JP6446137B2 - フィルム加工性および透明度に優れた低密度ポリエチレン共重合体 - Google Patents

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Description

関連出願との相互参照
本出願は、2015年12月23日付の韓国特許出願第10−2015−0184611号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、フィルム加工性および透明度に優れた低密度ポリエチレン共重合体に関する。
オレフィン重合触媒系は、チーグラーナッタおよびメタロセン触媒系に分類することができる。そのうち、メタロセン触媒は、遷移金属化合物が主成分の主触媒と、アルミニウムが主成分の有機金属化合物である助触媒との組み合わせからなる。この触媒は、均一系錯体触媒で単一活性点触媒(single site catalyst)であり、単一活性点の特性により分子量分布が狭く、共単量体の組成分布が均一な高分子が得られ、触媒のリガンド構造の変形および重合条件の変更により、高分子の立体規則度、共重合特性、分子量、結晶化度などを変化させられる特性を持っている。
一方、線状低密度ポリエチレン(linear low density polyethylene;LLDPE)は、重合触媒を用いて、低圧でエチレンとアルファオレフィンを共重合して製造され、分子量分布が狭く一定長さの短鎖分枝を有し、長鎖分枝がない樹脂である。LLDPEフィルムは、一般のポリエチレンの特性と共に、破断強度と伸び率が高く、引裂強度、落錘衝撃強度などに優れ、既存の低密度ポリエチレンや高密度ポリエチレンの適用が難しいストレッチフィルム、オーバーラップフィルムなどへの使用が増加している。
しかし、LLDPEは、優れた機械的物性に比べてブローンフィルム(blown film)加工性が良くない。ブローンフィルムとは、溶融プラスチックに空気を吹き込んで膨らませる方式で製造したフィルムであって、インフレーションフィルムとも呼ばれる。
ブローンフィルム加工時に考慮すべき要素としては、バブル安定性、加工負荷などを考慮しなければならず、特にバブル安定性が重要に考慮されなければならない。バブル安定性とは、溶融プラスチックに空気を注入してフィルムを製造する時、製造されるフィルムが破れることなく形状を維持する特性を意味し、これは、溶融強度(melt strength、MS)と関連がある。
溶融強度は、軟化溶融状態に対する成形、加工に耐える形体を維持するための強度を意味するが、LLDPEに比べて低密度ポリエチレン(low density polyethylene;LDPE)の溶融強度が高い。その理由として、LDPEの場合、LLDPEに比べて側鎖の鎖が互いに絡んでいて、成形、加工に耐えるのにより有利なためである。これにより、LLDPEの溶融強度を補完するために、LDPEをブレンドしてフィルムを製造しているが、LDPEのブレンドによる物性低下を避けられないという欠点がある。
そこで、本発明では、LLDPEにLCB(Long Chain Branch)を導入して、LDPEとのブレンドなくても溶融強度が顕著に高い低密度ポリエチレンを製造できることを確認して、本発明を完成した。
本発明は、フィルム加工性および透明度に優れた低密度ポリエチレン共重合体を提供する。
上記の課題を解決するために、本発明は、下記を満足する低密度ポリエチレン共重合体を提供する:
ASTM D1238(2.16kg、190℃)により測定したMI(melt index)が0.5〜1.5g/10minであり、
ASTM D792により測定した密度が0.910〜0.930g/cm3であり、
重量平均分子量が91,000〜150,000であり、および
溶融強度(Melt Strength)が40〜100mNである、低密度ポリエチレン共重合体。
本発明で使用する用語「低密度ポリエチレン共重合体」とは、線状低密度ポリエチレン共重合体にLCB(Long Chain Branch)が導入されたものを意味する。
また、好ましくは、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、η0(ゼロ剪断粘度)は140,000P(poise)以上であり、η500(500rad/sで測定される粘度)は7,000P(poise)以下である。前記粘度は、ARES装備を用いて、190℃の条件下、周波数(frequency、ω[rad/s])0.05から500までの区間でそれに応じた剪断粘度を測定した後、Ellis model fitを用いて、周波数が0の時の粘度(η0)および周波数が500の時の粘度(η500)が求められる。
より好ましくは、前記η0(P)は、150,000以上、160,000以上、170,000以上、180,000以上、190,000以上、200,000以上、210,000以上、または220,000以上であり、300,000以下、290,000以下、280,000以下、または270,000以下である。さらに、より好ましくは、前記η500(P)は、6,900以下、6,800以下、6,700以下、または6,600以下であり、4,000以上、4,500以上、または5,000以上である。
また、好ましくは、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、重量平均分子量が92,000以上、93,000以上、94,000以上、95,000以上、96,000以上、97,000以上、98,000以上、99,000以上、または100,000以上であり、129,000以下、128,000以下、127,000以下、126,000以下、または125,000以下である。
さらに、好ましくは、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、Mz(Z−平均分子量)が200,000〜380,000である。より好ましくは、前記Mzは、210,000以上、または220,000以上であり、370,000以下、360,000以下、または350,000以下である。
また、好ましくは、前記Mz/Mwが2.0〜3.0である。さらに、好ましくは、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、分子量分布(Mw/Mn)が2.5〜3.5である。
また、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、LCB(Long Chain Branch)が導入されたもので、前記LCBの導入の程度は、LCB shift factor(αM)と定義することができ、具体的には、下記数式1で表される:
前記数式1は、実際に測定されるゼロ剪断粘度および理論的に計算されるゼロ剪断粘度の比(η0(LCB,exp)/η0(LCB,cal))を意味するもので、LCBが導入される程度に応じてゼロ剪断粘度が増加する点を利用してLCB含有量を定量化したものである。前記理論的に計算されるゼロ剪断粘度は、3.4×10-15×Mw3.6(J.Polym,Sci.,Polym.Phys.Ed.17,1183−1195(1979))で計算する。また、LCBがないlinear low density polyethyleneに対する理論的に計算されるゼロ剪断粘度および実際に測定されるゼロ剪断粘度の比(η0(lin,exp)/η0(lin,cal))を補正したもので、本発明では、重量平均分子量が125,381のlinear low density polyethylene(LG LUCENE SP312)を基準とし、定数Kを1/(3.4×10-2)とした。これにより、前記数式1は、下記数式1−1で表される:
前記数式1−1において、η0およびMwは、先に説明した通りであり、それぞれの単位であるPおよびg/molを除いた値を取る。
好ましくは、前記αMは、0.1〜3.0である。既存の線状低密度ポリエチレン共重合体とは異なり、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、LCBを導入することによって、フィルム加工時、延伸(extension)に対する抵抗性を高め、これによって後述する溶融強度を増加させる特徴がある。
また、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、下記数式2を満足する:
前記数式2において、Ms、MzおよびαMは、それぞれ先に説明した通りであり、それぞれの単位であるmN、g/molを除いた値を取る。前記数式1は、Msに対するMzおよびαMの影響を意味するもので、本発明の一実施形態によれば、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は前記式を満足するのに対し、比較例は前記数式1を満足することができなかった。
また、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、ASTM D1238(2.16kg、190℃)により測定したMI(melt index)が、好ましくは0.9〜1.1g/10minである。さらに、好ましくは、MFRR(MFR21.6/MFR2.16)が25〜37である。前記範囲でフィルム加工性に優れ、特にブローンフィルムの製造に適合する。
また、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、190℃で測定した溶融強度(Melt Strength)が40〜100mNという特徴がある。前記溶融強度の測定条件は、下記の通りである。
−キャピラリ(capillary):長さ30mm、直径2mm、剪断速度72/s
−ホイール(wheel):初期速度18mm/s、加速度12mm/s2
具体的には、前記溶融強度は、縦横比(長さ30mm/直径2mm)が15のキャピラリ(capillary)が装着されたレオメーターに溶融した低密度ポリエチレン共重合体を満たした後、剪断速度72/sとしてストランドを製造し、これを、加速ホイールで初期速度18mm/s、加速度12mm/s2として一軸延伸しながら、破断時までの力(mN)を測定する方法で測定することができる。
より好ましくは、前記溶融強度は、50〜100mN、60〜100mN、70〜100mN、80〜100mN、または90〜100mNである。
また、好ましくは、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、ISO14782に基づいて測定したHaze値が20以下である。より好ましくは、前記Haze値が19以下、18以下、17以下、16以下、15以下、14以下、13以下、12以下、11以下、または10以下であり、0超過である。
さらに、好ましくは、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、エチレンおよび炭素数2〜20のアルファ−オレフィンの共重合体である。
前記アルファ−オレフィンは、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、および1−エイコセンから構成される群より選択されるいずれか1つ以上を使用することができる。前記エチレン/アルファ−オレフィン共重合体において、アルファ−オレフィンの含有量は、約0.5〜約10重量%、好ましくは約1〜約5重量%であってもよいが、これに限定されるものではない。
本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、メタロセン触媒を用いて製造することができる。前記使用可能なメタロセン触媒は、下記化学式1で表されるメタロセン触媒、および下記化学式2または化学式3で表されるメタロセン触媒を含むハイブリッド触媒であってもよい:
前記化学式1において、
Mは、Ti、Zr、またはHfであり、
1およびX2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
Tは、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
1およびQ2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
1〜R6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1つであり、
7〜R14は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1つであるか、あるいは、R7〜R14のうちの互いに隣接する一対以上の置換基は、互いに連結されて置換もしくは非置換の脂肪族または芳香族環を形成し、
前記化学式2において、
M’は、Ti、Zr、またはHfであり、
X’1およびX’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
T’は、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
Q’1およびQ’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
T1およびT2は、それぞれ独立に、
であり、
M”は、Ti、Zr、またはHfであり、
X”1およびX”2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
T”は、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
Q”1およびQ”2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
T3およびT4は、それぞれ独立に、
である。
前記化学式1〜3の触媒は、後述する実施例でより具体化する。
また、前記ハイブリッド触媒は、助触媒化合物と共に担体に担持したものであってもよい。さらに、前記ハイブリッド触媒は、製造される低密度ポリエチレン共重合体においてLCB(Long Chain Branch)の生成を誘導することができる。
本発明に係るハイブリッド触媒において、前記メタロセン化合物を活性化するために担体に共に担持される助触媒としては、13族金属を含む有機金属化合物であって、一般的なメタロセン触媒下でオレフィンを重合する時に使用可能なものであれば特に限定はない。
具体的には、前記助触媒化合物は、下記化学式4のアルミニウム含有第1助触媒、および下記化学式5のボレート系第2助触媒のうちの1つ以上を含むことができる。
前記化学式4において、
18は、それぞれ独立に、ハロゲン、ハロゲン置換もしくは非置換の炭素数1〜20のヒドロカルビル基であり、kは、2以上の整数であり、
前記化学式5において、
+は、+1価の多原子イオンであり、
Bは、+3酸化状態のホウ素であり、
Gは、それぞれ独立に、ヒドリド、ジアルキルアミド、ハライド、アルコキシド、アリールオキシド、ヒドロカルビル、ハロカルビル、およびハロ−置換されたヒドロカルビルからなる群より選択され、前記Gは、20個以下の炭素を有するが、ただし、1つ以下の位置において、Gは、ハライドである。
このような第1および第2助触媒の使用によって、最終的に製造された低密度ポリエチレン共重合体の分子量分布がより均一になるにつれ、重合活性が向上できる。
前記化学式4の第1助触媒は、線状、円形または網状形に繰り返し単位が結合されたアルキルアルミノキサン系化合物になってもよく、このような第1助触媒の具体例としては、メチルアルミノキサン(MAO)、エチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン、またはブチルアルミノキサンなどが挙げられる。
また、前記化学式5の第2助触媒は、三置換されたアンモニウム塩、またはジアルキルアンモニウム塩、三置換されたホスホニウム塩形態のボレート系化合物になってもよい。このような第2助触媒の具体例としては、トリメチルアンモニウムテトラフェニルボレート、メチルジオクタデシルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラフェニルボレート、メチルテトラジシクロオクタデシルアンモニウムテトラフェニルボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、N,N−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボレート、N,N−ジメチル(2,4,6−トリメチルアニリニウム)テトラフェニルボレート、トリメチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、メチルジテトラデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフェニル)ボレート、メチルジオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリエチルアンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(2級−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチル(2,4,6−トリメチルアニリニウム)テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、トリエチルアンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(2,3,4,6−、テトラフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(t−ブチル)アンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、またはN,N−ジメチル−(2,4,6−トリメチルアニリニウム)テトラキス−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボレートなどの三置換されたアンモニウム塩形態のボレート系化合物;ジオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジテトラデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、またはジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどのジアルキルアンモニウム塩形態のボレート系化合物;またはトリフェニルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、メチルジオクタデシルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、またはトリ(2,6−ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどの三置換されたホスホニウム塩形態のボレート系化合物などが挙げられる。
本発明に係る担持メタロセン触媒において、化学式1で表されるメタロセン化合物、または化学式2または3で表されるメタロセン化合物に含まれる全体遷移金属に対する担体の質量比は、1:10〜1:1,000であってもよい。前記質量比で担体およびメタロセン化合物を含む時、最適な形状を呈することができる。また、助触媒化合物に対する担体の質量比は、1:1〜1:100であってもよい。
本発明に係るハイブリッド担持触媒において、前記担体としては、表面にヒドロキシ基を含有する担体を使用することができ、好ましくは、乾燥して表面に水分の除去された、反応性が高いヒドロキシ基とシロキサン基を有している担体を使用することができる。
例えば、高温で乾燥したシリカ、シリカ−アルミナ、およびシリカ−マグネシアなどが使用可能であり、これらは通常、Na2O、K2CO3、BaSO4、およびMg(NO32などの酸化物、炭酸塩、硫酸塩、および硝酸塩成分を含有することができる。
前記担体の乾燥温度は、200〜800℃が好ましく、300〜600℃がさらに好ましく、300〜400℃が最も好ましい。前記担体の乾燥温度が200℃未満の場合、水分が多すぎて表面の水分と助触媒とが反応し、800℃を超える場合には、担体表面の気孔が合わされるにつれて表面積が低減され、また、表面にヒドロキシ基が多く無くなり、シロキサン基のみ残るようになって助触媒との反応サイトが減少するので、好ましくない。
前記担体表面のヒドロキシ基の量は、0.1〜10mmol/gが好ましく、0.5〜5mmol/gの時にさらに好ましい。前記担体表面にあるヒドロキシ基の量は、担体の製造方法および条件、または乾燥条件、例えば、温度、時間、真空またはスプレー乾燥などにより調節可能である。
前記ヒドロキシ基の量が0.1mmol/g未満であれば、助触媒との反応サイトが少なく、10mmol/gを超えると、担体粒子の表面に存在するヒドロキシ基のほか、水分に起因するものである可能性があるので、好ましくない。
一方、本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、上述したハイブリッド触媒の存在下、エチレンおよびアルファ−オレフィンを重合させることにより製造することができる。
前記重合反応は、1つの連続式スラリー重合反応器、ループスラリー反応器、気相反応器または溶液反応器を用いて、エチレンおよびアルファ−オレフィンを共重合して進行させることができる。
そして、前記重合温度は、約25〜約500℃、好ましくは約25〜約200℃、より好ましくは約50〜約150℃であってもよい。また、重合圧力は、約1〜約100Kgf/cm2、好ましくは約1〜約50Kgf/cm2、より好ましくは約5〜約30Kgf/cm2であってもよい。
前記ハイブリッド触媒は、炭素数5〜12の脂肪族炭化水素溶媒、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ノナン、デカン、およびこれらの異性体と、トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン、クロロベンゼンのような塩素原子で置換された炭化水素溶媒などに溶解または希釈して注入することができる。これに使用される溶媒は、少量のアルキルアルミニウム処理することによって、触媒毒として作用する少量の水または空気などを除去して使用することが好ましく、助触媒をさらに使用して実施することも可能である。
本発明に係る低密度ポリエチレン共重合体は、LLDPEにLCB(Long Chain Branch)を導入して、LDPEとのブレンドなくても溶融強度が顕著に高く、ブローンフィルム加工などに有利に適用可能である特徴がある。
本発明の実施例および比較例のポリエチレンに対する溶融強度の測定結果を示すものである。
以下、発明の理解のために好ましい実施例が提示される。しかし、下記の実施例は本発明を例示するためのものに過ぎず、本発明をこれらにのみ限定するものではない。
製造例1
(1)乾燥した250mL schlenk flaskで、テトラメチルシクロペンタジエン(TMCP、6.0mL、40mmol)をTHF(60mL)に溶かした後、−78℃に冷却した。次に、前記溶液にn−BuLi(2.5M、17mL、42mmol)をゆっくり滴加した後、常温で一晩撹拌した。一方、別の250mL schlenk flaskで、ジクロロジメチルシラン(4.8mL、40mmol)をn−hexaneに溶かした後、−78℃に冷却した。次に、この溶液に前記製造したTMCP−lithiation溶液をゆっくり注入し、常温で一晩撹拌した。以降、得られる溶液を減圧して溶媒を除去した。得られる固体をトルエンに溶解させ、ろ過して残っているLiClを除去して中間体を得た(yellow liquid、7.0g、33mmol、83%yield)。
1H NMR(500MHz,CDCl3):0.24(6H,s),1.82(6H,s),1.98(6H,s),3.08(1H,s)。
乾燥した250mL schlenk flaskで、インデン(0.93mL、8.0mmol)をTHF(30mL)に溶かした後、−78℃に冷却した。次に、前記溶液にn−BuLi(2.5M、3.4mL、8.4mmol)をゆっくり滴加した後、常温で約5時間撹拌した。一方、別の250mL schlenk flaskで、前記合成した中間体(1.7g、8.0mmol)をTHFに溶かし、−78℃に冷却した。次に、この溶液に前記製造したindene−lithiation溶液をゆっくり注入し、常温で一晩撹拌して紫色溶液を得た。以降、反応器に水を注いで反応を終了し(quenching)、前記混合物からetherで有機層を抽出した。前記有機層にはジメチル(インデニル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)シランと異なる種の有機化合物が含まれていることを、1H NMRを通して確認した。前記有機層は精製なく濃縮されてmetallationにそのまま用いられた。
(2)250mL schlenk flaskで、前記合成したジメチル(インデニル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン(1.7g、5.7mmol)をトルエン(30mL)およびMTBE(3.0mL)に溶かした。そして、−78℃に冷却した後、前記溶液にn−BuLi(2.5M、4.8mL、12mmol)をゆっくり滴加した後、常温で一晩撹拌した。しかし、前記溶液内に黄色固体が生成されて均一に撹拌されず、MTBE(50mL)およびTHF(38mL)を追加的に投入した。一方、別途に準備された250mL schlenk flaskで、ZrCl4(THF)2をトルエンに分散させた後、−78℃に冷却した。次に、前記混合物に前記製造したlithiationされたリガンド溶液をゆっくり注入し、一晩撹拌した。以降、反応生成物をろ過して黄色固体(1.3g、LiCl(0.48g)を含む、1.8mmol)を得ており、ろ液から溶媒を除去した後、n−hexaneで洗浄して黄色固体(320mg、0.70mmol)を追加的に得た(total44%yield)。
1H NMR(500MHz,CDCl3):0.96(3H,s),1.16(3H,s),1.91(3H,s),1.93(3H,s),1.96(3H,s),1.97(3H,s),5.98(1H,d),7.07(1H,t),7.23(1H,d),7.35(1H,t),7.49(1H,d),7.70(1H,d)。
(3)前記(2)で合成した化合物(1.049g、2.3mmol)をグローブボックスでmini bombeに入れた。そして、前記mini bombeにplatinum oxide(52.4mg、0.231mmol)を追加的に入れて、mini bombeを組立てた後、mini bombeにanhydrous THF(30mL)をcanuulaを用いて入れて、約30barの圧力まで水素を満たした。次に、mini bombeに入った混合物を約60℃で約1日間撹拌した後、mini bombeの温度を常温に冷却させ、mini bombeの圧力を徐々に低下させながら水素をアルゴンに置換した。一方、約120℃のオーブンにて約2時間程度乾燥したceliteをschlenk filterに敷いて、これを用いて前記mini bombeの反応生成物をアルゴン下ろ過した。前記celiteによって反応生成物からPtO2触媒が除去された。次に、触媒を除去した反応生成物を減圧して溶媒を除去し、薄黄色固体の生成物を得た(0.601g、1.31mmol、Mw:458.65g/mol)。
1H NMR(500MHz,CDCl3):0.82(3H,s),0.88(3H,s),1.92(6H,s),1.99(3H,s),2.05(3H,s),2.34(2H,m),2.54(2H,m),2.68(2H,m),3.03(2H,m),5.45(1H,s),6.67(1H,s)。
製造例2
(1)250mL schlenk flaskにTMCP−Li(1.3g、10mmol)、CuCN(45mg、5mol%)、およびTHF(10mL)を入れた。−20℃以下でジクロロジフェニルシラン(2.5g、10mmol)を滴加した後、常温で16時間撹拌した。温度を−20℃に下げて、Indene−Li(1.2g、10mmol in THF10mL)を滴加した。常温で24時間撹拌し、真空乾燥して溶媒を除去した。ヘキサンでフィルタしてLiClを除去し、filtrateのヘキサンを真空乾燥して中間体を得た。
100mL schlenk flaskに前記製造した中間体(4.2g、10mmol)およびTHF(15mL)を入れた後、温度を−20℃に下げた。n−BuLi(2.5M in Hexane、8.4mL、21mmol)をゆっくり滴加し、常温で6時間撹拌した。250mL schlenk flaskにZrCl4(THF)2(3.8g、10mmol)およびトルエン(15mL)を入れて、−20℃以下で撹拌した。これにlithiationされたリガンド溶液をゆっくり加えた。常温で48時間撹拌した後、真空乾燥して溶媒を除去した。ジクロロメタンに溶かしてろ過してLiClを除去した後、ジクロロメタンを真空乾燥した。これにトルエン30mLを入れて16時間撹拌した後、ろ過してレモン色固体の中間体(2.1g、3.6mmol、yield36%)を得た。
1H NMR(500MHz,CDCl3):8.08−8.12(m,2H),7.98−8.05(m,2H),7.77(d,1H),7.47−7.53(m,3H),7.42−7.46(m,3H),7.37−7.41(m,2H),6.94(t,1H),6.23(d,1H),1.98(s,3H),1.95(s,3H),1.68(s,3H),1.52(s,3H)。
(2)前記(1)で最終的に製造した中間体(1.0g、1.7mmol)、Pd/C(10mol%)、ジクロロメタン(40mL)を100mLサイズの高圧反応器に注入し、H2(60bar)を満たした後、80℃で24時間撹拌した。反応が終わると、反応物をcelite padに通過させて固体を除去して生成物(0.65g、1.1mmol、yield65%)を得た。
1H NMR(500MHz,CDCl3):7.90−8.00(m,4H),7.38−7.45(m,6H),6.80(s,1H),5.71(s,1H),3.50−3.15(m,1H),2.75−2.85(m,1H),2.50−2.60(m,1H),2.12(s,3H),2.03(s,3H),1.97−2.07(m,1H),1.76(s,3H),1.53−1.70(m,4H),1.48(s,3H)。
製造例3
Strem社から購入して使用した(CAS No.:121009−93−6)。
製造例4
(1)乾燥した250mL schlenk flaskにfluorine(1.622g、10mmol)を入れて、アルゴン下で200mLのTHFを注入した。前記溶液を0℃まで冷却した後、4.8mL(12mmol)の2.5M n−BuLi hexane solutionをゆっくり滴加した。ゆっくり常温に温度を上げた後、翌日まで撹拌した。一方、別の250mL schlenk flaskにジクロロジメチルシラン(1.2mL、10mmol、Fw129.06、d1.07g/mL)とhexane30mLの溶液を準備し、−78℃に冷却した後、この溶液に前記製造したlithiatedされた溶液を滴加した。常温に温度をゆっくり上げた後、一晩撹拌した。同時に、tetramethylcyclopentadiene10mmolをTHF溶媒下で0℃まで冷却した後、4.8mL(12mmol)の2.5M n−BuLi hexane solutionをゆっくり滴加し、1日間lithiation反応を進行させた。翌日、chloro(9H−fluoren−9−yl)dimethylsilaneとlithiated4−methylcyclopentadiene flaskを常温でCannulaで合わせた。この時、cannulaで移す方向は実験に影響を与えない。1日間撹拌した後、flask内に50mLの水を入れてquenchingし、有機層を分離してMgSO4で乾燥させた。その結果、3.53g(10.25mmol、100%)の黄色パウダーを得た。NMR基準purity(wt%)=100%、Mw=344.56
1H NMR(500MHz,CDCl3):−0.36(6H,s),1.80(6h,s),1.94(6H,s),3.20(1H,s),4.09(1H,s),7.28−7.33(4H,m),7.52(2H,d),7.83(2H,d)。
(2)乾燥した250mL schlenk flaskに前記(1)で製造したリガンドを入れてdiethyletherに溶かした後、2.1当量のn−BuLi溶液(21.5mmol、8.6mL)を加えて、翌日までlithiationさせた。翌日、真空下で溶媒のdiethyletherを全て蒸発させた後、hexane slurryをschlenk filterを通してLi salt形態のリガンドをろ過した(yellow solid)。このようにろ過したLi saltを新たなschlenk flaskに入れて、toluene50mLを入れたsuspensionを準備した。また、Glove Box内から1当量のZrCl4(THF)2を取って250mL schlenk flaskに入れて、tolueneを入れたsuspensionを準備した。前記2つのflaskとも−78℃まで冷却させた後、ligand anionをゆっくりZr suspensionに加えた。注入が終わった後、常温に温度をゆっくり上げた。1日間撹拌した後、混合物中のtolueneを直ちにschlenk filterでアルゴン下ろ過して、filter cakeの形態で3.551g(6.024mmol、61.35%Yield)の生成物を得た。NMR基準purity(wt%)=85.6%(残りはLiCl)。Mw=504.68
1H NMR(500MHz,CDCl3):1.30(6H,s),1.86(6H,s),1.95(6H,s),7.21(2H,m),7.53(2H,m),7.65(2H,m),8.06(2H,m)。
製造例5
Strem社から購入して使用した(CAS No.:12148−49−1)。
実施例1
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)1000gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarle社)2.1kgを投入し、70℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例1の化合物(55g)および製造例3の化合物(22g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(30g)を入れて、常温で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を70℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
実施例2
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)1000gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarle社)2.1kgを投入し、70℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例2の化合物(30g)および製造例4の化合物(23g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(50g)を入れて、常温で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を70℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
実施例3
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)800gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarl社)1.5kgを投入し、80℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例2の化合物(57g)および製造例5の化合物(4.9g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(25g)を入れて、40℃で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を80℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
実施例4
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)800gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarle社)1.5kgを投入し、80℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例1の化合物(65g)および製造例5の化合物(4.1g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(25g)を入れて、40℃で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を80℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
実験例
(1)低密度ポリエチレンの製造
重合反応器としてisobutene slurry loop processの連続重合反応器を用い、反応器の体積は140Lであり、反応流速は約7m/sで運転した。重合に必要なガス類(エチレンおよび水素)および共単量体の1−ヘキセンは一定に連続して投入し、個別的な流量は必要に応じて調節した。全てのガス類および共単量体の1−ヘキセンの濃度はon−line gas chromatographyで確認した。触媒は、実施例1〜4で製造した触媒をそれぞれ用い、isobutene slurryとして投入した。反応器の圧力は40barに維持し、重合温度は84℃とした。具体的な重合条件は、下記表1の通りであった。
(2)物性確認
前記それぞれ製造された低密度ポリエチレンを用いて、下記のように各物性を測定した。また、比較のために下記の樹脂を比較例とした。
比較例1:LG LUCENE SP312
比較例2:ハンファM2010
比較例3:大林EP2001
比較例4:Exxon Enable2010CH
比較例5:SK NX181
1)MI(g/min):ASTM D1238(2.16kg、190℃)により測定した。
2)密度(g/cm3):ASTM D792により測定した。
3)MFRR:ASTM D1238(21.6kg、190℃)により測定した値を前記MIで割った。
4)MS(mN):縦横比(長さ30mm/直径2mm)が15のキャピラリ(capillary)が装着されたレオメーターに溶融した低密度ポリエチレン共重合体を満たした後、剪断速度72/sとしてストランドを製造し、これを、加速ホイールで初期速度18mm/s、加速度12mm/s2として一軸延伸しながら、破断時までの力(mN)を測定する方法で測定した。
5)Mw、Mz、Mw/Mn、Mz/Mw:サンプルを、PL−SP260を用いて、BHT0.0125%含まれている1,2,4−Trichlorobenzeneで160℃、10時間溶かして前処理し、PL−GPC220を用いて、測定温度160℃でMw(重量平均分子量)、Mz(Z−平均分子量)およびMn(数平均分子量)を測定した。
6)η0およびη500(P、poise):ARES装備を用いて、190℃の条件で周波数(frequency、ω[rad/s])0.05から500までの区間でそれに応じた剪断粘度を測定した後、Ellis model fitを用いて、周波数が0の時の粘度(η0)および周波数が500の時の粘度(η500)を求めた。
7)LCB shift factor(αM):前記測定された粘度(η0)および重量平均分子量を下記数式1−1に代入して計算した。
8)Haze:ISO14782に基づいて測定した。
前記測定結果を下記表2および図1(MS)に示した。
前記表2に示されているように、本発明の実施例1〜4の低密度ポリエチレン共重合体は、比較例1〜5に比べてMS値が高いことを確認することができ、これからフィルム加工性が顕著に優れていることを確認することができる。

Claims (12)

  1. ASTM D1238(2.16kg、190℃)により測定したMI(melt index)が0.9〜1.1g/10minであり、
    ASTM D792により測定した密度が0.910〜0.930g/cm3であり、
    重量平均分子量が91,000〜150,000であり、および
    溶融強度(Melt Strength)が70〜100mNである、低密度ポリエチレン共重合体。
  2. η0(ゼロ剪断粘度)は、140,000P(poise)以上であり、η500(500radで測定される粘度)は、7,000P(poise)以下であることを特徴とする、請求項1に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  3. Mz(Z−平均分子量)が220,000〜380,000であることを特徴とする、請求項1または2に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  4. 下記数式1−1のLCB shift factor(αM)が0.1〜3.0であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体

    前記数式1−1において、
    η0(ゼロ剪断粘度)は、前記低密度ポリエチレン共重合体のゼロ剪断粘度(単位:P)を意味し、Mwは、前記低密度ポリエチレン共重合体の重量平均分子量を意味する。
  5. 下記数式2を満足することを特徴とする、請求項4に記載の低密度ポリエチレン共重合体
    [数式2]
    (1.6×(Mz/1052.8+26×(αM0.25)<Ms<(2.1×(Mz/1052.8+28×(αM0.25
    前記数式2において、
    Msは、前記低密度ポリエチレン共重合体の溶融強度(mN)を、Mzは、前記低密度ポリエチレン共重合体のZ−平均分子量(g/mol)を意味する。
  6. MFRR(MFR21.6/MFR2.16)が25〜37であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  7. Mz/Mwが2.0〜3.0であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  8. 分子量分布(Mw/Mn)が2.5〜3.5であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  9. ISO14782に基づいて測定したHaze値が20以下であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  10. 前記低密度ポリエチレン共重合体は、エチレンおよび炭素数2〜20のアルファ−オレフィンの共重合体であることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  11. 前記アルファ−オレフィンは、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、および1−エイコセンから構成される群より選択されるいずれか1つ以上であることを特徴とする、請求項10に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
  12. エチレンおよびアルファ−オレフィンを、i)下記化学式1で表されるメタロセン触媒、およびii)下記化学式2または化学式3で表されるメタロセン触媒を含むハイブリッド触媒の存在下で重合させる工程を含む、請求項1に記載の低密度ポリエチレン共重合体の製造方法

    前記化学式1において、
    Mは、Ti、Zr、またはHfであり、
    1およびX2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
    Tは、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
    1およびQ2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
    1〜R6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1つであり、
    7〜R14は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1であるか、あるいは、R7〜R14のうちの互いに隣接する一対以上の置換基は、互いに連結されて置換もしくは非置換の脂肪族または芳香族環を形成する。

    前記化学式2において、
    M’は、Ti、Zr、またはHfであり、
    X’1およびX’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
    T’は、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
    Q’1およびQ’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
    T1およびT2は、それぞれ独立に、

    であり、

    M’’は、Ti、Zr、またはHfであり、
    X’’1およびX’’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
    T3およびT4は、それぞれ独立に、

    である。
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