JP6448875B1 - 光走査装置および光走査装置の調整方法 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 128
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 82
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 15
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 50
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 16
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 13
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000001182 laser chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
- G02B26/0858—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
- G01S7/4817—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements relating to scanning
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
- G01S7/497—Means for monitoring or calibrating
- G01S7/4972—Alignment of sensor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
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- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Micromachines (AREA)
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- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
Description
実施の形態1.
図1は、実施の形態1の光走査装置100の構成、および光走査装置100の主要部の表面を表わす図である。図2は、実施の形態1の光走査装置100の主要部の裏面を表わす図である。
実施の形態1の光走査装置100は、以下の特徴を備える。
ミラー部1のモーダル解析の結果を説明する。
図7に示すように、ミラー部1の偏向角θは、ミラー部1とXY平面とのなす角度である。
ここで、ω=2π×F0である。F0は、固有振動モード2の共振周波数および固有振動モード3の共振周波数である。tは時間である。
式(1)のVi(1)と式(2)のVi(2)は符号が反転しているので、式(1)のVi(1)の位相と式(2)のVi(2)の位相は、180°相違する。
レーザ距離センサは、センシング部99と、光学系91と、光走査装置100とを備える。センシング部99は、距離情報算出器93と、駆動回路96と、レーザダイオードLDと、フォトダイオードPDと、受信回路95とを備える。
図15(a)〜(i)は、製造工程における光走査装置100の断面図である。
実施の形態2の光走査装置100は、以下の特徴を備える。
(6)ミラー部(1)は、半導体基板の結晶面(100)を利用して形成されたものである。Nは、4×n(nは自然数)である。ミラー面(1B)の形状は、円形である。
実施の形態3.
図16は、実施の形態3における光走査装置200の駆動梁3−i(i=1〜4)上の圧電素子5−i−a〜dに印加する交流電圧を説明するための図である。
(付記)
実施の形態3の光走査装置200は、以下の特徴を備える。
図17は、実施の形態4の光走査装置300の主要部の表面を表わす図である。
図18は、実施の形態5の光走査装置400の主要部の表面を表わす図である。
ここで、ω=2π×F0である。F0は、固有振動モード2の共振周波数および固有振動モード3の共振周波数である。tは時間である。
式(3)のVi(1)と式(4)のVi(2)は符号が反転しているので、式(3)のVi(1)の位相と式(4)のVi(2)の位相は、180°相違する。
ここで、ω=2π×F0である。F0は、固有振動モード2の共振周波数および固有振動モード3の共振周波数である。tは時間である。
式(3A)のVi(1)と式(4A)のVi(2)は符号が反転しているので、式(3A)のVi(1)の位相と式(4A)のVi(2)の位相は、180°相違する。
実施の形態5の光走査装置400は、以下の特徴を備える。
実施の形態6.
図19は、実施の形態6の光走査装置500の主要部の表面を表わす図である。
支持梁2−1〜2−4は、シリコンミラー部501Cを揺動可能に支持する。支持梁2−1〜2−4は、同一の形状および大きさを有する。支持梁2−1〜2−4は、ミラー部501の中心軸(Z軸)対して90°回転対称に配置される。
ここで、ω=2π×F0である。F0は、固有振動モード2の共振周波数および固有振動モード3の共振周波数である。tは時間である。
式(5)のVi(1)と式(6)のVi(2)は符号が反転しているので、式(5)のVi(1)の位相と式(6)のVi(2)の位相は、180°相違する。
実施の形態6の光走査装置500は、以下の特徴を備える。
実施の形態7.
図20は、実施の形態7の光走査装置600の主要部の表面を表わす図である。
支持梁2−1〜2−3は、シリコンミラー部601Cを揺動可能に支持する。支持梁2−1〜2−3は、同一の形状および大きさを有する。支持梁2−1〜2−3は、ミラー部601の中心軸(Z軸)対して120°回転対称に配置される。
ここで、ω=2π×F0である。ただし、F0は、固有振動モード2の共振周波数および固有振動モード3の共振周波数である。tは時間である。
式(7)のVi(1)と式(8)のVi(2)は符号が反転しているので、式(7)のVi(1)の位相と式(8)のVi(2)の位相は、180°相違する。
実施の形態7の光走査装置600は、以下の特徴を備える。
(12)N個の支持梁(2−1〜2−3)は、ミラー部(601)の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置される。N個の駆動梁(3−1〜3−3)は、ミラー部(601)の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置される。ミラー部(601)の形状は、ミラー部(601)の中心軸に対して、(360°/N)回転対称である。
全周回転可能なMEMSミラーにおいて、回転変位が歪んで線形性が悪い場合に、取得した距離情報に誤差が発生するため、線形性の高い回転変位が必要となる。特許文献1−3に記載の装置は、ミラー変位の線形性を制御する機構を備えない。本実施の形態の光走査装置は、ミラー変位の線形性を制御する。
ミラー部1の円周において、Z軸方向に最大変位した点の円周角ψをミラー最大変位円周角ψmとする。圧電素子5−i−a,b,c,dに印加する交流電圧の位相を印加電圧位相Φとする。
ミラー部(1)の全周回転変位の線形性からのプロット線Bのずれを表わす量であるして、回線線形性誤差を用いる。近似直線を式(9)で表わす。近似直線は、最小二乗法によって求めることができる。
Ψm(Φ)を実測値とする。ずれ量Δ(Φ)は、式(10)で表される。
ここで、abs(s)は、sの絶対値を表わす。
図28に示すように、固有振動モード2と固有振動モード3の中間周波数Fmでは、回転線形性誤差が非常に大きい。
V1(2)=−Vs1×sin(ωt+Φ1)…(12)
V2(1)=Vs2×sin(ωt+90°+Φ2)…(13)
V2(2)=−Vs2×sin(ωt+90°+Φ2)…(14)
V3(1)=Vs3×sin(ωt+180°+Φ3)…(15)
V3(2)=−Vs3×sin(ωt+180°+Φ3)…(16)
V4(1)=Vs4×sin(ωt+270°+Φ4)…(17)
V4(2)=−Vs4×sin(ωt+270°+Φ4)…(18)
ここで、ω=2π×(F2+F3)/2である。F2は、固有振動モード2の共振周波数、F3は、固有振動モード3の共振周波数である。tは時間である。
実施の形態8の光走査装置700は、以下の特徴を備える。
実施の形態9では、実施の形態8と同様に、圧電素子に印加する交流電圧の周波数を固有振動モード2と固有振動モード3の中間周波数Fmとし、印加する交流電圧の初期位相および振幅を調整することによって、回転線形性誤差を減少させる。
ステップS218において、制御部61は、Vs4dを一定値V0に設定する。
図33は、実施の形態10の光走査装置900における圧電素子5−i−a〜d(i=1〜4)を駆動する電圧を説明するための図である。電源部62は、駆動電源20−1と、駆動電源20−2とを備える。
V1(1)=Vs1×sin(ωt+Φ1)…(19)
V1(2)=−Vs1×sin(ωt+Φ1)…(20)
ここで、ω=2π×(F2+F3)/2である。F2は、固有振動モード2の共振周波数、F3は、固有振動モード3の共振周波数である。tは時間である。
V2(1)=Vs2×sin(ωt+90°+Φ2)…(21)
V2(2)=−Vs2×sin(ωt+90°+Φ2)…(22)
V1(1)は、第1番目の駆動梁3−1上の圧電素子5−1−a、5−1−cに供給されるとともに、第3番目の駆動梁3−3上の圧電素子5−3−b、5−3−dに供給される。
ステップS305において、制御部61は、駆動電源20−1、20−2の電圧の初期位相Φ1、Φ2をΦ1d、Φ2dに固定する。
上述の調整後において、制御部61は、式(19)〜(22)の初期位相Φ1、Φ2をΦ1d、Φ2dに設定し、振幅Vs1、Vs2をVs1d、Vs2dに設定することによって、ミラー部1を駆動する。
実施の形態10の光走査装置900は、以下の特徴を備える。
図36は、実施の形態11の光走査装置1000のミラー部1を表わす図である。
固有振動モード2の共振周波数F2と固有振動モード3の共振周波数F3の差が大きい場合、トリミングパターン18をレーザ等で局所的に破断し、または蒸発させることによってトリミングすることによって、共振周波数F2と共振周波数F3の差を少なくすることができる。
ミラー最大変位とは、ミラー部1の円周上の点のZ軸方向への最大変位を表わす。トリミング前では、共振周波数F2と共振周波数F3の差が大きいため、中間周波数Fmでのミラー最大変位が小さい。
トリミング後では、共振周波数F2と共振周波数F3の差が小さいため、中間周波数Fmでのミラー最大変位が大きい。
実施の形態11の光走査装置1000は、以下の特徴を備える。
このような構成によって、第1の固有振動モード(固有振動モード2)の共振周波数F2と第2の固有振動モード(固有振動モード3)の共振周波数F3の差が大きいため、中間周波数Fmで共振駆動ができない場合でも、ミラー部(1)の外周にトリミングパターンが設けられているので、これをトリミングすることによって、共振周波数F2と共振周波数F3の差を小さくして、中間周波数Fmで共振駆動ができるようにすることができる。
実施の形態11では、ミラー部1の外周にトリミングパターンを配置したが、これに限定されるものではない。
実施の形態12の光走査装置1100は、以下の特徴を備える。
図42は、実施の形態13の一例の光走査装置1200の表わす図である。
図43に示すように、支持梁2−1上に周波数調整膜32が形成されることによって、共振周波数差を調整する。
実施の形態13の光走査装置1200、1300は、以下の特徴を備える。
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、たとえば、以下のような変形例も含む。
実施の形態2〜7では、固有振動モード2の共振周波数と固有振動モード3の共振周波数が一致するように、ミラー部1は、Z軸を中心に360°/N回転対称形状を有するものとしたが、これに限定されるものではない。ミラー部1は、Z軸を中心に360°/N回転対称形状を有しなくても、駆動梁、支持梁、ミラー部のメカニカル剛性を調整することによって、固有振動モード2の共振周波数と固有振動モード3の共振周波数が一致するようにすることができる。ただし、ミラー部1がZ軸を中心に360°/N回転対称形状を有するものとした方が、回転線形性誤差を小さくすることができる。
実施の形態1〜11では、1つの駆動梁のミラー部1の周方向と同一方向に延在する複数の周方向部分の各々に2つの圧電素子が配置されるものとしたが、これに限定するものではない。たとえば、1つの駆動梁に端から順番にA、B、C、D、折り曲げ部分、E、F、G、Hの圧電素子が配置されている場合に、A、B、E、Fに位相Pの交流電圧を与え、C、D、G、Hに位相(P+180°)の交流電圧を与えるものとしてもよい。これによって、圧電素子に加わるメカニカル応力が減少して、圧電素子の破壊および剥離が軽減される。一方、実施の形態1〜11のように2つの圧電素子が配置されるものとすると、圧電素子の配置面積を大きくすることができ、駆動力を大きくすることができる。
実施の形態3〜7のミラー部、駆動梁、支持梁、および圧電素子の構成は、固有振動モード2の共振周波数と固有振動モード3の共振周波数が一致することを前提としたが、これに限定するものではない。実施の形態3〜7のミラー部、駆動梁、支持梁、および圧電素子の構成は、実施の形態8〜12に記載の固有振動モード2の共振周波数と固有振動モード3の共振周波数の中間周波数を利用する場合にも適用できる。
Claims (10)
- 光走査装置であって、
光を反射するミラー面を有するミラー部と、
前記ミラー部を揺動可能に支持するN個(N≧3)の支持梁と、
前記N個の支持梁とそれぞれ接続されるN個の駆動梁とを備え、
前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の周囲を取り囲むように配置され、前記N個の駆動梁の各々の両端のうち前記支持梁と接続していない方の端は固定され、前記N個の駆動梁の各々は1回以上折り曲げられた形状を有し、
前記光走査装置は、さらに、
前記N個の駆動梁上に固着された駆動用の複数個の圧電素子と、
前記複数個の圧電素子に、交流電圧を印加する電源部とを備え、
前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の周波数を決められた共通の値とし、前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の位相を前記各圧電素子の位置に応じた決められた値とすることによって、前記ミラー部が歳差運動し、
前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、
前記ミラー部は、第1軸周りに回転変位する第1の固有振動モードと、第2軸周りに回転変位する第2の固有振動モードとを有し、前記第1軸および前記第2軸は、前記ミラー面に平行であり、前記第1軸の方向は、前記ミラー部の中心と、前記ミラー部と前記N個の支持梁のうちの1つとの接続箇所とを結ぶ直線の方向であり、前記第2軸は前記第1軸に直交し、
前記電源部は、前記第1の固有振動モードの共振周波数と前記第2の固有振動モードの共振周波数の中間周波数の交流電圧を印加し、
前記交流電圧の振幅および初期位相が調整可能であり、
前記電源部は、各々が、対応する駆動梁の複数の圧電素子へ交流電圧を印加するN個の駆動電源を備え、
前記交流電圧の初期位相の調整において、前記N個の駆動梁の中から1つの駆動梁を選択し、前記選択された駆動梁以外の1以上の駆動梁の複数の圧電素子に与える交流電圧の振幅および初期位相を固定し、かつ選択された駆動梁の複数の圧電素子に与える交流電圧の振幅を固定するとともに、初期位相を変化させ、回転線形性誤差が最小となるときの初期位相を前記選択された駆動梁の複数の圧電素子に与える交流電圧の初期位相の調整値として決定する制御部を備え、
前記回転線形性誤差は、前記ミラー部の全周回転変位の線形性からのずれを表わす量であり、前記ミラー部の全周回転変位は、前記ミラー部の偏向角を一定に維持しつつ、前記ミラー部の中心軸が一回転するような前記ミラー部の変位である、光走査装置。 - 光走査装置であって、
光を反射するミラー面を有するミラー部と、
前記ミラー部を揺動可能に支持するN個(N≧3)の支持梁と、
前記N個の支持梁とそれぞれ接続されるN個の駆動梁とを備え、
前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の周囲を取り囲むように配置され、前記N個の駆動梁の各々の両端のうち前記支持梁と接続していない方の端は固定され、前記N個の駆動梁の各々は1回以上折り曲げられた形状を有し、
前記光走査装置は、さらに、
前記N個の駆動梁上に固着された駆動用の複数個の圧電素子と、
前記複数個の圧電素子に、交流電圧を印加する電源部とを備え、
前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の周波数を決められた共通の値とし、前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の位相を前記各圧電素子の位置に応じた決められた値とすることによって、前記ミラー部が歳差運動し、
前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、
前記ミラー部は、第1軸周りに回転変位する第1の固有振動モードと、第2軸周りに回転変位する第2の固有振動モードとを有し、前記第1軸および前記第2軸は、前記ミラー面に平行であり、前記第1軸の方向は、前記ミラー部の中心と、前記ミラー部と前記N個の支持梁のうちの1つとの接続箇所とを結ぶ直線の方向であり、前記第2軸は前記第1軸に直交し、
前記電源部は、前記第1の固有振動モードの共振周波数と前記第2の固有振動モードの共振周波数の中間周波数の交流電圧を印加し、
前記交流電圧の振幅および初期位相が調整可能であり、
前記電源部は、各々が、対応する駆動梁の複数の圧電素子へ交流電圧を印加するN個の駆動電源を備え、
前記交流電圧の振幅の調整において、前記N個の駆動梁の中から1つの駆動梁を選択し、前記選択された駆動梁以外の1以上の駆動梁の複数の圧電素子に与える交流電圧の振幅および初期位相を固定し、かつ選択された駆動梁の複数の圧電素子に与える交流電圧の初期位相を固定するとともに、振幅を変化させ、回転線形性誤差が最小となるときの振幅を前記選択された駆動梁の複数の圧電素子に与える交流電圧の振幅の調整値として決定する制御部を備え、
前記回転線形性誤差は、前記ミラー部の全周回転変位の線形性からのずれを表わす量であり、前記ミラー部の全周回転変位は、前記ミラー部の偏向角を一定に維持しつつ、前記ミラー部の中心軸が一回転するような前記ミラー部の変位である、光走査装置。 - 光走査装置であって、
光を反射するミラー面を有するミラー部と、
前記ミラー部を揺動可能に支持するN個(N≧3)の支持梁と、
前記N個の支持梁とそれぞれ接続されるN個の駆動梁とを備え、
前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の周囲を取り囲むように配置され、前記N個の駆動梁の各々の両端のうち前記支持梁と接続していない方の端は固定され、前記N個の駆動梁の各々は1回以上折り曲げられた形状を有し、
前記光走査装置は、さらに、
前記N個の駆動梁上に固着された駆動用の複数個の圧電素子と、
前記複数個の圧電素子に、交流電圧を印加する電源部とを備え、
前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の周波数を決められた共通の値とし、前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の位相を前記各圧電素子の位置に応じた決められた値とすることによって、前記ミラー部が歳差運動し、
前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、
前記ミラー部は、第1軸周りに回転変位する第1の固有振動モードと、第2軸周りに回転変位する第2の固有振動モードとを有し、前記第1軸および前記第2軸は、前記ミラー面に平行であり、前記第1軸の方向は、前記ミラー部の中心と、前記ミラー部と前記N個の支持梁のうちの1つとの接続箇所とを結ぶ直線の方向であり、前記第2軸は前記第1軸に直交し、
前記電源部は、前記第1の固有振動モードの共振周波数と前記第2の固有振動モードの共振周波数の中間周波数の交流電圧を印加し、
前記交流電圧の振幅および初期位相が調整可能であり、
N=4であり、
4個の駆動梁は、時計回りまたは反時計周りに、順序が付けられており、
4個の前記支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、90°回転対称に配置され、4個の前記駆動梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、90°回転対称に配置され、前記4個の駆動梁の各々を構成する部分のうち、前記ミラー部の周方向と同一方向に延在する複数の周方向部分のそれぞれの上に2つの前記圧電素子が配置され、
前記電源部は、
第1の初期位相および第1の振幅を有する第1の交流電圧と、前記第1の交流電圧と位相が180度相違する第2の交流電圧を出力する第1の駆動電源と、
第2の初期位相および第2の振幅を有する第3の交流電圧と、前記第3の交流電圧と位相が180度相違する第4の交流電圧を出力する第2の駆動電源とを備え、
前記第1の駆動電源は、前記第1番目の駆動梁に配置される複数の圧電素子のうち、前記支持梁に近い第1の圧電素子に前記第1の交流電圧を印加し、前記第1番目の駆動梁に配置される他の圧電素子には、前記第1の交流電圧または前記第2の交流電圧を印加し、前記第3番目の駆動梁に配置される複数の圧電素子のうち、前記支持梁に近い第2の圧電素子に前記第2の交流電圧を印加し、前記第3番目の駆動梁に配置される他の圧電素子には、前記第1の交流電圧または前記第2の交流電圧を印加し、
前記第2の駆動電源は、前記第2番目の駆動梁に配置される複数の圧電素子のうち、前記支持梁に近い第3の圧電素子に前記第3の交流電圧を印加し、前記第2番目の駆動梁に配置される他の圧電素子には、前記第3の交流電圧または前記第4の交流電圧を印加し、前記第4番目の駆動梁に配置される複数の圧電素子のうち、前記支持梁に近い第4の圧電素子に前記第4の交流電圧を印加し、前記第4番目の駆動梁に配置される他の圧電素子には、前記第3の交流電圧または前記第4の交流電圧を印加する、光走査装置。 - 前記第2の初期位相および前記第2の振幅を固定し、かつ前記第1の振幅を固定するとともに、前記第1の初期位相を変化させて、回転線形性誤差が最小となるときの前記第1の初期位相を前記第1の初期位相の調整値として決定し、前記第2の初期位相および前記第2の振幅を固定し、かつ前記第1の初期位相を固定するとともに、前記第1の振幅を変化させて、回転線形性誤差が最小となるときの前記第1の振幅を前記第1の振幅の調整値として決定する制御部を備え、
前記回転線形性誤差は、前記ミラー部の全周回転変位の線形性からのずれを表わす量であり、前記ミラー部の全周回転変位は、前記ミラー部の偏向角を一定に維持しつつ、前記ミラー部の中心軸が一回転するような前記ミラー部の変位である、請求項3記載の光走査装置。 - 前記ミラー部は、外周においてトリミングパターンを備える、請求項1または2記載の光走査装置。
- 光走査装置であって、
光を反射するミラー面を有するミラー部と、
前記ミラー部を揺動可能に支持するN個(N≧3)の支持梁と、
前記N個の支持梁とそれぞれ接続されるN個の駆動梁とを備え、
前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の周囲を取り囲むように配置され、前記N個の駆動梁の各々の両端のうち前記支持梁と接続していない方の端は固定され、前記N個の駆動梁の各々は1回以上折り曲げられた形状を有し、
前記光走査装置は、さらに、
前記N個の駆動梁上に固着された駆動用の複数個の圧電素子と、
前記複数個の圧電素子に、交流電圧を印加する電源部とを備え、
前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の周波数を決められた共通の値とし、前記複数個の圧電素子の各々に与えられる交流電圧の位相を前記各圧電素子の位置に応じた決められた値とすることによって、前記ミラー部が歳差運動し、
前記N個の駆動梁は、時計回りに、または反時計周りに、順序が付けられており、
前記電源部が第i番目の駆動梁の第1の圧電素子に与える交流電圧の位相は、第(i−1)番目の駆動梁の第2の圧電素子に与える電圧の位相よりも、(360°/N)だけ大きく、
第(i−1)番目の駆動梁内の前記第2の圧電素子の位置は、第i番目の駆動梁内の前記第1の圧電素子の位置と同じである、光走査装置。 - 前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、
前記ミラー部の形状は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称であり、
前記ミラー部は、半導体基板の結晶面(100)を利用して形成されたものであり、前記Nは、4×nであり、
前記ミラー面の形状は、円形であり、nは自然数である、請求項1または2記載の光走査装置。 - 前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、
前記ミラー部の形状は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称であり、
前記ミラー部は、半導体基板の結晶面(100)を利用して形成されたものであり、前記Nは、4×nであり、
前記ミラー面の形状は、正(4×n)角形であり、nは自然数である、請求項1または2記載の光走査装置。 - 前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、
前記ミラー部の形状は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称であり、
前記ミラー部は、半導体基板の結晶面(111)を利用して形成されたものであり、
前記Nは、3×nであり、
前記ミラー面の形状は、円形であり、nは自然数である、請求項1または2記載の光走査装置。 - 光走査装置の調整方法であって、
前記光走査装置は、
光を反射するミラー面を有するミラー部と、
前記ミラー部を揺動可能に支持するN個(N≧3)の支持梁と、
前記N個の支持梁とそれぞれ接続されるN個の駆動梁とを備え、
前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、回転対称に配置され、同一形状であり、
前記N個の駆動梁は、前記ミラー部の周囲を取り囲むように配置され、前記N個の駆動梁の各々の両端のうち前記支持梁と接続していない方の端は固定されて、前記N個の駆動梁の各々は1回以上折り曲げられた形状を有し、
前記N個の駆動梁上に固着された駆動用の複数個の圧電素子と、
電源部とを備え、
前記N個の支持梁は、前記ミラー部の中心軸に対して、(360°/N)回転対称に配置され、
前記ミラー部は、第1軸周りに回転変位する第1の固有振動モードと、第2軸周りに回転変位する第2の固有振動モードとを有し、前記第1軸および前記第2軸は、前記ミラー面に平行であり、前記第1軸の方向は、前記ミラー部の中心と、前記ミラー部と前記N個の支持梁のうちの1つとの接続箇所とを結ぶ直線の方向であり、前記第2軸は前記第1軸に直交し、
前記電源部は、前記複数個の圧電素子の各々に、交流電圧を印加するステップを備え、前記交流電圧の位相は、前記圧電素子の位置に応じた値であり、前記交流電圧の周波数は、前記第1の固有振動モードの共振周波数と前記第2の固有振動モードの共振周波数の中間周波数であり、
前記ミラー部の偏向角を測定するステップと、
前記ミラー部の一部、前記支持梁の一部、または前記駆動梁の一部をトリミングするステップとを備える、光走査装置の調整方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017115812 | 2017-06-13 | ||
JP2017115812 | 2017-06-13 | ||
PCT/JP2018/010401 WO2018230065A1 (ja) | 2017-06-13 | 2018-03-16 | 光走査装置および光走査装置の調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6448875B1 true JP6448875B1 (ja) | 2019-01-09 |
JPWO2018230065A1 JPWO2018230065A1 (ja) | 2019-06-27 |
Family
ID=64660105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018539175A Active JP6448875B1 (ja) | 2017-06-13 | 2018-03-16 | 光走査装置および光走査装置の調整方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11150464B2 (ja) |
EP (1) | EP3640704B1 (ja) |
JP (1) | JP6448875B1 (ja) |
CN (1) | CN110892306B (ja) |
WO (1) | WO2018230065A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2018-03-16 EP EP18816639.1A patent/EP3640704B1/en active Active
- 2018-03-16 WO PCT/JP2018/010401 patent/WO2018230065A1/ja unknown
- 2018-03-16 JP JP2018539175A patent/JP6448875B1/ja active Active
- 2018-03-16 US US16/608,035 patent/US11150464B2/en active Active
- 2018-03-16 CN CN201880030193.1A patent/CN110892306B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110892306A (zh) | 2020-03-17 |
EP3640704A4 (en) | 2020-10-07 |
EP3640704B1 (en) | 2023-08-09 |
EP3640704A1 (en) | 2020-04-22 |
JPWO2018230065A1 (ja) | 2019-06-27 |
WO2018230065A1 (ja) | 2018-12-20 |
CN110892306B (zh) | 2022-02-22 |
US11150464B2 (en) | 2021-10-19 |
US20200271920A1 (en) | 2020-08-27 |
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