JP6446137B2 - フィルム加工性および透明度に優れた低密度ポリエチレン共重合体 - Google Patents
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Description
本出願は、2015年12月23日付の韓国特許出願第10−2015−0184611号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
ASTM D1238(2.16kg、190℃)により測定したMI(melt index)が0.5〜1.5g/10minであり、
ASTM D792により測定した密度が0.910〜0.930g/cm3であり、
重量平均分子量が91,000〜150,000であり、および
溶融強度(Melt Strength)が40〜100mNである、低密度ポリエチレン共重合体。
−ホイール(wheel):初期速度18mm/s、加速度12mm/s2
具体的には、前記溶融強度は、縦横比(長さ30mm/直径2mm)が15のキャピラリ(capillary)が装着されたレオメーターに溶融した低密度ポリエチレン共重合体を満たした後、剪断速度72/sとしてストランドを製造し、これを、加速ホイールで初期速度18mm/s、加速度12mm/s2として一軸延伸しながら、破断時までの力(mN)を測定する方法で測定することができる。
Mは、Ti、Zr、またはHfであり、
X1およびX2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
Tは、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
Q1およびQ2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
R1〜R6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1つであり、
R7〜R14は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1つであるか、あるいは、R7〜R14のうちの互いに隣接する一対以上の置換基は、互いに連結されて置換もしくは非置換の脂肪族または芳香族環を形成し、
M’は、Ti、Zr、またはHfであり、
X’1およびX’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
T’は、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
Q’1およびQ’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
T1およびT2は、それぞれ独立に、
X”1およびX”2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
T”は、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
Q”1およびQ”2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
T3およびT4は、それぞれ独立に、
R18は、それぞれ独立に、ハロゲン、ハロゲン置換もしくは非置換の炭素数1〜20のヒドロカルビル基であり、kは、2以上の整数であり、
T+は、+1価の多原子イオンであり、
Bは、+3酸化状態のホウ素であり、
Gは、それぞれ独立に、ヒドリド、ジアルキルアミド、ハライド、アルコキシド、アリールオキシド、ヒドロカルビル、ハロカルビル、およびハロ−置換されたヒドロカルビルからなる群より選択され、前記Gは、20個以下の炭素を有するが、ただし、1つ以下の位置において、Gは、ハライドである。
1H NMR(500MHz,CDCl3):−0.36(6H,s),1.80(6h,s),1.94(6H,s),3.20(1H,s),4.09(1H,s),7.28−7.33(4H,m),7.52(2H,d),7.83(2H,d)。
1H NMR(500MHz,CDCl3):1.30(6H,s),1.86(6H,s),1.95(6H,s),7.21(2H,m),7.53(2H,m),7.65(2H,m),8.06(2H,m)。
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)1000gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarle社)2.1kgを投入し、70℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例1の化合物(55g)および製造例3の化合物(22g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(30g)を入れて、常温で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を70℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)1000gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarle社)2.1kgを投入し、70℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例2の化合物(30g)および製造例4の化合物(23g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(50g)を入れて、常温で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を70℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)800gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarl社)1.5kgを投入し、80℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例2の化合物(57g)および製造例5の化合物(4.9g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(25g)を入れて、40℃で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を80℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
10L高圧反応器にトルエン溶液4.0kgを入れて、シリカ(Grace Davison、SP2410)800gを投入した後、反応器の温度を40℃に上げながら撹拌した。30wt%メチルアルミノキサン(MAO)/トルエン溶液(Albemarle社)1.5kgを投入し、80℃に温度を上げた後、200rpmで12時間撹拌した。2L Schlenk flaskに製造例1の化合物(65g)および製造例5の化合物(4.1g)、トルエン(1L)、トリイソブチルアルミニウム(25g)を入れて、40℃で60分間反応させた後、高圧反応器に投入し、温度を80℃に上げた後、2時間撹拌した。反応器の温度を常温に下げた後、撹拌を中止して30分間settingした後、decantationした。反応器にヘキサン(3.0kg)を投入し、ヘキサンスラリー溶液をfilter dryerに移送してろ過した。1.5barのアルゴンで10分間purgingした後、40℃で3時間真空下乾燥して、触媒を製造した。
(1)低密度ポリエチレンの製造
重合反応器としてisobutene slurry loop processの連続重合反応器を用い、反応器の体積は140Lであり、反応流速は約7m/sで運転した。重合に必要なガス類(エチレンおよび水素)および共単量体の1−ヘキセンは一定に連続して投入し、個別的な流量は必要に応じて調節した。全てのガス類および共単量体の1−ヘキセンの濃度はon−line gas chromatographyで確認した。触媒は、実施例1〜4で製造した触媒をそれぞれ用い、isobutene slurryとして投入した。反応器の圧力は40barに維持し、重合温度は84℃とした。具体的な重合条件は、下記表1の通りであった。
前記それぞれ製造された低密度ポリエチレンを用いて、下記のように各物性を測定した。また、比較のために下記の樹脂を比較例とした。
比較例2:ハンファM2010
比較例3:大林EP2001
比較例4:Exxon Enable2010CH
比較例5:SK NX181
1)MI(g/min):ASTM D1238(2.16kg、190℃)により測定した。
Claims (12)
- ASTM D1238(2.16kg、190℃)により測定したMI(melt index)が0.9〜1.1g/10minであり、
ASTM D792により測定した密度が0.910〜0.930g/cm3であり、
重量平均分子量が91,000〜150,000であり、および
溶融強度(Melt Strength)が70〜100mNである、低密度ポリエチレン共重合体。 - η0(ゼロ剪断粘度)は、140,000P(poise)以上であり、η500(500radで測定される粘度)は、7,000P(poise)以下であることを特徴とする、請求項1に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- Mz(Z−平均分子量)が220,000〜380,000であることを特徴とする、請求項1または2に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- 下記数式1−1のLCB shift factor(αM)が0.1〜3.0であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
前記数式1−1において、
η0(ゼロ剪断粘度)は、前記低密度ポリエチレン共重合体のゼロ剪断粘度(単位:P)を意味し、Mwは、前記低密度ポリエチレン共重合体の重量平均分子量を意味する。 - 下記数式2を満足することを特徴とする、請求項4に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
[数式2]
(1.6×(Mz/105)2.8+26×(αM)0.25)<Ms<(2.1×(Mz/105)2.8+28×(αM)0.25)
前記数式2において、
Msは、前記低密度ポリエチレン共重合体の溶融強度(mN)を、Mzは、前記低密度ポリエチレン共重合体のZ−平均分子量(g/mol)を意味する。 - MFRR(MFR21.6/MFR2.16)が25〜37であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- Mz/Mwが2.0〜3.0であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- 分子量分布(Mw/Mn)が2.5〜3.5であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- ISO14782に基づいて測定したHaze値が20以下であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- 前記低密度ポリエチレン共重合体は、エチレンおよび炭素数2〜20のアルファ−オレフィンの共重合体であることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- 前記アルファ−オレフィンは、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、および1−エイコセンから構成される群より選択されるいずれか1つ以上であることを特徴とする、請求項10に記載の低密度ポリエチレン共重合体。
- エチレンおよびアルファ−オレフィンを、i)下記化学式1で表されるメタロセン触媒、およびii)下記化学式2または化学式3で表されるメタロセン触媒を含むハイブリッド触媒の存在下で重合させる工程を含む、請求項1に記載の低密度ポリエチレン共重合体の製造方法。
前記化学式1において、
Mは、Ti、Zr、またはHfであり、
X1およびX2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
Tは、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
Q1およびQ2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
R1〜R6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1つであり、
R7〜R14は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数1〜20のシリルアルキル基、炭素数1〜20のシリルオキシアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、および炭素数6〜20のアリール基のうちのいずれか1であるか、あるいは、R7〜R14のうちの互いに隣接する一対以上の置換基は、互いに連結されて置換もしくは非置換の脂肪族または芳香族環を形成する。
前記化学式2において、
M’は、Ti、Zr、またはHfであり、
X’1およびX’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
T’は、C、Si、Ge、Sn、またはPbであり、
Q’1およびQ’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のカルボキシレート、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、および炭素数5〜20のヘテロアリール基のうちのいずれか1つであり、
T1およびT2は、それぞれ独立に、
であり、
M’’は、Ti、Zr、またはHfであり、
X’’1およびX’’2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、ハロゲン、ニトロ基、アミド基、ホスフィン基、ホスフィド基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のシリル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のスルホネート基、および炭素数1〜20のスルホン基のうちのいずれか1つであり、
T3およびT4は、それぞれ独立に、
である。
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