JP6436098B2 - 磁気センサ、これを用いた磁気エンコーダ、レンズ鏡筒、及びカメラ、並びに磁気センサの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、上記課題に鑑み成されたものであり、その目的とするところは、接続部材と配線部材との剥離が起こりにくく、信頼性が極めて高い磁気センサ、及び、その製造方法を提供することにある。また、この磁気センサを用いた磁気エンコーダ、レンズ鏡筒、及びカメラを提供するものである。
前記磁気センサ素子取付部に設けられた、磁界を検出し電気的に出力する磁気センサ素子と、
前記磁気センサ素子に電気的に接続された可撓性を有する配線部材と、
前記支持部材と前記配線部材とを接続する接続部材と、
前記配線部材の少なくとも上面上の、前記接続部材に対応する位置に設けられたキャップ部材と、を備える磁気センサである。
前記磁気センサ素子と前記支持部材とを固定する工程と、
前記磁気センサ素子と前記配線部材とを電気的に接続する工程と、
前記配線部材と前記支持部材との間に接続部材を形成する工程と、
前記接続部材に対応する位置にキャップ部材を形成する工程と、を備える磁気センサの製造方法である。
前記磁気センサを作製する方法において、前記磁気センサ素子と前記支持部材とを固定する工程は、前記支持部材と前記基板とを固定し、さらに、前記基板と前記磁気センサ素子とを固定する工程であり、
前記磁気センサ素子と前記配線部材の配線部とを電気的に接続する工程は、前記基板の配線部を介して磁気センサ素子と前記配線部材の配線部とを電気的に接続する工程である。
以下、本発明の実施の形態に係る磁気センサ、及び当該磁気センサを用いた磁気エンコーダ、レンズ鏡筒及びカメラ、並びに、当該磁気センサの製造方法について詳細に説明する。
図1(a)は、本発明の実施の形態1に係る磁気センサ1の上面図であり、図1(b)はその斜視図である。本発明の実施の形態1に係る磁気センサ1は、磁気センサ素子取付部21と支持部材取付本体部23とを有し、磁気センサ素子取付部21と支持部材取付本体部23との相対的位置が変化するように弾性変形する支持部材3と、支持部材3に設けられた、磁界を検出する磁気センサ素子5と、磁気センサ素子5に接続された可撓性(すなわち、柔軟性)を有する配線部材7と、支持部材3と配線部材7とを接続する接続部材9と、配線部材7の上面上の、接続部材9に対応する位置に設けられたキャップ部材11と、を備えることを特徴とする。本件において、磁気センサ素子5と、磁気センサ1とは異なる部材を指し示している。磁気センサ1とは、磁気センサ素子5を含むセンサ装置全体を意味する。一方、磁気センサ素子5とは、磁気センサ1に含まれる素子であって、例えば磁気スケールからの漏洩磁場を検出する素子を意味する。また、図示した基板13は必ずしも必要ではなく、備えていない例は追って説明する。以下、各構成要素について詳細に説明する。
本発明の実施の形態1に係るキャップ部材11は、配線部材7の上面上に設けられ、配線部材7と当該配線部材7の下部に設けられた接続部材9との剥離を防止するためのものである。本実施の形態1においては、キャップ部材11は、配線部材7の上面に設けられているが、本発明においては、配線部材7が接続部材9から剥離することをキャップ部材11が抑制することが可能な位置(すなわち、後述する「接続部材9に対応する位置」)にあればキャップ部材11は如何なる場所に設けられていてもよい。
本発明の実施の形態1に係る支持部材3は、磁気センサ1を磁気スケール(以下磁気媒体と称することもある。後に説明するが、図6に磁気スケール32を示す。)に相対的に摺動(すなわち、磁気センサ1を磁気スケールに対して摺動させてもよいし、磁気スケールを磁気センサ1に対して摺動させてもよい)させる際に、磁気センサ素子1と磁気スケール32の距離が変わらないように使用されるものである。例えば第1のレンズ鏡筒35に磁気スケール32を設置し、前記磁気スケール32に対して相対的に摺動するように、第2のレンズ鏡筒37に磁気センサ1が設置されている状況において、図20に示すように、支持部材3は、磁気センサ素子5が取り付けられる磁気センサ素子取付部21と、支持部材3を第2のレンズ鏡筒に取り付けるための支持部材取付本体部23と、を有する。さらに、磁気センサ素子取付部21と支持部材取付本体部23とを弾性可能に接続する弾性部25を有していてもよい。弾性部25の作用により、支持部材3は、磁気センサ素子取付部21と支持部材取付本体部23との相対的位置が変化して、磁気センサ1と磁気スケールの距離を一定に保つように弾性変形する。
磁気センサ素子5は、例えば磁気スケール32からの磁気信号(例えば電圧と時間や変位量との関係は正弦曲線に近い波形の信号などとなる)を読み取るためのものである。実際の磁気信号は磁気センサ1の角度のズレや位置のズレなどにより、十分な強度を得られないことがある。そのため、複数の磁気抵抗効果膜を組み合わせることで、多少磁気センサ1がずれたりしても、信号強度のずれが小さくなるように磁気センサ1が構成されていることが好ましい。磁気センサ素子5としては、磁気スケール32からの磁気信号を読み取ることができれば如何なるものであってもよい。磁気センサ素子5としては、例えば特許第5365744号などに記載の、少なくとも1つの磁気抵抗効果素子を有する磁気センサなど、公知のものを使用することができる。
本発明の実施の形態1に係る配線部材7は、上述した磁気センサ素子5と電気的に接続されることにより、磁気センサ素子5から磁気信号を受領するとともに、磁気センサ素子5に電力を供給するものでもある。配線部材7は、磁気センサ素子5から磁気信号を受領するためだけのものであってもよい。また、配線部材7は、磁気センサ素子5に電力を供給するためだけのものであってもよい。
つづいて、磁気エンコーダ31について説明する。本発明の実施の形態1に係る磁気エンコーダ31は、磁気スケール32と、磁気スケール32上を相対的に摺動可能な上述の磁気センサ1と、を備える。例えば、図6に示すように、第1のレンズ鏡筒35に取り付けられたレンズ群と第2のレンズ鏡筒37に取り付けられたレンズ群が、レンズ鏡筒同士の相対的な回転に応じて前後に移動し、その移動量を検知するための磁気エンコーダ31として、磁気スケール32を第1のレンズ鏡筒35に取り付け、磁気センサ1を第2のレンズ鏡筒37に取り付け、磁気センサ1を磁気スケール32に対して相対的に摺動可能に配置したものを使用する。磁気スケール32は、磁気スケール32が磁気センサ1に対して摺動する方向、又は、磁気センサ1が磁気スケール32に対して摺動する方向(摺動方向)に沿って、例えば正反対の磁化方向を有する2種類の着磁領域が交互に配置されることにより構成されている。例えば、レンズ鏡筒30に磁気スケール32がレンズ鏡筒30の回転方向に沿って設けられ、レンズ鏡筒30を回転させることにより、磁気スケール32上を磁気センサ1が摺動し、磁気スケール32からの磁気変化を当該磁気センサ1で検出する磁気エンコーダ31をレンズ鏡筒30に用いることによりレンズ鏡筒30の回転角度を検出することができる。さらにレンズ鏡筒30を用いたカメラであれば検出された回転角度から焦点位置補正手段などに用いることができるため好ましい。
以下、本発明の実施の形態1に係る磁気センサの製造方法について説明する。図11を用いて工程毎に説明するが、各工程は、以下に記載された順番で行わなければならないというものではない。可能な範囲で工程を入れ替えてもよいことは理解されよう。
例えばシリコン基板上に磁性膜パターンを形成し、配線パターンを形成する。その後、配線パターン上に保護膜を形成する。その後、このように磁性膜パターン等を形成したシリコン基板をダイシングして個片化して磁気センサ素子5を作製する。磁気センサ素子の大きさとしては、例えば0.6mm×3mmなどである。ダイシングされた磁気センサ素子5の接触面を面取りしてもよい。このようにして磁気センサ素子5を作製することにより準備する。
また、このような磁気センサ素子5を購入することにより準備してもよい。
複数の貫通電極が整列して形成された一枚の基板13を準備する。上述のようにして得られた複数の磁気センサ素子5を上記一枚の基板13上に整列させて配置する。この際、貫通電極と磁気センサ素子5は導通するように、且つ、磁気センサ素子5の方向が一致するように配置する。磁気センサ素子5を基板13上に固定する際、導電性樹脂(例えば、銀の粉末を含む樹脂など)を用いることが好ましい。上記したように、磁気センサ素子5の帯電を抑制することができるとともに、静電耐圧が向上する。
磁気センサ素子5に設けられた電極と基板13の電極との導通を図るため、これらの電極をワイヤーボンディングにより電気的に接続する。また、ワイヤーボンディングだけでなく、バンプ接続でも良い。
上述のワイヤーボンディング部分を絶縁樹脂15により封止する。これにより、ワイヤー同士の不意の接触を抑制することができる。その後、一枚の基板13を少なくとも1つの磁気センサ素子5が含まれるようにダイシングして個片化する。基板の大きさとしては、例えば1.5mm×4.5mmなどである。
個片化された基板13を支持部材3の磁気センサ素子取付部21にマウントする。基板13を支持部材3の磁気センサ素子取付部21上に固定する際、上記同様、導電性樹脂を用いることが好ましい。上記したように、磁気センサ素子5の帯電を抑制することができるとともに、静電耐圧が向上する。
フレキシブル配線板を基板13の電極と半田により接続する。その後、この接続部分に絶縁樹脂15を塗布して端子部を補強する。
配線部材7と支持部材3との間に接続部材9を配置して配線部材7と支持部材3とを接続する。また、キャップ部材11を配線部材7の上面上の接続部材9に対応する領域に形成する。具体的には、図12に示すように、支持部材3と配線部材7との間に、接続部材9の原料となる硬化前の例えば紫外線硬化性樹脂を配置し、さらに配線部材7の上面の、接続部材9の真上の領域に同じ硬化前の紫外線硬化性樹脂を配置する。そして、2つ以上の光(例えば紫外線)照射装置17により、キャップ部材11及び接続部材9となる原料に対して両側から光を照射する。照射される光の交差位置が接続部材9又はキャップ部材11となる部分内にあることが好ましい。照射の角度は、図12に示すように斜め上方向から照射した場合に、配線部材7の裏側において反射や屈折により硬化が可能であるような角度であり、配線部材に遮られないように、放射される光が配線部材7の裏面に対して平行であってもよい。このように設定することにより光の未到達部分が減少し未硬化の樹脂を減少させることができる。
図13は、キャップ部材の高さHs(キャップ高さHs)と、配線部材7と接続部材9との間の接合強度(すなわちピール強度)との関係を示したグラフである。横軸をキャップ部材の高さHsとし、縦軸をピール強度としている。横軸のキャップ部材の高さHsの単位はミリメートル(mm)、ピール強度の単位はグラム重(gf)である。
図14は、接続部材9の高さHtと、磁気センサ素子5の磁気スケール32への追随性との関係を示したグラフである。横軸は接続部材9の高さHtであり、縦軸は磁気センサ素子5の磁気スケール32への追随性、すなわち、磁気センサ素子5が磁気スケール32に良好に接触しているか(良好に接触している場合をOKとする)、磁気センサ素子5と磁気スケール32との接触が良好でないか(良好に接触していない場合をNGとする)を示している。磁気センサ素子5が磁気スケール32に良好に接触している場合、磁気センサ素子5から磁気信号の出力が良好に読み取れる。一方、磁気センサ素子5が磁気スケール32との接触が良好でない場合、磁気センサ素子5からの磁気信号の出力が著しく低下し、磁気信号の出力が読み取れない。
一方、省スペース化を図るためには、接続部材9の高さは基板13の厚さに対して、1.15倍以下であることが好ましい。
以上のことから、接続部材9の高さ/基板13の厚さは、0.85〜1.15であることが好ましいことが分かった。
さらに配線部を有しない基板であって、より厚さ精度の良い材質を使用することで、上述した基板13の厚さのばらつきが小さくなるため、より厚さ精度の良い材質からなる、配線部を有しない基板を使用することが好ましい。接続部材9の高さも基板13の厚さに対して0.9倍以上がより好ましく、さらに0.95倍以上が好ましい。また、別の態様では、基板13が配線部を有するか否かに拘わらず、接続部材9の高さ/基板13の厚さは、上記と同様、0.85〜1.15であることが好ましい。
図15(a)は、B−A寸法を説明するための図面であり、図15(b)は、B−A寸法と最大押込み量との関係を示したグラフである。最大押込み量とは、磁気センサ素子5が磁気スケール32に良好に接触した状態の最大の押込み量である。図15(b)において、横軸をB−A寸法とし、縦軸を最大押込み量とする。B−A寸法の単位は、ミリメートル(mm)であり、最大押込み量の単位はマイクロメートル(μm)である。
図16は、樹脂粘度と高さHsとの関係を示したグラフである。横軸を樹脂粘度とし、縦軸を高さとする。樹脂粘度の単位はミリパスカル秒(mPa・s)であり、高さの単位はミリメートル(mm)である。
図17(a)は、放射強度と接着強度との関係を示したグラフである。横軸を放射強度とし、縦軸を接着強度とする。放射強度の単位は、ミリワット/平方センチメートル(mW/cm2)であり、接着強度の単位はグラム重(gf)である。
樹脂としては、上記同様、紫外線硬化性エポキシ樹脂を用いた。
図18は、照射時間と接着強度との関係を示したグラフである。横軸を照射時間とし、縦軸を接着強度とする。照射時間の単位は秒(s)であり、接着強度の単位はグラム重(gf)である。照射時間が0〜3秒の領域においては、接着強度は照射時間が長くなるにしたがって上昇する(144gf(1411.2mN)から226gf(2214.8mN)まで上昇)。そして、照射時間が3〜15秒の領域では、接着強度は略一定であり220gf(2156mN)〜250gf(2450mN)の範囲に含まれる。照射時間が15〜20秒の領域では、接着強度は照射時間が長くなるにしたがって下降する(224gf(2195.2mN)から60gf(588mN)まで下降)。
図19は、印加電圧と抵抗変化率との関係を示したグラフである。横軸を印加電圧とし、縦軸を抵抗変化率とする。印加電圧の単位は、キロボルト(kV)であり、抵抗変化率の単位は、パーセント(%)である。
キャップ部材としてSUS304を使用し、板状の部材から円形状に切り抜き、接続部材の投影面上に合わせて、樹脂で接着したところ上述した実施例と同様の効果が得られた。
3 支持部材
5 磁気センサ素子
7 配線部材
9 接続部材
11 キャップ部材
Claims (16)
- 磁気センサ素子取付部を弾性的に支持する弾性部を有する支持部材と、
前記磁気センサ素子取付部に設けられた、磁界を検出し電気的に出力する磁気センサ素子と、
前記磁気センサ素子に電気的に接続された可撓性を有する配線部材と、
前記支持部材と前記配線部材とを接続する接続部材と、
前記配線部材の少なくとも上面上の、前記接続部材に対応する位置に設けられたキャップ部材と、を備え、
前記磁気センサ素子取付部と前記磁気センサ素子との間に配線部を有する基板あるいは配線部を有さない基板を有し、前記基板上に前記磁気センサ素子が設けられ、
前記接続部材の高さは、前記基板の厚さに対して、0.85倍〜1.15倍である磁気センサ。 - 前記接続部材及び/又は前記キャップ部材は樹脂である請求項1に記載の磁気センサ。
- 前記接続部材及び/又は前記キャップ部材を構成する樹脂が光硬化性樹脂である請求項2に記載の磁気センサ。
- 前記光硬化性樹脂が、紫外線硬化性樹脂である請求項3に記載の磁気センサ。
- 前記キャップ部材の高さが、0.1mm以上である請求項1〜4のいずれかに記載の磁気センサ。
- 前記磁気センサ素子と前記基板との間、及び、前記基板と前記支持部材との間に導電性樹脂層が介在し、前記磁気センサ素子の電気的に出力する端子以外の部分と前記基板とが前記導電性樹脂層により固定され、さらに前記基板と前記支持部材とが前記導電性樹脂層により固定されている請求項1に記載の磁気センサ。
- 磁気スケールと、前記磁気スケール上を相対的に摺動可能な請求項1〜6のいずれかに記載の磁気センサと、を備える磁気エンコーダ。
- 請求項7に記載の磁気エンコーダを備えるレンズ鏡筒。
- 請求項8に記載のレンズ鏡筒を備えるカメラ。
- 磁気センサ素子取付部を弾性的に支持する弾性部を有する支持部材と、前記磁気センサ素子取付部に設けられた、磁界を検出し電気的に出力する磁気センサ素子と、前記磁気センサ素子に電気的に接続された可撓性を有する配線部材と、前記支持部材と前記配線部材とを接続する接続部材と、前記配線部材の少なくとも上面上の、前記接続部材に対応する位置に設けられたキャップ部材と、前記支持部材と前記磁気センサ素子との間に、配線部を有する基板と、を備える磁気センサを作製する方法であって、
前記支持部材と前記基板とを固定し、さらに、前記基板と前記磁気センサ素子とを固定する工程と、
前記基板の配線部を介して前記磁気センサ素子と前記配線部材の配線部とを電気的に接続する工程と、
前記配線部材と前記支持部材との間に接続部材を形成する工程と、
前記接続部材に対応する位置にキャップ部材を形成する工程と、を備える磁気センサの製造方法。 - 前記接続部材を形成する工程と、前記キャップ部材を形成する工程とを、同時に行う請求項10に記載の磁気センサの製造方法。
- 前記接続部材を形成する工程及び/又は前記キャップ部材を形成する工程は、液状の樹脂を硬化させて接続部材及び/又はキャップ部材を形成する工程である請求項10又は11のいずれかに記載の磁気センサの製造方法。
- 前記樹脂は35,000(mPa・s)以上の粘度を有する請求項12に記載の磁気センサの製造方法。
- 前記接続部材を形成する工程及び/又は前記キャップ部材を形成する工程は、紫外線硬化性樹脂を用いて、紫外線を紫外線硬化性樹脂に照射して当該紫外線硬化性樹脂を硬化させ形成する工程である請求項12又は13に記載の磁気センサの製造方法。
- 前記接続部材を形成する工程及び/又は前記キャップ部材を形成する工程は、紫外線を、前記接続部材及び/又は前記キャップ部材の両側から照射する工程である請求項12〜14のいずれかに記載の磁気センサの製造方法。
- 前記磁気センサ素子の電気的に出力する端子以外の部分と前記基板とを導電性樹脂により固定し、及び、前記基板と前記支持部材とを導電性樹脂により固定する請求項10〜15のいずれかに記載の磁気センサの製造方法。
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