestens eine Filter Partikel aus dem Gasstrom in der ersten Gasführung filtern kann. Das in diesem Absatz beschriebene Merkmal in Kombination mit dem sechzehnten Beispiel bildet ein siebzehntes Beispiel.
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Die Prozessiervorrichtung kann ferner eine Steuervorrichtung aufweisen, wobei die Steuervorrichtung eingerichtet sein kann zum Steuern des Reinigens der Filtervorrichtung mittels der Reinigungsvorrichtung. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem siebzehnten Beispiel bilden ein achtzehntes Beispiel.
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Die Steuervorrichtung kann die Reinigungsvorrichtung derart steuern, dass die Reinigungsvorrichtung den mindestens einen Filter von den aus dem Gasstrom gefilterten Partikeln reinigt. Das in diesem Absatz beschriebene Merkmal in Kombination mit dem siebzehnten Beispiel und dem achtzehnten Beispiel bildet ein neunzehntes Beispiel.
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Die Steuervorrichtung kann die Reinigungsvorrichtung derart steuert, dass die Filtervorrichtung in regelmäßigen Zeitabständen und/oder in unregelmäßigen Zeitabständen gereinigt wird. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem achtzehnten Beispiel oder dem neunzehnten Beispiel bilden ein zwanzigstes Beispiel.
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Die Reinigungsvorrichtung kann ein mechanisches Reinigungselement zum Entfernen von Ablagerungen in der Filtervorrichtung aufweisen. Das mechanische Reinigungselement kann ein rotierendes Reinigungselement sein. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem zwanzigsten Beispiel bilden ein einundzwanzigstes Beispiel.
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Die Prozesskammer kann mindestens eine Pumpöffnung aufweisen. Die mindestens eine Pumpöffnung kann einen Pumpzugriff in den zweiten Bereich bereitstellen. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem einundzwanzigsten Beispiel bilden ein zweiundzwanzigstes Beispiel.
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Die mindestens eine Pumpöffnung kann derart ausgestaltet sein, dass kein direkter Pumpzugriff in den ersten Bereich bereitgestellt ist. Das in diesem Absatz beschriebene Merkmal in Kombination mit dem zweiundzwanzigsten Beispiel bildet ein dreiundzwanzigstes Beispiel.
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Die Prozessiervorrichtung kann eine Pumpvorrichtung aufweisen. Die Pumpvorrichtung kann mit der mindestens einen Pumpöffnung derart gekoppelt sein, dass der zweite Bereich abgepumpt werden kann. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des zweiundzwanzigsten Beispiels oder dem dreiundzwanzigsten Beispiel bilden ein vierundzwanzigstes Beispiel.
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Die Prozessiervorrichtung kann ferner eine Prozessgaszuführung aufweisen. Die Prozessgaszuführung kann eingerichtet sein, ein Prozessgas in den ersten Bereich zuzuführen. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem vierundzwanzigsten Beispiel bilden ein fünfundzwanzigstes Beispiel.
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Die Prozessiervorrichtung kann ferner eine Steuer/Regelvorrichtung zum Steuern/Regeln eines Gasflusses der mittels der Prozessgaszuführung in den ersten Bereich eingebracht werden kann. Das in diesem Absatz beschriebene Merkmal in Kombination mit dem fünfundzwanzigsten Beispiel bildet ein sechsundzwanzigstes Beispiel.
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Die Steuer/Regelvorrichtung kann derart eingerichtet sein, dass eine Vorgabegröße in dem ersten Bereich der Prozesskammer eingestellt werden kann. Das in diesem Absatz beschriebene Merkmal in Kombination mit dem sechsundzwanzigsten Beispiel bildet ein siebenundzwanzigstes Beispiel.
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Ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessiervorrichtung kann das Bereitstellen eines Gasstromes aus einem ersten Bereich einer Prozesskammer durch eine erste Gasführung hindurch in einen zweiten Bereich der Prozesskammer aufweisen. Das Verfahren kann ferner das Filtern von Partikeln aus dem Gasstrom mittels eines Filters in der ersten Gasführung aufweisen. Das Verfahren kann ferner das Reinigen des Filters aufweisen. Der Filter kann derart gereinigt werden, dass die Partikel in der ersten Gasführung verbleiben. Das Verfahren mit den in diesem Absatz beschriebenen Merkmalen bildet ein achtundzwanzigstes Beispiel.
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Das Verfahren kann ferner das Bereitstellen eines Gasstromes aus dem ersten Bereich der Prozesskammer durch eine zweite Gasführung hindurch in den zweiten Bereich der Prozesskammer aufweisen. Die zweite Gasführung kann die erste Gasführung überbrücken. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem achtundzwanzigsten Beispiel bilden ein neunundzwanzigstes Beispiel.
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Das Verfahren mit den Merkmalen des achtundzwanzigsten Beispiels kann einen ersten Betriebsmodus bilden und das Verfahren mit den Merkmalen des neunundzwanzigsten Beispiels kann einen zweiten Betriebsmodus.
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Eine Druckentkopplungsvorrichtung kann beispielsweise eine erste Gasführung aufweisen. Die erste Gasführung kann einen ersten Bereich einer Vorrichtung und einen zweiten Bereich einer Vorrichtung derart miteinander verbinden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich durch die erste Gasführung hindurch in den zweiten Bereich bereitgestellt werden kann. Die Druckentkopplungsvorrichtung kann ferner eine Filtervorrichtung aufweisen. Die Filtervorrichtung kann in der ersten Gasführung angeordnet sein. Die Filtervorrichtung kann zum Filtern von Partikeln aus dem Gasstrom eingerichtet sein. Die Druckentkopplungsvorrichtung kann eine zumindest teilweise in der ersten Gasführung angeordnete Reinigungsvorrichtung aufweisen. Die Reinigungsvorrichtung kann zum Reinigen der Filtervorrichtung eingerichtet sein. Die Druckentkopplungsvorrichtung mit den in diesem Absatz beschriebenen Merkmalen bildet ein dreißigstes Beispiel.
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Eine Druckentkopplungsvorrichtung kann beispielsweise eine erste Gasführung aufweisen. Die erste Gasführung kann einen ersten Bereich einer Vorrichtung und einen zweiten Bereich einer Vorrichtung derart miteinander verbinden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich durch die erste Gasführung hindurch in den zweiten Bereich bereitgestellt werden kann. Die Druckentkopplungsvorrichtung kann ferner eine Filtervorrichtung aufweisen. Die Filtervorrichtung kann in der ersten Gasführung angeordnet sein. Die Filtervorrichtung kann zum Filtern von Partikeln aus dem Gasstrom eingerichtet sein. Die Druckentkopplungsvorrichtung kann beispielsweise eine beweglich gelagerte Schottwand aufweisen zum Verändern eines Gasleitwerts der ersten Gasführung. Die Druckentkopplungsvorrichtung kann beispielsweise eine Schottwand-Steuer-Vorrichtung aufweisen, die eingerichtet ist zum Konstanthalten des Gasleitwerts der ersten Gasführung mittels Positionierens der Schottwand, so dass eine Gasleitwertänderung aufgrund einer Verschmutzung der Filtervorrichtung zumindest teilweise kompensiert werden kann. Die Druckentkopplungsvorrichtung mit den in diesem Absatz beschriebenen Merkmalen bildet ein einunddreißigstes Beispiel.
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Ein Konstanthalten eines Gasleitwerts kann beispielsweise derart erfolgen, dass sich der Gasleitwert weniger als ±50 % verändert, z.B. während ein Substrat in dem ersten Bereich prozessiert wird.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung kann ferner eine eine zumindest teilweise in der ersten Gasführung angeordnete Reinigungsvorrichtung aufweisen. Die Reinigungsvorrichtung kann zum Reinigen der Filtervorrichtung eingerichtet sein. Die in diesem Absatz beschriebenen Merkmale in Kombination mit dem einunddreißigsten Beispiel bilden ein zweiunddreißigstes Beispiel.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung nach einem des dreißigsten Beispiels bis dem zweiunddreißigstens Beispiel kann ferner die Merkmale von einem oder mehreren des vierten Beispiels bis dem einundzwanzigsten Beispiel aufweisen.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Druckentkopplungsvorrichtung bereitgestellt, die in einer Prozessiervorrichtung verwendet werden kann. Beispielsweise kann die Druckentkopplungsvorrichtung in einer Prozessiervorrichtung mit den Merkmalen von einem oder mehreren des ersten Beispiels bis dem siebenundzwanzigsten Beispiel verwendet werden. Allerdings kann die Druckentkopplungsvorrichtung auch in anderen Prozessiervorrichtungen verwendet werden.
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Es zeigen
- 1A eine allgemeine Prozessiervorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 2B eine Prozessiervorrichtung mit einer Druckentkopplungsvorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 3C eine Prozessiervorrichtung mit einer Druckentkopplungsvorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 4D eine Prozessiervorrichtung mit einer Druckentkopplungsvorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 5A eine Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer ersten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 2B eine beispielhafte Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer ersten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 2C eine beispielhafte Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer ersten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 3A eine Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer zweiten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 3B eine beispielhafte Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer zweiten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 4A eine Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer dritten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 4B eine beispielhafte Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer dritten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 4C eine beispielhafte Prozessiervorrichtung mit einer Ventilvorrichtung in einer dritten Stellung gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
- 5 eine Druckentkopplungsvorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und
- 6 ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessiervorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen.
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In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann.
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Bei einem Prozessieren eines Substrats in einer Prozesskammer können in einigen Fällen Partikel entstehen, die dann in einem Gasstrom, der in der Prozesskammer aufgrund eines Abpumpens der Prozesskammer entsteht, in der Prozesskammer transportiert werden. Somit können sich die Partikel beispielsweise an und/oder in der Pumpe oder an und/oder in einem Ventil ablagern, und somit beispielsweise deren Funktion beeinträchtigen.
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Der Gasstrom kann sich beispielsweise dadurch entstehen, dass ein Prozessierbereich der Prozesskammer durch eine Druckentkopplungsvorrichtung hindurch abgepumpt wird, wobei mittels der innerhalb der Prozesskammer angeordneten Druckentkopplungsvorrichtung mindestens zwei Bereiche der Prozesskammer voneinander druckentkoppelt werden können. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Druckentkopplungsvorrichtung derart eingerichtet sein, dass die Partikel aus dem Gasstrom, der durch die Druckentkopplungsvorrichtung hindurch strömt, herausgefiltert werden können. Somit kann beispielsweise ein Ablagern der Partikel in einem Bereich, in den der gefilterte Gasstrom hineingeführt wird, reduziert bzw. verhindert werden. In diesem Bereich, in den der gefilterte Gasstrom hineingeführt wird, kann beispielsweise eine Pumpe eingreifen bzw. dieser Bereich kann mittels einer Pumpe abgepumpt werden. Somit kann beispielsweise auch die Pumpe vor einer Partikelablagerung geschützt werden.
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Im Folgenden wird in verschiedenen Ausführungsformen eine Prozessiervorrichtung zum Prozessieren eines Substrats beschrieben. Die Prozessiervorrichtung kann beispielsweise eine Vakuumprozessiervorrichtung sein, mittels der ein Substrat in einem Unterdruck (z.B. bei einem Druck von weniger als 100 mbar) prozessiert werden kann. Allerdings kann die Prozessiervorrichtung auch eine Atmosphärendruck-Prozessiervorrichtung oder eine Überdruck-Prozessiervorrichtung sein. Die Prozessiervorrichtung kann beispielsweise eine Beschichtungsvorrichtung sein zum Beschichten eines Substrats. Allgemein kann die Prozessiervorrichtung eingerichtet sein, ein Substrat auf jede gewünschte Weise zu behandeln, z.B. zu reinigen, zu tempern, zu ätzen, zu schleifen, oder Ähnliches. Ein Substrat kann beispielsweise ein Werkzeug sein, ein Halbzeug, oder jedes andere gewünschte Werkstück (z.B. eine Turbinenschaufel).
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1A zeigt eine allgemeine Prozessiervorrichtung 100, in der, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, eine Druckentkopplungsvorrichtung verwendet werden kann, um mindestens zwei Bereiche voneinander zu separieren. Die Prozessiervorrichtung 100 kann eine Prozesskammer 102 aufweisen. Die Prozesskammer kann beispielsweise von ein oder mehreren geeigneten Kammerkörpern gebildet sein, und entsprechend den gewünschten Druckverhältnissen in der Prozesskammer angepasst sein. Die Prozesskammer 102 kann beispielsweise eine Vakuumprozesskammer sein, die ein oder mehrere Kammergehäuse (z.B. gefertigt aus Stahl) aufweist, wie es beispielsweise in der Substratprozessierung im Vakuum (z.B. zum Durchführen von PVD- und/oder CVD-Verfahren) üblich ist. Die Prozesskammer 102 kann einen ersten Bereich 104 und einen zweiten Bereich 106 aufweisen. Der erste Bereich 104 der Prozesskammer 102 kann eine Beschichtungsvorrichtung aufweisen (nicht dargestellt) oder eine Beschichtungsvorrichtung kann so an die Prozesskammer 102 angekuppelt sein, dass ein Substrat in dem ersten Bereich 104 prozessiert werden kann. Die Beschichtungsvorrichtung kann derart eingerichtet sein, dass mindestens ein Substrat mit mindestens einem Material (zum Beispiel genau einem Material, zum Beispiel zwei Materialien, zum Beispiel mehr als zwei Materialien) mittels der Beschichtungsvorrichtung beschichtet werden kann. Das zur Beschichtung verwendete Material kann beispielsweise ein metallisches Material oder ein keramisches Material sein. Beispielsweise kann ein in der Prozesskammer 102 angeordnetes Substrat mittels der Beschichtungsvorrichtung mit mindestens einem Metall und/oder mindestens einer Keramik beschichtet werden. Die Beschichtungsvorrichtung kann derart eingerichtet sein, dass mittels der Beschichtungsvorrichtung ein Beschichtungsverfahren in der Prozesskammer 102 (zumindest hauptsächlich in dem ersten Bereich 104) durchgeführt werden kann. Das Beschichtungsverfahren kann beispielsweise ein physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD-Verfahren) oder ein chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD-Verfahren) sein. Das PVD-Verfahren kann zum Beispiel eine Elektronenstrahlverdampfung, eine Kathodenzerstäubung, oder Ähnliches sein.
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Die Prozesskammer 102 kann beispielsweise mindestens eine Pumpöffnung 108 aufweisen. Die mindestens eine Pumpöffnung 108 kann einen Pumpzugriff in den zweiten Bereich 106 ermöglichen. Die Prozessiervorrichtung 100 kann ferner eine Pumpvorrichtung 110 aufweisen oder eine Pumpvorrichtung kann mit der Prozessiervorrichtung 100 entsprechend gastechnisch gekoppelt sein. Die Pumpvorrichtung 110 kann mindestens eine Pumpe 112 aufweisen. Die mindestens eine Pumpe 112 kann eine Vakuumpumpe zum Erzeugen eines Vakuums sein (in diesem Fall wird die Pumpvorrichtung 110 als Vakuumpumpvorrichtung bezeichnet). Die Pumpvorrichtung 110 kann zum Beispiel mehrere Vakuumpumpen aufweisen. Die Vakuumpumpen der mehreren Vakuumpumpen können verschiedene Arten von Vakuumpumpen aufweisen. Eine Vakuumpumpe kann eine Vorpumpe, wie beispielsweise eine Scrollpumpe, eine Membranpumpe oder eine (mehrstufige) Wälzkolbenpumpe, eine Diffusionspumpe, eine Turbomolekularpumpe und/oder eine Kombination aus einem oder mehreren davon sein. Eine Vakuumpumpe kann einen aus Vorpumpe und Turbomolekularpumpe kombinierten Pumpstand aufweisen. Zwischen der Pumpöffnung 108 und der Pumpvorrichtung 110 kann ein Ventil 114 (z.B. ein Vakuumventil) angeordnet sein zum teilweisen oder vollständigen Abdichten der Pumpöffnung. Die Pumpvorrichtung 110 kann mit der mindestens einen Pumpöffnung 108 derart gekoppelt sein, dass die Pumpvorrichtung 110, beispielsweise unter Verwendung der mindestens einen Pumpe 112, den zweiten Bereich 106 abpumpen (z.B. evakuieren) kann. Die mindestens eine Pumpöffnung 108 kann derart ausgestaltet sein, dass kein direkter Pumpzugriff in den ersten Bereich 104 bereitgestellt ist. Beispielsweise kann die mindestens eine Pumpöffnung 108 derart ausgestaltet sein, dass der erste Bereich 104 nicht direkt abgepumpt werden kann. Beispielsweise kann der zweite Bereich 106 unter Verwendung der Pumpvorrichtung 110 mittels der Pumpöffnung 108 abgepumpt werden und der erste Bereich 104 kann beispielsweise indirekt mittels des zweiten Bereiches 106 abgepumpt werden. Beispielsweise kann der erste Bereich 104 mittels direkten Abpumpens des zweiten Bereiches 106 indirekt mit abgepumpt werden. Wenn die Prozessiervorrichtung 100 im Betrieb ist (z.B. wenn ein Substrat in dem ersten Bereich prozessiert wird oder werden soll), kann der erste Bereich 104 einen ersten Druck aufweisen und der zweite Bereich 106 kann einen zweiten Druck verschieden von dem ersten Druck (z.B. geringer als der erste Druck) aufweisen. Der erste Druck und der zweite Druck können somit eine Druckdifferenz definieren. Das resultierende Druckgefälle in der Prozesskammer kann zu einem Materialfluss bzw. einem Materialstrom von dem ersten Bereich 104 in Richtung des zweiten Bereichs 106 führen und/oder in den zweiten Bereich 106 hineinführen. Zum Beispiel kann ein Gasstrom 116 erzeugt werden der aus dem ersten Bereich 104 in den zweiten Bereich 106 strömt. Der Gasstrom kann beispielsweise Partikel enthalten, die somit aufgrund des Gasstroms aus dem ersten Bereich 104 in den zweiten Bereich 106 transportiert werden können.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessiervorrichtung 100 eine Prozessgaszuführung 117 aufweisen oder eine Prozessgaszuführung 117 kann so an die Prozesskammer 102 angekuppelt sein, dass mindestens ein Prozessgas der Prozesskammer 102 zugeführt werden kann. Die Prozessgaszuführung 117 kann eingerichtet sein, zum Zuführen von mindestens einem Prozessgas, wie beispielsweise Argon, Stickstoff, Sauerstoff etc., in den ersten Bereich 104. Das mindestens eine Prozessgas kann ein während des Prozessierens verwendetes Inertgas, wie beispielsweise Argon, und/oder ein Reaktivgas, wie beispielsweise Sauerstoff, aufweisen. Die Prozessiervorrichtung 100 kann eine Steuer/Regelvorrichtung aufweisen. Die Steuer/Regelvorrichtung kann eingerichtet sein zum Steuern und/oder Regeln eines Gasflusses der mittels der Prozessgaszuführung 117 in den ersten Bereich 104 eingebracht werden kann, zum Beispiel zum Steuern und/Regeln eines ersten Gasflusses eines ersten Prozessgases und/oder eines zweiten Gasflusses eines zweiten Prozessgases. Die Steuer/Regelvorrichtung kann derart eingerichtet sein, dass eine Vorgabegröße, wie beispielsweise ein erster Druck in dem ersten Bereich 104, ein Partialdruck eines Prozessgases, eine Schichtwachstumsrate auf mindestens einem Substrat, eine elektrische Leitfähigkeit von mindestens einem Substrat bzw. einer elektrischen Leitfähigkeit einer abgeschiedenen Schicht etc., in dem ersten Bereich 104 der Prozesskammer 102 eingestellt werden kann. Wie oben beschrieben, kann die Druckentkopplungsvorrichtung 118 eine erste Gasführung 120 aufweisen, wobei ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 104 in den zweiten Bereich 106 durch die erste Gasführung 120 hindurch bereitgestellt werden kann. Der Gasstrom kann das mindestens eine Prozessgas aufweisen.
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1B zeigt eine Prozessiervorrichtung 100 mit einer Druckentkopplungsvorrichtung 118 gemäß verschiedenen Ausführungsformen.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 118 kann beispielsweise zwischen dem ersten Bereich 104 und dem zweiten Bereich 106 der Prozesskammer 102 angeordnet sein und dazu verwendet werden, den ersten Bereich 104 der Prozesskammer 102 von dem zweiten Bereich 106 der Prozesskammer 102 gastechnisch zu separieren. Die Druckentkopplungsvorrichtung 118 kann eingerichtet sein zum effizienten Bereitstellen einer Druckdifferenz bzw. eines Druckgefälles in der Prozesskammer 102, wie vorangehend beschrieben.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 118 kann eine erste Gasführung 120 aufweisen. Die erste Gasführung 120 kann den ersten Bereich 104 und den zweiten Bereich 106 (anschaulich gasleitend) miteinander verbinden. Die erste Gasführung 120 kann den ersten Bereich 104 und den zweiten Bereich 106 derart miteinander verbinden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 104 durch die erste Gasführung 120 hindurch in den zweiten Bereich 106 bereitgestellt werden kann. Beispielsweise können sich bei Bereitstellung eines Gasstroms durch die erste Gasführung 120 hindurch Gasteilchen aus dem ersten Bereich 104 durch die erste Gasführung 120 hindurch in den zweiten Bereich 106 bewegen. Die erste Gasführung 120 kann mindestens eine Eingangsöffnung 122 aufweisen (zum Beispiel genau eine Eingangsöffnung, zum Beispiel zwei Eingangsöffnungen, zum Beispiel mehr als zwei Eingangsöffnungen, zum Beispiel eine Vielzahl von Eingangsöffnungen). Die mindestens eine Eingangsöffnung 122 kann beispielsweise an den ersten Bereich 104 angrenzen. Die mindestens eine Eingangsöffnung 122 kann derart relativ zu dem ersten Bereich 104 angeordnet sein (z.B. an den ersten Bereich 104 angrenzen), dass Gas aus dem ersten Bereich 104 in die erste Gasführung 120 strömen kann. Zum Beispiel kann die mindestens eine Eingangsöffnung 122 eine Vielzahl von Öffnungen aufweisen und kann derart an den ersten Bereich 104 angrenzen, dass Gas aus dem ersten Bereich 104 durch mindestens eine Öffnung der Vielzahl von Öffnungen (zum Beispiel durch jede Öffnung der Vielzahl von Öffnungen) hindurch in die erste Gasführung 120 strömen kann. Die erste Gasführung 120 kann mindestens eine Ausgangsöffnung 124 aufweisen (zum Beispiel genau eine Ausgangsöffnung, zum Beispiel zwei Ausgangsöffnungen, zum Beispiel mehr als zwei Ausgangsöffnungen, zum Beispiel eine Vielzahl von Ausgangsöffnungen). Die mindestens eine Ausgangsöffnung 124 kann an den zweiten Bereich 106 angrenzen. Die mindestens eine Ausgangsöffnung 124 kann derart relativ zu dem zweiten Bereich 106 angeordnet sein (z.B. an den zweiten Bereich 106 angrenzen), dass Gas aus der ersten Gasführung 120 in den zweiten Bereich 106 strömen kann. Zum Beispiel kann die mindestens eine Ausgangsöffnung 124 eine Vielzahl von Öffnungen aufweisen und kann derart an den zweiten Bereich 106 angrenzen, dass Gas aus der ersten Gasführung 120 durch mindestens eine Öffnung der Vielzahl von Öffnungen (zum Beispiel durch jede Öffnung der Vielzahl von Öffnungen) hindurch in den zweiten Bereich 106 strömen kann.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 118 kann ferner eine Filtervorrichtung 126 aufweisen. Die Filtervorrichtung 126 kann zumindest teilweise in der ersten Gasführung 120 angeordnet sein. Die Filtervorrichtung 126 kann eingerichtet sein zum Filtern von Partikeln aus einem Gasstrom. Beispielsweise kann ein Gasstrom, der aus dem ersten Bereich 104 durch die erste Gasführung 120 hindurch in den zweiten Bereich 106 strömt, Partikel aufweisen und die Filtervorrichtung 126 kann Partikel aus dem Gasstrom filtern. Anschaulich können in der ersten Gasführung 120 unter Verwendung der Filtervorrichtung 126 Partikel aus dem Gasstrom gefiltert werden und Gasteilchen können sich durch die erste Gasführung 120 hindurch in den zweiten Bereich 106 bewegen.
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Die Filtervorrichtung 126 kann mindestens einen Filter (zum Beispiel genau einen Filter, zum Beispiel zwei Filter, zum Beispiel mehr als zwei Filter) aufweisen. Der mindestens eine Filter kann eine Gewebestruktur aufweisen. Der mindestens eine Filter kann die mindestens eine Ausgangsöffnung 124 zumindest teilweise, vorzugsweise vollständig, abdecken. Der mindestens eine Filter kann derart angeordnet sein, dass mittels des mindestens eine Filters Partikel aus einem Gasstrom in der ersten Gasführung 120 gefiltert werden können. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die erste Gasführung 120 genau eine Ausgangsöffnung 124 auf und ein oder mehrere Filter können die genau eine Ausgangsöffnung 124 abdecken (zum Beispiel vollständig abdecken). Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die erste Gasführung 120 mehrere Ausgangsöffnungen 124 auf und ein oder mehrere Filter können die mehreren Ausgangsöffnungen 124 abdecken (zum Beispiel vollständig abdecken). Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist jeder Ausgangsöffnung der mindestens einen Ausgangsöffnung 124 genau ein Filter zugeordnet und der einer Ausgangsöffnung zugeordnete Filter kann die jeweilige Ausgangsöffnung abdecken (zum Beispiel vollständig abdecken).
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 118 kann eine Reinigungsvorrichtung 128 aufweisen. Die Reinigungsvorrichtung 128 kann zumindest teilweise in der ersten Gasführung 120 angeordnet sein. Die Reinigungsvorrichtung 128 kann eingerichtet sein zum Reinigen 128r der Filtervorrichtung 126. Die Reinigungsvorrichtung 128 kann mindestens ein Reinigungselement zum Reinigen 128r der Filtervorrichtung 126 aufweisen. Das mindestens eine Reinigungselement kann ein mechanisches Reinigungselement sein. Das mechanische Reinigungselement kann ein rotierendes Reinigungselement sein. Das mindestens eine Reinigungselement kann eingerichtet sein zum Entfernen von Ablagerungen in der Filtervorrichtung 126. Das mindestens eine Reinigungselement kann eingerichtet sein zum Reinigen des mindestens einen Filters der Filtervorrichtung 126. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die Filtervorrichtung 126 genau einen Filter auf und ein oder mehrere Reinigungselemente können den Filter reinigen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die Filtervorrichtung 126 mehrere Filter auf und ein oder mehrere Reinigungselemente können mindestens einen Filter der mehreren Filter reinigen (zum Beispiel jeden Filter der mehreren Filter). Gemäß verschiedenen Ausführungsformen entspricht die Anzahl an Filtern der Anzahl an Reinigungselementen, wobei jedes Reinigungselement genau einem Filter zugeordnet sein kann.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das mindestens eine Reinigungselement eingerichtet sein, Ablagerungen der Filtervorrichtung 126 auf einer Seite der Filtervorrichtung 126 zu entfernen, die dem zweiten Bereich 106 abgewandt ist. Somit kann beispielsweise verhindert werden, dass die mittels des Reinigungselements entfernten Ablagerungen in den zweiten Bereich 106 hineingelangen können. Anschaulich können die mittels des Reinigungselements entfernten Ablagerungen in der ersten Gasführung 120 verbleiben, und somit beispielsweise nicht die Abläufe in der Prozesskammer stören.
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Die Prozessiervorrichtung 100 kann eine erste Steuervorrichtung aufweisen, wobei die erste Steuervorrichtung eingerichtet sein kann zum Steuern des Reinigens 128r der Filtervorrichtung 126 mittels der Reinigungsvorrichtung 128. Die erste Steuervorrichtung kann die Reinigungsvorrichtung 128, beispielsweise die Reinigungselemente der Reinigungsvorrichtung, derart steuern, dass die Reinigungsvorrichtung 128 den mindestens einen Filter von den aus dem Gasstrom gefilterten Partikeln reinigt. Die erste Steuervorrichtung kann die Reinigungsvorrichtung 128 derart steuern, dass die Filtervorrichtung 126 in (z.B. regelmäßigen und/oder unregelmäßigen) Zeitabständen, wie beispielsweise in Abhängigkeit eines Verschmutzungsgrades des mindestens einen Filters (beispielsweise in Abhängigkeit der Menge an in dem mindestens einen Filter vorhandenen Partikeln), gereinigt wird.
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1C zeigt eine Prozessiervorrichtung 100 mit einer Druckentkopplungsvorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 118 kann ferner eine zweite Gasführung 130 aufweisen. Die zweite Gasführung 130 kann den ersten Bereich 104 und den zweiten Bereich 106 miteinander verbinden. Die zweite Gasführung 130 kann den ersten Bereich 104 und den zweiten Bereich 106 derart miteinander verbinden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 104 durch die zweite Gasführung 130 hindurch in den zweiten Bereich 106 bereitgestellt werden kann. Beispielsweise können sich bei Bereitstellung eines Gasstroms durch die zweite Gasführung 130 Gasteilchen aus dem ersten Bereich 104 in den zweiten Bereich 106 bewegen. Die zweite Gasführung 130 kann mindestens eine Eingangsöffnung 132 aufweisen. Zum Beispiel kann die mindestens eine Eingangsöffnung 132 der zweiten Gasführung 130 eine Vielzahl von Öffnungen aufweisen und kann derart an den ersten Bereich 104 angrenzen, dass Gas aus dem ersten Bereich 104 durch mindestens eine Öffnung der Vielzahl von Öffnungen (zum Beispiel durch jede Öffnung der Vielzahl von Öffnungen) hindurch in die zweite Gasführung 130 strömen kann. Die zweite Gasführung kann mindestens eine Ausgangsöffnung 134 aufweisen. Zum Beispiel kann die mindestens eine Ausgangsöffnung 134 der zweiten Gasführung 130 eine Vielzahl von Öffnungen aufweisen und kann derart an den zweiten Bereich 106 angrenzen, dass Gas aus der zweiten Gasführung 130 durch mindestens eine Öffnung der Vielzahl von Öffnungen (zum Beispiel durch jede Öffnung der Vielzahl von Öffnungen) in den zweiten Bereich 106 strömen kann. Die mindestens eine Eingangsöffnung 132 und die mindestens eine Ausgangsöffnung 134 der zweiten Gasführung 130 können mindestens eine Durchgangsöffnung bilden (zum Beispiel genau eine Durchgangsöffnung, zum Beispiel zwei Durchgangsöffnungen, zum Beispiel mehr als zwei Durchgangsöffnungen, zum Beispiel eine Vielzahl von Durchgangsöffnungen). Die mindestens eine Durchgangsöffnung kann an den ersten Bereich 104 angrenzen und kann an den zweiten Bereich 106 angrenzen. Die mindestens eine Durchgangsöffnung kann derart an den ersten Bereich 104 angrenzen, dass Gas aus dem ersten Bereich 104 in den zweiten Bereich 106 strömen kann.
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1D zeigt eine Prozessiervorrichtung 100 mit einer Druckentkopplungsvorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 118 kann ferner eine Ventilvorrichtung 136 aufweisen. Die Ventilvorrichtung 136 kann mindestens ein Ventil (zum Beispiel genau ein Ventil, zum Beispiel zwei Ventile, zum Beispiel mehr als zwei Ventile) aufweisen. Die Ventilvorrichtung 136 kann beispielsweise ein erstes Ventil 136A und ein zweites Ventil 136B aufweisen. Die Ventilvorrichtung 136 kann eingerichtet sein zum Einstellen eines Gasstroms, der durch die erste Gasführung 120 hindurchtritt. Zum Beispiel kann das erste Ventil 136 der Ventilvorrichtung 136 eingerichtet sein zum Einstellen des Gasstroms, der durch die erste Gasführung 120 hindurchtritt. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das erste Ventil 136A derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass die mindestens eine Eingangsöffnung 122 der ersten Gasführung 120 teilweise oder vollständig abgedeckt werden kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die erste Gasführung 120 genau eine Eingangsöffnung 122 auf und das erste Ventil 136A kann derart positioniert werden, dass das erste Ventil 136A die Eingangsöffnung 122 teilweise oder vollständig abdecken kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die erste Gasführung 120 mehrere Eingangsöffnungen 122 auf und das erste Ventil 136A kann derart positioniert werden, dass das erste Ventil 136A mindestens eine Eingangsöffnung der mehreren Eingangsöffnungen 122 (zum Beispiel jede Eingangsöffnung der mehreren Eingangsöffnungen) abdecken kann. Das erste Ventil 136A kann derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 104 durch die erste Gasführung 120 hindurch in den zweiten Bereich 106 reduziert oder verhindert wird.
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Das zweite Ventil 136B kann derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass das zweite Ventil 136B die mindestens eine Eingangsöffnung 132 der zweiten Gasführung 130 teilweise oder vollständig abdecken kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die zweite Gasführung mehrere Eingangsöffnungen 132 auf und das zweite Ventil 136B kann derart positioniert werden, dass das zweite Ventil 136B mindestens eine Eingangsöffnung der mehreren Eingangsöffnungen 132 (zum Beispiel jede Eingangsöffnung der mehreren Eingangsöffnungen) abdecken kann. Das zweite Ventil 136B kann derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 104 durch die zweite Gasführung 130 hindurch in den zweiten Bereich 106 reduziert oder verhindert wird.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die Ventilvorrichtung 136 genau ein Ventil auf, wobei das Ventil gemäß den Merkmalen des ersten Ventils 136A und des zweiten Ventils 136B eingerichtet sein kann.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Ventilvorrichtung 136 eine Schottwand aufweisen bzw. mittels einer beweglich gelagerten Schottwand realisiert sein, wie unter Anderem nachfolgend im Detail beschrieben ist.
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2A, 2B und 2C zeigen jeweils eine Prozessiervorrichtung 200 in verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen schematischen Ansichten.
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Die Prozessiervorrichtung 200 kann in gleicher oder ähnlicher Weise ausgestaltet sein, wie hierin mit Bezug auf die Prozessiervorrichtung 100 beschrieben ist. Beispielsweise kann die Prozessiervorrichtung 200 aufweisen: eine Prozesskammer 202 mit einem ersten Bereich 204 und einem zweiten Bereich 206 und eine Druckentkopplungsvorrichtung 208 aufweisen kann. Die Prozesskammer 202 kann eine Pumpöffnung 230 aufweisen. Die Prozessiervorrichtung 200 kann eine Pumpvorrichtung 232 aufweisen. Die Pumpvorrichtung 232 kann mindestens eine Pumpe 234 aufweisen. Die Pumpvorrichtung 232 kann mit der mindestens einen Pumpöffnung 230 derart gekoppelt sein, dass die Pumpvorrichtung 232, beispielsweise unter Verwendung der mindestens einen Pumpe 234, den zweiten Bereich 206 abpumpen bzw. evakuieren kann.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 208, die in der Prozessiervorrichtung verwendet wird, kann beispielsweise aufweisen: eine erste Gasführung 210, eine zweite Gasführung 220, eine Filtervorrichtung 216, eine Reinigungsvorrichtung 218 und eine Ventilvorrichtung 224. Die erste Gasführung 210 (in 2A anschaulich dargestellt in Form eines Gasstroms, der durch die erste Gasführung 210 hindurchtreten kann) der Druckentkopplungsvorrichtung 208 kann mindestens eine Eingangsöffnung 212 aufweisen. Die erste Gasführung 210 kann ferner mindestens eine Ausgangsöffnung 214 aufweisen. Die zweite Gasführung 220 (in 2A anschaulich dargestellt in Form eines Gasstroms, der durch die zweite Gasführung 220 hindurchtreten kann) kann mindestens eine Durchgangsöffnung 222 aufweisen. Die Filtervorrichtung 216 kann mindestens einen Filter 228 aufweisen. Die Reinigungsvorrichtung 218 kann mindestens ein Reinigungselement aufweisen. Wie in 2C dargestellt, kann die Reinigungsvorrichtung 218 gemäß einer beispielhaften Ausführungsform zwei Reinigungselemente 218A, 218B aufweisen.
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Die Ventilvorrichtung 224 kann mindestens ein Ventil aufweisen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das mindestens eine Ventil eine bewegliche, vorzugsweise verschiebbar, gelagerte Schottwand 226 zum Einstellen des Gasstroms sein. Die Schottwand 226 kann derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass die mindestens eine Eingangsöffnung 212 der ersten Gasführung 210 teilweise oder vollständig abgedeckt werden kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die erste Gasführung 210 genau eine Eingangsöffnung 210 auf und die Schottwand 226 kann derart positioniert werden, dass die Schottwand 226 die Eingangsöffnung 210 teilweise oder vollständig abdecken kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die erste Gasführung 210 mehrere Eingangsöffnungen 212 auf und die Schottwand 226 kann derart positioniert werden, dass die Schottwand 226 mindestens eine Eingangsöffnung der mehreren Eingangsöffnungen 212 (zum Beispiel jede Eingangsöffnung der mehreren Eingangsöffnungen 212) abdecken kann. Die Schottwand 226 kann derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 204 durch die erste Gasführung 210 hindurch in den zweiten Bereich 206 reduziert oder verhindert wird. Die Schottwand 226 der Druckentkopplungsvorrichtung 208 kann derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass die Schottwand 226 die mindestens eine Durchgangsöffnung 222 der zweiten Gasführung 220 teilweise oder vollständig abdecken kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die zweite Gasführung 220 mehrere Durchgangsöffnungen 222 auf und die Schottwand 226 kann derart positioniert werden, dass die Schottwand 226 mindestens eine Durchgangsöffnung der mehreren Durchgangsöffnungen 222 (zum Beispiel jede Durchgangsöffnung der mehreren Durchgangsöffnungen 222) abdecken kann. Die Schottwand 226 kann derart eingestellt bzw. positioniert werden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 204 durch die zweite Gasführung 220 hindurch in den zweiten Bereich 206 reduziert oder verhindert wird.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist die Schottwand 226 der Ventilvorrichtung 224 derart beweglich gelagert, dass die Schottwand in eine erste Stellung gebracht werden kann. Die Schottwand 226 kann derart eingestellt bzw. positioniert sein, dass die Schottwand 226 die mindestens eine Eingangsöffnung 212 der ersten Gasführung 210 nicht oder teilweise abdeckt und die Durchgangsöffnung 222 der zweiten Gasführung 220 nicht oder teilweise abdeckt, wenn diese in der ersten Stellung ist.
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2A, 2B und 2C stellen die Prozessiervorrichtung 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen dar, wobei die Schottwand 226 in einer ersten Stellung ist. Beispielsweise kann in der ersten Stellung die mindestens eine Eingangsöffnung 212 nicht abgedeckt sein und die Durchgangsöffnung 222 nicht abgedeckt sein, beispielsweise kann in der ersten Stellung die mindestens eine Eingangsöffnung 212 nicht abgedeckt sein und die Durchgangsöffnung 222 teilweise abgedeckt sein, beispielsweise kann in der ersten Stellung die mindestens eine Eingangsöffnung 212 teilweise abgedeckt sein und die Durchgangsöffnung 222 nicht abgedeckt sein, beispielsweise kann in der ersten Stellung die mindestens eine Eingangsöffnung 212 teilweise abgedeckt sein und die Durchgangsöffnung 222 teilweise abgedeckt sein. Beispielsweise kann in der ersten Stellung ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 204 in den zweiten Bereich 206 durch die erste Gasführung 210 hindurch und durch die zweite Gasführung 220 hindurch bereitgestellt werden. Wie oben beschrieben, kann der erste Bereich 204 indirekt mittels des zweiten Bereichs 206 unter Verwendung der Pumpvorrichtung 232 abgepumpt bzw. evakuiert werden. Das Bereitstellen eines Gasstromes von dem ersten Bereich 204 in den zweiten Bereich 206 durch die erste Gasführung 210 und durch die zweite Gasführung 220 hindurch hat den Effekt, dass die für ein Abpumpen, zum Beispiel Evakuieren, des ersten Bereichs 204 erforderliche Zeit verringert wird. Beispielsweise kann der erste Bereich 204 in der ersten Stellung schneller indirekt über den zweiten Bereich 206 abgepumpt werden im Vergleich zu einem Abpumpen nur durch die erste Gasführung 210 hindurch oder nur durch die zweite Gasführung 220 hindurch.
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In der ersten Stellung sind der erste Bereich 204 und der zweite Bereich 206 druckgekoppelt (beispielsweise kann aufgrund der Stellung der Schottwand und der Ausgestaltung der zweiten Gasführung 220 kein wesentliches Druckgefälle zwischen den beiden Bereichen 204, 206 in der Prozesskammer erzeugt werden). Beispielsweise kann eine Druckänderung des ersten Drucks im ersten Bereich 204 den zweiten Druck im zweiten Bereich 206 beeinflussen, z.B. ändern, und eine Druckänderung des zweiten Drucks im zweiten Bereich 206 kann den ersten Druck im ersten Bereich 204 beeinflussen.
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Die Prozessiervorrichtung 200 kann eine zweite Steuervorrichtung aufweisen. Die zweite Steuervorrichtung kann eingerichtet sein kann zum Steuern des Einstellens bzw. Positionierens der Schottwand 226 in die erste Stellung. Beispielsweise kann die zweite Steuervorrichtung die Schottwand 226 derart positionieren, dass die Schottwand 226 die Eingangsöffnung 212 nicht oder teilweise abdeckt und dass die Schottwand 226 die Durchgangsöffnung nicht oder teilweise abdeckt. Beispielsweise kann die zweite Steuervorrichtung die Schottwand 226 derart positionieren, dass ein Abdeckungsgrad der Eingangsöffnung 212 und ein Abdeckungsgrad der Durchgangsöffnung 222 eingestellt wird. In Abhängigkeit des eingestellten Abdeckungsgrads der Eingangsöffnung 212 und des eingestellten Abdeckungsgrads der Durchgangsöffnung 222 kann die zweite Steuervorrichtung eingerichtet sein zum Einstellen einer Druckdifferenz zwischen dem ersten Druck im ersten Bereich 204 und dem zweiten Druck im zweiten Bereich 206 der Prozesskammer 202.
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Die Prozessiervorrichtung 200 kann eine zentrale Steuervorrichtung aufweisen, wobei die zentrale Steuervorrichtung beispielsweise die erste Steuervorrichtung und/oder die zweite Steuervorrichtung aufweisen kann.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist die Schottwand 226 der Ventilvorrichtung 224 derart beweglich gelagert, dass die Schottwand 226 in eine zweite Stellung gebracht werden kann. Die Schottwand 226 kann derart eingestellt bzw. positioniert sein, dass die Schottwand 226 die mindestens eine Eingangsöffnung 212 der ersten Gasführung 210 vollständig abdeckt und die Durchgangsöffnung 222 der zweiten Gasführung 220 vollständig abdeckt, wenn diese in der zweiten Stellung ist.
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3A zeigt die Prozessiervorrichtung 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wobei die Schottwand 226 in der zweiten Stellung ist. 3B zeigt eine beispielhafte Prozessiervorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wobei die Schottwand 226 in der zweiten Stellung ist. In der zweiten Stellung kann die Schottwand 226 die mindestens eine Eingangsöffnung 212 und die Durchgangsöffnung 222 vollständig abdecken. Beispielsweise kann die Schottwand 226 derart positioniert sein, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 204 in den zweiten Bereich 206 weder durch die erste Gasführung 210 hindurch noch durch die zweite Gasführung 220 hindurch bereitgestellt werden kann. Beispielsweise sind in der zweiten Stellung der erste Bereich 204 und der zweite Bereich 206 druckentkoppelt. Beispielsweise kann eine Druckänderung des ersten Drucks im ersten Bereich 204 im Wesentlichen keinen Einfluss auf den zweiten Druck im zweiten Bereich 206 haben und eine Druckänderung des zweiten Drucks im zweiten Bereich 206 im Wesentlichen keinen Einfluss auf den ersten Druck im ersten Bereich 204 haben.
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Die zweite Steuervorrichtung kann eingerichtet sein zum Steuern des Einstellens bzw. Positionierens der Schottwand 206 in die zweite Stellung.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist die Schottwand 226 der Ventilvorrichtung 224 derart beweglich gelagert, dass die Schottwand 226 in eine dritte Stellung gebracht werden kann. Die Schottwand 226 kann derart eingestellt bzw. positioniert sein, dass die Schottwand 226 die mindestens eine Eingangsöffnung 212 der ersten Gasführung 210 nicht oder teilweise abdeckt und die Durchgangsöffnung 222 der zweiten Gasführung 220 vollständig abdeckt, wenn diese in der dritten Stellung ist.
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4A zeigt die Prozessiervorrichtung 200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wobei die Schottwand 226 in der dritten Stellung ist. 4B und 4C zeigen eine beispielhafte Prozessiervorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wobei die Schottwand 226 in der dritten Stellung ist. In der dritten Stellung kann die Schottwand 226 die mindestens eine Eingangsöffnung 212 nicht oder teilweise abdecken und die Durchgangsöffnung 222 vollständig abdecken. Beispielsweise kann die Schottwand 226 derart positioniert werden, dass ein Gasstrom aus dem ersten Bereich 204 in den zweiten Bereich 206 durch die erste Gasführung 210 hindurch aber nicht durch die zweite Gasführung 220 hindurch bereitgestellt werden kann. In der dritten Stellung sind der erste Druck im ersten Bereich 204 und der zweite Druck im zweiten Bereich 206 druckgekoppelt. Beispielsweise kann eine Druckänderung des ersten Drucks im ersten Bereich 204 den zweiten Druck im zweiten Bereich 206 beeinflussen, z.B. ändern, und eine Druckänderung des zweiten Drucks im zweiten Bereich 206 kann den ersten Druck im ersten Bereich 204 beeinflussen.
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Die zweite Steuervorrichtung kann eingerichtet sein zum Steuern des Einstellens bzw. Positionierens der Schottwand 226 in die dritte Stellung. Beispielsweise kann die zweite Steuervorrichtung die Schottwand 226 derart positionieren, dass die Schottwand 226 die Eingangsöffnung 212 nicht oder teilweise abdeckt und dass die Schottwand 206 die Durchgangsöffnung 222 vollständig abdeckt. Beispielsweise kann die zweite Steuervorrichtung die Schottwand 226 derart positionieren, dass ein Abdeckungsgrad der Eingangsöffnung 212 und eine vollständige Abdeckung der Durchgangsöffnung 222 eingestellt wird. In Abhängigkeit des eingestellten Abdeckungsgrads der Eingangsöffnung 212 kann die zweite Steuervorrichtung eingerichtet sein zum Einstellen einer Druckdifferenz zwischen dem ersten Druck im ersten Bereich 204 und dem zweiten Druck im zweiten Bereich 206 der Prozesskammer 202. Wie oben beschrieben, kann in der ersten Gasführung 210 eine Filtervorrichtung 216 angeordnet sein, wobei die Filtervorrichtung 216 eingerichtet sein kann zum Filtern von Partikeln aus einem Gasstrom. Das Einstellen bzw. Positionieren der Schottwand 226 in der dritten Stellung hat den Effekt, dass in dem Gasstrom vorliegende Partikel unter Verwendung der in der ersten Gasführung 210 angeordneten Filtervorrichtung 216 gefiltert werden können. Dies hat ferner den Effekt, dass eine Ablagerung von Partikeln in dem zweiten Bereich 206 und/oder in der Pumpvorrichtung 232 verringert, beispielsweise verhindert, wird.
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5 zeigt eine Druckentkopplungsvorrichtung 500 gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Die Druckentkopplungsvorrichtung 500 kann ähnlich sein zu der Druckentkopplungsvorrichtung 208, wobei die Druckentkopplungsvorrichtung 500 gemäß verschiedenen Ausführungsformen keine Reinigungsvorrichtung 218 zum Reinigen der Filtervorrichtung 216 aufweisen kann. Mit anderen Worten kann zumindest in einigen Ausführungsbeispielen die Reinigungsvorrichtung 218 zum Reinigen der Filtervorrichtung 216 optional sein. Die Druckentkopplungsvorrichtung 500 kann beispielsweise in der Prozessiervorrichtung 200 anstatt und/oder in Kombination mit der Druckentkopplungsvorrichtung 208 verwendet werden.
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Im Folgenden wird die Druckentkopplungsvorrichtung 500 für eine Verwendung als Druckentkopplungsvorrichtung in der Prozessiervorrichtung 200 beschrieben. Es wird allerdings darauf hingewiesen, dass die Druckentkopplungsvorrichtung 500 auch in einer anderen Prozessiervorrichtung verwendet werden kann.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 500 kann beispielsweise zwischen dem ersten Bereich 204 und dem zweiten Bereich 206 der Prozesskammer 202 angeordnet sein und dazu verwendet werden, den ersten Bereich 204 der Prozesskammer 202 von dem zweiten Bereich 206 der Prozesskammer 202 gastechnisch zu separieren. Die Druckentkopplungsvorrichtung 500 kann eingerichtet sein zum effizienten Bereitstellen einer Druckdifferenz bzw. eines Druckgefälles in der Prozesskammer 202, wie vorangehend beschrieben.
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Die Druckentkopplungsvorrichtung 500 kann die erste Gasführung 210 aufweisen. Die Druckentkopplungsvorrichtung 500 kann ferner die in der ersten Gasführung 210 angeordnete Filtervorrichtung 216 zum Filtern von Partikeln (zum Beispiel mittels des Filters 228) aus einem Gasstrom durch die erste Gasführung 210 hindurch aufweisen. Die Druckentkopplungsvorrichtung 500 kann die bewegliche, vorzugsweise verschiebbar, gelagerte Schottwand 226 zum Einstellen eines Gasstroms aus dem ersten Bereich 204 durch die erste Gasführung 210 hindurch in den zweiten Bereich 206 aufweisen.
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Zum Beispiel kann das Filtern der Partikel mittels der Filtervorrichtung 216 zu Ablagerungen in und/oder an der Filtervorrichtung 216 führen. Dies kann zu einer Verringerung des Gasdurchflusses durch die erste Gasführung 210 hindurch führen - trotz gleichbleibender Pumpleistung - und in Folge dessen zu einer Veränderung (beispielsweise Schwankungen) des Gasdrucks in dem ersten Bereich 204. Anschaulich kann sich der Gasleitwert, welcher der ersten Gasführung 210 zugeordnet ist, aufgrund der Ablagerungen der Partikel in und/oder an der Filtervorrichtung 216 verringern. Bei dem Prozessieren von mindestens einem Substrat in dem ersten Bereich 204 der Prozesskammer 202 kann es allerdings erwünscht oder erforderlich sein, einen konstanten Gasdruck bereitzustellen.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Druckentkopplungsvorrichtung 500 eine Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 aufweisen. Die Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 kann eingerichtet sein zum Einstellen/Positionieren der Schottwand 226. Die Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 kann eingerichtet sein, die Schottwand 226 derart einzustellen/zu positionieren, dass ein Gasdurchfluss bzw. der Leitwert aus dem ersten Bereich 204 durch die erste Gasführung 210 hindurch in den zweiten Bereich 206 im Wesentlichen konstant sind. Die Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 kann eingerichtet sein, die Schottwand 226 unter Verwendung mindestens eines Gasdurchfluss-Parameters einzustellen/zu positionieren.
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Der Gasdurchfluss-Parameter kann beispielsweise ein Parameter sein, welcher eines, mehreres oder alles von Folgendem repräsentiert:
- • einen Druck in dem ersten Bereich 204,
- • einen Druck in dem zweiten Bereich 206,
- • einen Druckunterschied zwischen einem Druck in dem ersten Bereich 204 und einem Druck in dem zweiten Bereich 206,
- • eine Druckschwankung in dem ersten Bereich 204,
- • eine Druckschwankung in dem zweiten Bereich 206,
- • eine mittels einer Prozessgaszuführung zugeführten GasMenge.
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Anschaulich kann die Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 die Schottwand 226 in Abhängigkeit des mindestens einen Gasdurchfluss-Parameters bewegen (z.B. wahlweise öffnen oder schließen), um beispielsweise einen im Wesentlichen konstanten Druck (z.B. mit einer Druckschwankung von weniger als ±50 % während des Prozessierens eines Substrats in dem ersten Bereich) in dem ersten Bereich 204 bereitzustellen. Somit kann beispielsweise ein Substrat effizient in dem ersten Bereich prozessiert werden (z.B. ohne wesentliche Schwankung des Prozessierens des Substrats).
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Druckentkopplungsvorrichtung 500 zusätzlich zu der beschriebenen Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 auch eine Reinigungsvorrichtung zum Reinigen der Filtervorrichtung 216 aufweisen. Die Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 und die erste Steuervorrichtung können beispielsweise eingerichtet sein, das Einstellen/Positionieren der Schottwand 226 bzw. das Reinigen der Filtervorrichtung 216 derart zu steuern, dass der Gasdurchfluss (bzw. der Leitwert) aus dem ersten Bereich 204 durch die erste Gasführung 210 hindurch in den zweiten Bereich 206 im Wesentlichen konstant ist. Anschaulich kann die Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 die Schottwand 226 mit zunehmender Verschmutzung der Filtervorrichtung 216 weiter öffnen (anschaulich den Öffnungsgrad vergrößern) und die Schottwand 226 während des und/oder nach dem Reinigen der Filtervorrichtung 216 wieder schließen (anschaulich den Öffnungsgrad verringern). Beispielsweise kann die erste Steuervorrichtung eingerichtet sein, die Reinigungsvorrichtung 218 zum Reinigen der Filtervorrichtung 216 zu aktivieren, wenn die Schottwand 226 einen vorgegeben Öffnungsgrad aufweist (zum Beispiel, wenn die Schottwand 226 nicht weiter geöffnet werden kann).
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Mittels des Verwendens der Schottwand-Steuer-Vorrichtung 502 z.B. in Kombination mit der Reinigungsvorrichtung 218 kann beispielsweise ein Reinigen der Filtervorrichtung 216 in größeren Zeitabständen erfolgen.
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6 zeigt ein Verfahren 600 zum Betreiben einer Prozessiervorrichtung gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Die Prozessiervorrichtung kann beispielsweise die Prozessiervorrichtung 100 oder die Prozessiervorrichtung 200 sein. Das Verfahren 600 kann das Bereitstellen eines Gasstroms aus einem ersten Bereich einer Prozesskammer durch eine erste Gasführung hindurch in einen zweiten Bereich der Prozesskammer aufweisen (in 602). Das Bereitstellen des Gasstromes aus dem ersten Bereich in den zweiten Bereich kann beispielsweise das Bereitstellen eines Gasstromes aus dem ersten Bereich in den zweiten Bereich nur durch die erste Gasführung hindurch aufweisen. Beispielsweise können sich, anschaulich, im Wesentlichen alle Teilchen des Gasstroms durch die erste Gasführung hindurch in den zweiten Bereich der Prozesskammer bewegen. Das Verfahren 600 kann ferner das Filtern von Partikeln aus dem Gasstrom mittels eines in der ersten Gasführung angeordneten mindestens einen Filters aufweisen (in 604). Das Filtern von Partikeln kann das Ablagern von Partikeln in, auf und/oder an dem mindestens einen Filter aufweisen.
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Das Verfahren 600 kann optional das Reinigen des mindestens einen Filters aufweisen (in 606A), wobei der mindestens eine Filter derart gereinigt werden kann, dass die aus dem Gasstrom gefilterten Partikel in der ersten Gasführung verbleiben.
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Das Verfahren 600 kann optional das Einstellen eines Öffnungsgrades der ersten Gasführung aufweisen (in 606B). Der Öffnungsgrad der ersten Gasführung kann mittels einer zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordneten, beweglich gelagerten Schottwand eingestellt werden. Der Öffnungsgrad der ersten Gasführung kann in Abhängigkeit der Menge an gefilterten Partikeln eingestellt werden.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Verfahren 600 das Reinigen des mindestens einen Filters aufweisen (in 606A) und das Einstellen eines Öffnungsgrades der ersten Gasführung aufweisen (in 606B) aufweisen.
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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessiervorrichtung einen ersten Betriebsmodus und einen zweiten Betriebsmodus aufweisen. In dem ersten Betriebsmodus kann das Verfahren 600 durchgeführt werden. In dem zweiten Betriebsmodus kann das Verfahren 600 ferner das Bereitstellen eines Gasstromes aus dem ersten Bereich der Prozesskammer durch eine zweite Gasführung hindurch in den zweiten Bereich der Prozesskammer aufweisen. Die zweite Gasführung kann die erste Gasführung überbrücken. Beispielsweise kann in dem zweiten Betriebsmodus ein Gasstrom aus dem ersten Bereich der Prozesskammer durch die erste Gasführung hindurch und durch die zweite Gasführung hindurch auftreten werden.
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Infolge von äußerer Reibung zwischen Gasteilchen und Wandflächen und innerer Reibung der Gasteilchen untereinander (Viskosität) kommt es zu Strömungswiderständen, die sich beispielsweise in Druckunterschieden und Saugvermögensverlusten äußern können. In der Vakuumtechnik benutzt man üblicherweise an Stelle des Strömungswiderstands W dessen Kehrwert, den Leitwert L oder C (engl. Conductance). Der Leitwert hat die Dimension eines Saugvermögens und wird meist in [1 s-1] oder [m3 h-1] angegeben. Beispielsweise kann der Leitwert (der Strömungswiderstand) durch die zweite Gasführung hindurch wesentlich größer (z.B. 10- oder 100-mal größer) (bzw. der Strömungswiderstand kann wesentlich kleiner) sein als durch die erste Gasführung hindurch. Es versteht sich, dass der Vergleich der Leitwerte oder ähnlicher physikalischer Eigenschaften (z.B. der Gasfluss, etc.) bei gleichen Bedingungen erfolgt, z.B. gleicher Druck, gleiche Temperatur, gleiches Gas, etc., da der Leitwert beispielsweise material-, temperatur- und/oder druckabhängig sein kann.
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Beispielsweise kann der Leitwert der ersten Gaszuführung im ersten Betriebsmodus im Wesentlichen konstant bleiben mittels Reinigens des Filters und/oder mittels eines entsprechenden Steuerns/Regelns des Öffnungsgrades der ersten Gasführung. Daher kann ein Substrat beispielsweise unter konstanten Gasströmungsbedingungen in dem ersten Bereich prozessiert werden.
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Wie oben beschrieben, kann im zweiten Betriebsmodus der Leitwert durch die zweite Gasführung hindurch wesentlich größer sein als der Leitwert durch die erste Gasführung hindurch. Daher kann in dem zweiten Betriebsmodus zwar der Großteil des Gases nicht gefiltert werden, da hier der Großteil des Gases aufgrund der Leitwertunterschiede der Gasführungen im Wesentlichen durch die zweite Gaszuführung hindurch strömt, jedoch kann in diesem Modus beispielsweise der erste Bereich schneller auf ein Prozessieren vorbereitet werden als es in dem ersten Betriebsmodus möglich wäre. Beispielsweise kann der erste Bereich auf einen Basisdruck gebracht werden, bevor Prozessgas eingeleitet wird, und das Substrat kann prozessiert werden, nachdem der Basisdruck erreicht wurde und das Prozessgas eingeleitet wurde.
